用于美容RF皮肤处置的装置，其中，RF能量供应与所处置的患者隔离，从而在处置的过程中，不期望的电流不流经受试者身体。
【技术实现步骤摘要】
本方法和装置通常涉及皮肤处置程序，特别涉及美容皮肤表面重修和复原程序。
技术介绍
部分皮肤表面重修或复原是近来开发的皮肤消融技术。存在着用于消融皮肤的两种类型的设备基于激光的设备和基于RF的设备。这两种类型的设备都消融具有极小直径的浅孔或浅区的图案。孔是被未处置的皮肤区域包围的在显微镜下的小处置区。处置导致非常迅速的愈合或恢复以及所处置的皮肤的表面重修。在处置区的愈合过程中，出现新的皮肤层，恢复新鲜、年轻的肤色。小孔的图案典型地由X-Y扫描激光束或通过RF能量或电压的施加而产生。激光聚焦于皮肤上，并且，通常以脉冲模式工作，从而消融皮肤中的微米尺寸的孔。基于RF的部分皮肤处置产生与激光相似的皮肤中的微米尺寸的孔的扫描图案。 典型地，能量由施加器递送至皮肤，该施加器由布置成矩阵或阵列的多个电压至皮肤施加/ 递送元件或接触元件的顶端装备。电压至皮肤施加元件放置为与将被处置的皮肤段接触， 并且，由合适的功率和频率的RF能量源驱动。向电极施加高压RF脉冲将相应电极下面的皮肤消融形成小孔。在某些实例中，尽管基于个体的经验可能因受试者而异，这样，痛觉可能因受试者而异，激光或RF电压脉冲的施加还是对所处置的受试者引起不适且甚至疼痛。在其他实例中，在相同的处置会话由施加器形成的微米的孔的大小可能存在着差异。较大尺寸的孔的愈合可能花费比较小尺寸的孔的愈合过程更长的一段时间，并且，在某些实例中，较大的孔可能倾向于导致引起对皮肤的损伤，而不是产生期望的皮肤效果。为了缓和不适并减少疼痛以及与部分处置相关联的其他副作用，实践者开始使用外敷的利多卡因乳膏或甚至口服镇静剂。部分皮肤处置可应用于诸如老化痕迹、皱纹、变色、痤疮瘢痕、纹身去除以及其他皮肤缺陷的几乎所有美容皮肤缺陷的校正中。基于RF的产品的成本低于利用激光辐射来操作的产品，并且，如果能够消除与其使用相关联的不适和偶尔疼痛，则基于RF的产品很可能广泛使用。相同受让人的美国专利申请公布No. 2006/0047281和美国专利申请公布 No. 2009/0299361公开基于RF的产品，例如适合于部分皮肤处置的eMatrixTM
技术实现思路
词汇在本公开的背景下，“RF电压”和“RF能量”可交换地使用并具有相同的意思。这两个参数之间的数学关系是众所周知的，并且，参数之一的知识允许容易地确定另一个。在本公开的背景下，“皮肤电阻”和“皮肤阻抗”可交换地使用并具有相同的意思。 这两个参数之间的数学关系是众所周知的，并且，参数之一的知识允许容易地确定另一个。如在本公开中使用的术语“期望的皮肤效果”意指RF能量施加的结果，该结果可以是除皱、脱毛、胶原收缩或破坏、皮肤复原以及其他美容和皮肤处置。术语函数的“稳定水平”是函数具有恒定值的域的一部分。简要总结一种用于美容RF皮肤处置的装置，其中，RF能量供应与所处置的受试者隔离，从而在处置的过程中，不期望的电流不流经受试者身体。装置包括施加器，施加器具有顶端， 该顶端由多个电压施加的圆顶形状的元件和电极的集群填充，该电压施加的圆顶形状的元件从顶端表面突起并组织成一个共同的集群，该电极的集群约束圆顶形状元件，并且，具有大于圆顶形状元件的面积。装置将具有足以引起期望的皮肤效果的大小的电压施加至元件。限流器限制RF感应电流，从而防止皮肤损伤。装置连续地感测所处置的皮肤段的阻抗， 并且，在低的皮肤阻抗时改变RF能量以及/或者在太低或太高的皮肤阻抗的情况下停止脉冲。附图说明统称为图I的图IA和图IB是用于部分皮肤处置的现有技术的RF施加器顶端的示意性图解说明；图2是用于驱动用于部分皮肤处置的RF施加器顶端的现有技术的RF电压供应电路的示意性图解说明；图3A至图3C是用于部分皮肤处置的顶端的等效电路的示意性图解说明；图4是用于部分皮肤处置驱动电路的本顶端的示范性实施例的示意性图解说明；图5是用于部分皮肤处置驱动电路的本顶端的另一示范性实施例的示意性图解说明；图6是RF能量脉冲的施加下的皮肤电阻变化的示意性图解说明；图7是用于部分皮肤处置控制电路的本顶端的示范性实施例的示意性图解说明；图8是用于部分皮肤处置的本RF施加器顶端的示范性实施例的示意性图解说明。具体实施例方式参考附图和在图中显示的非限制性的、示范性的实施例的附随的描述，可以更好地理解方法和装置的原理和实行。对图I进行参考，图I是相同受让人的美国专利申请公布No. 2009/0299361中公开的用于部分皮肤处置的现有技术的RF施加器顶端的示意性图解说明。载体100可以是具有O. 5密耳至6密耳(12. 5微米至150微米)的示范性厚度范围的由聚酰亚胺薄膜或类似的材料制成的柔性或刚性的物品，在该载体100上形成电压至皮肤递送元件或接触元件。本公开的背景下的术语“载体”意指具有电压至皮肤施加元件的阵列、电压至皮肤施加元件的二维阵列或矩阵的基体。基体104在其表面112之一上具有微型(微观)离散电压至皮肤施加元件116的阵列或矩阵，该元件从表面112突起并以圆顶型形状120终止。布置在基体104的背侧或第二侧上的以折线显示的导体124和128的图案实现对所有元件 116、一个集群的元件116或单独地对每个元件116进行寻址。在其上形成有电压至皮肤递送元件的载体100配置为允许快速附接至施加器，并且，在本文献中被叫作“顶端”或“施加器顶端”。通过在载体104的背侧上形成与在基体104中相应的接触布置连通的接触点或接触带108，从而提供实现连接至射频电压源的RF接触的布置。电压至皮肤递送元件116 以对称图案布置，所有偶数排124连接至RF供应接触带或端口 124中的一个，而所有奇数排128连接至另一个或第二接触带或RF供应端口 128。图2是用于驱动RF施加器顶端以进行部分皮肤处置的现有技术的RF电压供应电路的示意性图解说明。RF电压源200可以位于独立壳体204中。可替代地，RF电压源可以位于以折线显示的施加器外壳208中。该源通过屏蔽线束220而将RF电压提供至施加器顶端212，特别是提供至电压至皮肤递送元件216。屏蔽体224以折线和点线示意性地显示。 线束220的长度被选择为实现方便的照顾者操作，并且，可以是例如一至两米长。在屏蔽体 224以及RF电流导线240和244的每个之间存在有某个寄生电容232和236。所处置的受试者还具有某个电容248。对于皮肤处置，顶端212放置为与将被处置的皮肤段228接触。 作为被组织成偶数排124和奇数排128或集群的电压至皮肤递送元件216与将被处置的该皮肤段228的不均匀接触的结果，可能形成不期望的RF电流路径252。该电流通过受试者 228，并且，可能引起痛觉，甚至引起对受试者的电击。图3是与所处置的该皮肤段接触的用于部分皮肤处置的顶端212的等效电路的示意性图解说明。图3A示意性地显示顶端212，位于顶端212的奇数排1、3、5和7中的所有接触元件330共同地标记为302并显示为连接至RF电压源306的第一 RF端口，并且，位于偶数排2、4、6和8中的所有接触元件共同地标记为310并显示为连接至RF电压源306的第二 RF端口。所有接触元件都与例如具有相对较低的电导率的角质层的上皮肤层320接触， 其中，数字324标记真皮层以及与角质层本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：Y·O·阿达尼，G·纳赫肖恩，B·莱维纳，A·罗森贝格，
申请(专利权)人：赛诺龙医疗公司，
类型：发明
国别省市：
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