【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一类性能优良的新型表面活性剂的合成，尤其涉及一种二聚含四硅氧烷糖基表面活性剂的合成，属于精细化工中含硅表面活性剂的合成
技术介绍
二聚表面活性剂是由两个疏水基和两个亲水头基在亲水基或靠近亲水基附近通过联接基团(Spacer)以化学键相连而成的表面活性剂。与经典单链表面活性剂相比，二聚表面活性剂具有以下几个特征 (I)高表面活性；与经典表面活性剂相比，二聚表面活性剂有极低的cmc和很强的降低表面张力的能力。二聚表面活性剂的cmc比经典单链表面活性剂要低1-2个数量级。(2)丰富的相行为在很多二聚表面活性剂体系中会出现预胶束(Premicellaraggregation)，通常会表现为在表面张力曲线中出现两个拐点值。一些二聚表面活性剂可自发形成囊泡。(3) 二聚表面活性剂在一些应用性能如润湿性、增溶性、分散性以及起泡能力等方面都优于传统单头单尾表面活性剂。二聚表面活性剂最早出现于1971年，但真正兴起始于1991年，Menger等将所合成的双烷基链双头基表面活性剂命名为二聚表面活性剂，形象表述了此类表面活性剂的结构特征(Menger, F....
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王国永，杜志平，王万绪，张威，台秀梅，王俊伟，
申请(专利权)人：中国日用化学工业研究院，
类型：发明
国别省市：
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