一种翡翠绿镀膜玻璃及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种翡翠绿镀膜玻璃及其制作方法，翡翠绿镀膜玻璃，包括玻璃基片，所述玻璃基片上依次设有氮化硅底层、氧化锌层、金属铬层或金属钛层或金属铋层、金属银层、氧化镍铬层、氧化锌保护层、氮化硅保护层及氧化钛层。其制作方法为：将离线高真空磁控溅射设备的真空度设置在10-3Pa，线速度设置为1.5-2m/min；依次在玻璃基片上真空溅射氮化硅底层、氧化锌层、金属铬层或金属钛层或金属铋层、金属银层、氧化镍铬层、氧化锌保护层、氮化硅保护层及氧化钛层。本发明专利技术的镀膜玻璃，以白玻为基片，不但降低了成本，耐磨、耐腐蚀性能良好，抗氧化性强，可以有效的控制太阳能辐射，而且制得的镀膜玻璃的a*可以达到≤-40。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种玻璃及其制作方法，更具体的说涉及一种利用白玻制作的低辐射翡翠绿玻璃及制作方法。
技术介绍
目前，翡翠绿低辐射镀膜玻璃的制作，一般都是采用绿玻为基片生产的，成本十分高昂，于是人们开始采用价格低廉的白玻为基片生产镀膜的翡翠绿玻璃，专利申请号为CN200910027354. 4、申请日为2009年05月31的中国专利技术专利公开了一种离线浅绿色低辐射镀膜玻璃及其制备方法，其采用白玻为基片，在其上一次真空溅射多个功能层，但是，首先其制得的玻璃的颜色为浅绿色而不是翡翠绿，其次其制得的玻璃的a*值< -8，与以绿玻为基片制得的产品a*值相比差别不大。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有技术的不足之处，提供，其以白玻为基片，制作出来的镀膜玻璃a* ( -40。为了解决上述技术问题，本专利技术的技术方案如下一种翡翠绿镀膜玻璃，包括玻璃基片，所述玻璃基片上依次设有氮化硅底层、氧化锌层、金属铬层或金属钛层或金属铋层、金属银层、氧化镍铬层、氧化锌保护层、氮化硅保护层及氧化钛层。作为优选，所述玻璃基片的厚度为6-10mm,所述氮化娃底层的厚度为75_83nm,所述氧化锌层的厚度为25-33nm，所述金属铬层或金属钛层或金属铋层的厚度为6_8nm，所述金属银层的厚度为4. 6-5. lnm，所述氧化镍铬层的厚度为13_16nm，所述氧化锌保护层的厚度为35-43nm，所述氮化硅保护层的厚度为71_79nm，所述氧化钛层的厚度为9_llnm。作为优选,所述玻璃基片的厚度为6mm。作为优选,所述氮化娃底层的厚度为77nm,所述氧化锌层的厚度为26nm,所述金属铬层或金属钛层或金属铋层的厚度为7nm，所述金属银层的厚度为4. 8nm，所述氧化镍铬层的厚度为14nm，所述氧化锌保护层的厚度为37nm，所述氮化硅保护层的厚度为73nm，所述氧化钛层的厚度为9nm。一种翡翠绿镀膜玻璃的制作方法，包括以下步骤 a):将6-10_厚度的玻璃基片按照预定的尺寸切割成块并清洗干净，然后将离线高真空磁控溅射设备的基础真空度设置在10_3Pa，线速度设置为I. 5-2m/min ； b):将切割后的玻璃基片输送进镀膜室中，设置第一离线高真空磁控溅射设备的功率为105-115KW，在玻璃基片上溅射第一层75-83nm的氮化硅底层； c):设置第二离线高真空磁控溅射设备的功率为22-24KW，在玻璃基片上溅射第二层25-33nm的氧化锌层； d):设置第三离线高真空磁控溅射设备的功率为4.0-4. 5KW，在玻璃基片上溅射第三层6-8nm金属铬层或金属钛层或金属铋层；e):设置第四离线高真空磁控溅射设备的功率为5.1-6. OKW，在玻璃基片上溅射第四层4.6-5. Inm的金属银层； f):设置第五离线高真空磁控溅射设备的功率为7-9KW，在玻璃基片上溅射第五层13-16nm的氧化镍铬层； g):设置第六离线高真空磁控溅射设备的功率为26-32KW，在玻璃基片上溅射第六层35-43nm的氧化锌保护层； h):设置第七离线高真空磁控溅射设备的功率为99-103KW，在玻璃基片上溅射第七层71-79nm的氮化硅保护层； i):设置第八离线高真空磁控溅射设备的功率为57-61KW，在玻璃基片上溅射第八层9-1 Inm的氧化钛层。作为优选，所述步骤a)中，所述玻璃基片厚度为6mm ； 所述步骤b)中，设置第一离线高真空磁控溅射设备的功率为104KW，在玻璃基片上溅射第一层77nm的氮化娃底层； 所述步骤c)中，设置第二离线高真空磁控溅射设备的功率为23KW，在玻璃基片上溅射第二层26nm的氧化锌层； 所述步骤d)中，设置第三离线高真空磁控溅射设备的功率为4. 2KW，在玻璃基片上溅射第三层7nm金属铬层或金属钛层或金属铋层； 所述步骤e)中，设置第四离线高真空磁控溅射设备的功率为5. 5KW，在玻璃基片上溅射第四层4. 8nm的金属银层； 所述步骤f)中，设置第五离线高真空磁控溅射设备的功率为7. 5KW，在玻璃基片上溅射第五层14nm的氧化镍铬层； 所述步骤g)中设置第六离线高真空磁控溅射设备的功率为26KW，在玻璃基片上溅射第六层37nm的氧化锌保护层； 所述步骤h)中，设置第七离线高真空磁控溅射设备的功率为101KW，在玻璃基片上溅射第七层73nm的氮化娃保护层； 所述步骤i )中，设置第八离线高真空磁控溅射设备的功率为59 Kff,在玻璃基片上溅射第八层9nm的氧化钛层。作为优选，所述步骤a)中，线速度设置为I. 5-1. 7m/min。作为优选，所述步骤a)中，线速度设置为I. 5m/min。作为优选，所述步骤b)-步骤i)之间是持续进行的。作为优选，所述步骤a)中，玻璃基片切割后利用超声波及去离子水清洗。本专利技术有益效果在于 本专利技术的翡翠绿镀膜玻璃，以白玻为基片，不但降低了成本，耐磨、耐腐蚀性能良好，抗氧化性强，可以有效的控制太阳能辐射，而且其以特定的镀层材料、特定的镀层层数、特定镀层间的顺序安排以及特定镀层的厚度设置，使制得的镀膜玻璃呈现翡翠绿色且其a*值(-40。附图说明 图I为本专利技术一种翡翠绿镀膜玻璃的结构示意图。具体实施例方式以下所述仅为本专利技术的较佳实施例，并非对本专利技术的范围进行限定。实施例1，见附图I，一种翡翠绿镀膜玻璃，包括玻璃基片1，玻璃基片为白玻，制作工艺简单，价格低廉，所述玻璃基片I上依次设有氮化硅(SiNx)底层2、氧化锌层(Zn0x)3、金属铬(Cr)层或金属钛(Ti)层或金属秘(Bi)层4、金属银(Ag)层5、氧化镍铬(NiCrOx)层6、氧化锌(ZnOx)保护层7、氮化娃(SiNx)保护层8及氧化钛(TiOx)层9。所述玻璃基片I的厚度为6mm，所述氮化硅底层2的厚度为75nm，所述氧化锌层3的厚度为25nm，所述金属铬层或金属钛层或金属铋层4的厚度为6nm，所述金属银层5的厚度为4. 6nm，所述氧化镍铬层6的厚度为13nm，所述氧化锌保护层7的厚度为35nm，所述氮化硅保护层8的厚度为71nm，所述氧化钛层9的厚度为9nm。一种翡翠绿镀膜玻璃的制作方法，包括以下步骤 a):将6_厚度的玻璃基片按照预定的尺寸切割成块并清洗干净，然后将离线高真空磁控溅射设备的基础真空度设置在10_3Pa，线速度设置为I. 5m/min ;玻璃基片切割后利用超声波及去离子水清洗； b):将切割后的玻璃基片输送进镀膜室中，设置第一离线高真空磁控溅射设备的功率为105KW，在玻璃基片上溅射第一层75nm的氮化硅底层2 ； c):设置第二离线高真空磁控溅射设备的功率为22KW，在玻璃基片上溅射第二层25nm的氧化锌层3 ； d):设置第三离线高真空磁控溅射设备的功率为4.0KW，在玻璃基片上溅射第三层6nm金属铬层或金属钛层或金属铋层4 ； e):设置第四离线高真空磁控溅射设备的功率为5.1KW，在玻璃基片上溅射第四层4.6nm的金属银层5 ； f):设置第五离线高真空磁控溅射设备的功率为7KW，在玻璃基片上溅射第五层13nm的氧化镍铬层6 ； g):设置第六离线高真空磁控溅射设备的功率为26KW，在玻璃基片上溅射第六层35nm的氧化锌保护层7 ； h):设置第七离线高真空本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：姚联根，陈海平，杨德兵，屠松柏，
申请(专利权)人：联海国际玻璃技术有限公司，
类型：发明
国别省市：