【技术实现步骤摘要】
次载具、次载具组件和次载具装配方法
本技术涉及一种用来装配半导体发光元件的次载具(sbumount,基座)、使用该次载具的次载具组件、和次载具装配方法。
技术介绍
近来,对于使用阿秒范围或飞秒范围中的脉冲宽度的激光的前沿科学领域中的研究人员来说,已经频繁地使用超短脉冲/超高功率激光。此外,除了对皮秒或飞秒的时标上的超快现象的科学兴趣以外,已经积极地进行了使用用于实际应用的高峰值功率的超短脉冲激光的应用研究,例如微细加工或双光子成像。此外,希望具有405nm的发光波长的由基于GaN的化合物半导体制成的高功率/超短脉冲激光二极管元件用作期望成为遵循蓝光光盘系统的下一代光盘系统的体积型光盘系统的光源,机械场、生物成像场等中必须的光源,或覆盖整个可见光范围的相干光源。作为超短脉冲/超高功率激光,例如,钛/蓝宝石激光是已知的;然而,钛/蓝宝石激光是昂贵且大的固体激光光源,这是技术传播的主要障碍。如果通过使用激光二极管或激光二极管元件来实现超短脉冲/超高功率激光,则考虑的是要实现超短脉冲/超高功率激光的尺寸、价格和能耗的大幅度减小以及超短脉冲/超高功率激光的高稳定性,从而获得促进超短脉冲/超高功率激光在这些领域中的普遍使用的突破。具有作为这种405nm波长高峰值功率的皮秒脉冲光源的全半导体结构的激光二极管装置组件典型地具有MOPA(主振荡功率放大器)构造。更具体来说,该激光二极管装置组件由产生皮秒脉冲的激光二极管和放大所产生的皮秒脉冲的半导体光学放大器(SOA,半导体激光放大器)构成。这里,光学放大器不将光学信号转换成电信号地直接放大光学信号本身,具有没有共振器的激光 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
2011.02.04 JP 2011-0225401.一种次载具,具有第一表面并允许包括波导的半导体发光元件固定在第一表面上,所述波导具有相对于所述半导体发光元件的光入射/出射端面的法线倾斜θWG度的轴线,并由具有折射率nLE的半导体材料制成,所述次载具包括:所述第一表面上的熔接材料层;以及形成于所述熔接材料层中的对准标记,允许以角度θSM=sin-1[nLE·sin(θWG)/n0]识别所述对准标记,其中,所述半导体发光元件的光入射/出射端面的外部附近的透光介质的折射率是n0,其中,所述熔接材料层具有从所述第一表面一侧按顺序包括Au层和Au-Sn合金层的层压结构,所述对准标记由形成于Au-Sn合金层中的开口构成,并且在所述开口的底部暴露Au层。2.根据权利要求1所述的次载具,其中,当将所述半导体发光元件安装在所述次载具上时,所述次载具的轴线和所述半导体发光元件的轴线彼此以θSM度相交。3.根据权利要求2所述的次载具,其中,所述熔接材料层设置有两个或多个点状对准标记,并且连接两个所述对准标记的直线与所述次载具的轴线以θSM度或(90-θSM)度相交。4.根据权利要求2所述的次载具,其中,所述熔接材料层设置有一个或多个条状对准标记,并且所述对准标记的轴线与所述次载具的轴线以θSM度或(90-θSM)度相交。5.根据权利要求1所述的次载具,其中,在面向所述第一表面的第二表面上形成粘合层,在热沉上安装所述次载具,在其之间具有粘合层,并且当在所述热沉上安装次载具时,所述次载具的轴线与所述热沉的轴线彼此以θSM度相交。6.根据权利要求5所述的次载具,其中所述熔接材料层设置有两个或多个点状对准标记,并且连接两个所述对准标记的直线与所述次载具的轴线以θSM度或(90-θSM)度相交。7.根据权利要求5所述的次载具,其中所述熔接材料层设置有一个或多个条状对准标记,并且所述对准标记的轴线与所述次载具的轴线以θSM度或(90-θSM)度相交。8.根据权利要求1所述的次载具,其中,Au-Sn合金层的投影图像包括在Au层的投影图像中。9.根据权利要求1所述的次载具,其中,允许所述对准标记与所述半导体发光元件重叠。10.根据权利要求1所述的次载具,其中,所述对准标记与所述半导体发光元件不重叠。11.根据权利要求1所述的次载具,其中,允许所述半导体发光元件的光入射/出射端面从所述次载具突出。12.根据权利要求1所述的次载具,θWG落在0.1≦θWG≦10的范围内。13.根据权利要求1所述的次载具,θWG落在2≦θWG≦6的范围内。14.一种次载具组件,包括:包括波导的半导体发光元件,所述波导具有相对于所述半导体发光元件的光入射/出射端面的法线倾斜θWG度的轴线,并由具有折射率nLE的半导体材料制成;以及允许所述半导体发光元件固定在其第一表面上的次载具,其中,所述次载具包括:所述第一表面上的熔接材料层;以及形成于所述熔接材料层中的对准标记,允许以角度θSM=sin-1[nLE·sin(θWG)/n0]识别所述对准标记,其中,所述半导体发光元件的光入射/出射端面的外部附近的透光介质的折射率是n0,其中,所述熔接材料层具有从所述第一表面一侧按顺序包括Au层和Au-Sn合金层的层压结构,所述对准标记由形成于Au-Sn合金层中的开口构成,并且在所述开口的...
【专利技术属性】
技术研发人员:渡边秀辉,幸田伦太郎,仓本大,长沼香,横山弘之,
申请(专利权)人:索尼公司,国立大学法人东北大学,
类型:发明
国别省市:
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