一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法技术

本发明专利技术提供一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法，先选择基底材料；在基底表面旋涂牺牲层，其厚度为d1；在牺牲层上沉积平面多层膜，包括可用于激发表面等离子体的金属膜层和介质膜层，多层膜的厚度为d2；在多层膜上旋涂一层光刻胶，其厚度为d3；在光刻胶上曝光，显影得到所需大小的半圆形结构；将半圆形结构刻蚀转移到多层膜上，形成多层半圆形结构；在多层半圆形结构上沉积曲面多层膜，其厚度为d4；在曲面多层膜上沉积一层铬膜，膜厚为d5；在铬膜上进行开缝，缝宽为d6，间距为d7；在铬膜层上选用粘连剂粘连一块石英片；将基底和石英片泡在丙酮溶液内，通过溶解牺牲层来去掉基底材料。本发明专利技术的透镜可以实现图形的超分辨缩小成像。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及透镜制备的
，具体涉及一种平面像场超分辨成像透镜制备方法，其为一种制备曲面-平面缩小倍率超分辨成像透镜的方法。
技术介绍
基于近场光学原理的超分辨成像透镜因不受衍射极限限制，能够传输高频信息、分辨半波长以下图形，具有广阔的应用前景，如生物医学探测、纳米光刻、实时动态成像等领域。 缩小倍率超分辨成像透镜特点在于利用光波在曲面结构中传播实现物面到像面光场的尺寸变化，所以缩小倍率成像首先是利用物面和像面均为曲面结构的透镜实现的。但是，这种结构使得成像的有效面积减小、成像质量不高，并且难以与现有成像系统结合，造成使用价值不高。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服现有曲面缩小倍率超分辨成像透镜不足之处，提供，该方法只需要常规的涂胶、光刻和工艺镀膜，就可以制备出物面为曲面、像面为平面的缩小倍率超分辨成像透镜，拓展了现有缩小成像技术应用范围。本专利技术解决其技术问题采用的技术方案是，包括下列步骤步骤(I)、选择平整的基底；步骤(2)、在基底表面旋涂牺牲层，牺牲层的厚度为Cl1 = 3 5um，并在100 150°C条件下烘30 150分钟。控制牺牲层的表面平整度彡5n本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，王长涛，赵泽宇，冯沁，王彦钦，高平，罗云飞，黄成，杨磊磊，陶兴，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：