本发明专利技术提供一种曝光装置，其具有：光掩模（10、24），该光掩模形成有与被曝光在TFT用基板（4）的表面上的曝光图案相同形状的掩膜图案，该TFT用基板（4）被保持在载物台（8）上；透镜组装体（11、25），该透镜组装体将多个单元透镜组（15、29）排列在与光掩模（10、24）以及被保持在载物台（80）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内，单元透镜组（15、29）是在光掩模（10、24）的法线方向上配置多个凸透镜（14、28）而构成的，能够将形成在所述光掩模（10、24）上的掩膜图案的等倍正立像成像在TFT用基板(4)表面上；和移动单元（12、26），该移动单元使得该透镜组装体（11、25）在与光掩模（10、24）以及载物台（8）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内移动。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种通过光掩模对被保持在载物台上的被曝光体照射曝光用光从而曝光形成规定的图案的曝光装置，具体来说，涉及一种能够以高析像力对大面积的被曝光体的非周期性的图案进行曝光的曝光装置
技术介绍
这种的现有的曝光装置是通过光掩模对以一定速度输送的被曝光体间歇性地照射曝光用光从而在规定位置对光掩模的掩模图案进行曝光的曝光装置，其包括第I摄像单元，该第I摄像单元被配设为对所述光掩模的曝光位置、或者相比该曝光位置位于所述被曝光体的输送方向相反侧的位置进行摄像，并具有在与所述输送方向基本正交的方向上排列的多个受光元件；第2摄像单元，该第2摄像单元被配设为对所述光掩模的曝光位置、或者相比该曝光位置位于所述被曝光体的输送方向相反侧的位置进行摄像，并具有在与所述输送方向基本平行的方向上排列的多个受光兀件；使所述被曝光体以及光掩模在与所述输送方向基本正交的方向上相对移动以对该光掩模的曝光位置进行补正的校准单兀；控制单元，所述控制单元在通过所述第I摄像单元检测到预先设置在所述被曝光体上的曝光位置补正用的第I基准位置时，根据该第I基准位置控制所述校准单元的驱动，在通过所述第2摄像单元检测到预先设置在所述被曝光体上的曝光用光的照射时刻提取用的第2基准位置时，根据该第2基准位置控制所述曝光用光的照射时刻。(例如，参照专利文献I)。现有技术文献专利文献专利文献I:日本专利特开2008 - 76709号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，关于这样的现有的曝光装置，在对被曝光体(基板)曝光具有周期性的图案的情况下，只要一边朝一个方向以一定的速度输送基板一边以规定周期控制曝光用光的照射时刻就可以容易地进行，但非周期性的图案的曝光则比较困难。又，因为是使光掩模相向地靠近基板来进行曝光的曝光装置，所以由于被照射在光掩模上的光源光的视角(平行光半角)的存在，基板上的图案的像模糊不清，分辨率下降，恐怕不能曝光形成微细的图案。对于这样的问题，能够通过使用步进曝光装置来处理，该步进曝光装置利用成像透镜将光掩模的像缩小投影在基板上进行曝光，但是存在这如下的问题，即在对例如Im以上见方的大面积的基板进行曝光的情况下，所使用的透镜口径与基板的大小相对应地变大，从而导致价格变高。因此，本专利技术的目的在于提供一种解决这样的问题点的、能够以高析像力进行大面积的被曝光体的非周期性的图案的曝光的曝光装置。解决课题的手段为了达到上述目的，本专利技术的曝光装置具有光掩模，所述光掩模形成有与被曝光在被曝光体的表面上的曝光图案相同形状的掩膜图案，所述被曝光体被保持在载物台上；透镜组装体，所述透镜组装体被配设在所述光掩模和所述载物台之间，将多个单元透镜组排列在与所述光掩模以及被保持在所述载物台上的被曝光体的表面平行的面内，所述单元透镜组在所述光掩模的法线方向上配置多个凸透镜而构成，以能够将形成在所述光掩模上的掩膜图案的等倍正立像成像在所述被曝光体表面上；移动单元，所述移动单元使得所述透镜组装体在与所述光掩模以及所述载物台上的被曝光体的表面平行的面内移动。基于这样的构成，通过移动单元使得被配设在所述光掩模和所述载物台之间的、在与光掩模以及被保持在载物台上的被曝光体的面平行的面内排列有多个在光掩模的法线方向上配置多个凸透镜而构成的单元透镜组的透镜组装体在与光掩模以及载物台平行的面内移动，利用所述透镜组装体将形成在光掩模上的掩膜图案的等倍正立像成像在被保持在载物台上的被曝光体表面，将规定的图案曝光在被曝光体上。又，所述透镜组装体在其移动方向上以规定间距设置多个透镜列，所述透镜列在与所述移动方向正交的方向上以规定间距排列多个所述单元透镜组，且使相互相邻的所述 透镜列的其中一个透镜列在所述单元透镜组的排列方向上位移规定量以使得顺着所述移动方向看所述各透镜列的各单元透镜组的一部分重叠。由此，一边移动如下构成的透镜组装体一边将光掩模的掩膜图案曝光在被曝光体上，即在透镜组装体的移动方向上以规定间距设置多个透镜列，所述透镜列在与所述移动方向正交的方向上以规定间距排列多个单元透镜组，且使相互相邻的所述透镜列的其中一个透镜列在所述单元透镜组的排列方向上位移规定量以使得顺着所述移动方向看所述各透镜列的各单元透镜组的一部分重叠。进一步，所述透镜组装体构成为，与透明的基板的表面和背面相互对应地形成有多个凸透镜的第I、第2、第3以及第4透镜阵列以使对应的各凸透镜的光轴一致的形态相重叠地接合，且使得所述光掩模的掩膜图案的中间倒立像在所述第2透镜阵列和所述第3透镜阵列之间成像。由此，通过如下构成的所述透镜组装体，将形成在光掩模上的掩膜图案的等倍正立像成像在曝光体表面，所述透镜组装体构成为，与透明的基板的表面和背面相互对应地形成有多个凸透镜的第I、第2、第3以及第4透镜阵列使对应的各凸透镜的光轴一致地相重叠，且使得所述光掩模的掩膜图案的中间倒立像在所述第2透镜阵列和所述第3透镜阵列之间成像。而且，所述透镜组装体设有靠近位于所述第3透镜阵列的光的行进方向上游侧的凸透镜的表面的、具有规定形状的开口的第I光阑，将单元透镜的曝光区域限制在透镜的中央部。由此，利用透镜组装体的靠近位于所述第3透镜阵列的光的行进方向上游侧的凸透镜的表面而设置的、具有规定形状的开口的第I光阑，将单元透镜的曝光区域限制在透镜的中央部。又，所述第I光阑的开口，在俯视时为矩形形状的开口中，为了使得顺着所述透镜组装体的移动方向看与相邻的第I光阑的开口的一部分重叠的部分的面积为重叠部的整体面积的一半而形成将该矩形形状的开口的一部分遮光的形状。由此，在俯视时为矩形形状的开口中，为了使得顺着所述透镜组装体的移动方向看第I光阑的开口的与相邻的矩形形状的开口局部重叠的部分相对应的面积为重叠部的整体面积的一半，而形成将该矩形形状的开口的一部分遮光的形状，通过这样的形状的第I光阑的开口限制曝光区域，并将光掩模的掩膜图案曝光在被曝光体表面上。这时，通过在透镜组装体的移动方向先后存在的单元透镜组的重叠曝光来进行规定量的曝光。进一步，所述透镜组装体设有靠近所述第4透镜阵列的光的行进方向上游侧的透镜表面的、限制光束直径的第2光阑。由此，通过靠近设置在第4透镜阵列的光的行进方向上游侧的透镜表面上的第2光阑来限制光束直径。而且，所述载物台载置所述被曝光体，且能够向一个方向输送，所述移动单元在所述载物台的移动为停止状态时使所述透镜组装体移动。由此，使载置被曝光体且向一个方向输送的载物台暂且停止，在该停止状态下通过移动单元移动透镜组装体，从而将光掩模的掩膜图案曝光在被曝光体上。 又，在所述载物台的上方，且相对于所述光掩模在所述被曝光体的输送方向的相反侧，还具有其他的光掩模，所述其他的光掩模在形成于透明基板的一个面上的遮光膜上，在与所述被曝光体的输送方向正交的方向上以规定间隔至少排列一列地形成有多个其他的掩膜图案，以规定的时间间隔对该其他的光掩模间歇性地照射光源光，以规定周期将所述其他的掩膜图案曝光在以一定速度输送过程中的所述被曝光体上。由此，以规定的时间间隔对在载物台的上方且相对于光掩模设置在被曝光体的输送方向的相反侧的其他的光掩模间歇性地照射光源光，以规定周期将所述其他的掩膜图案曝光在以一定速度输送过程中的所述被曝光体上，所述其他光掩模在形成于透明基板的一个面上本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：水村通伸，桥本和重，畑中诚，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：
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