发光模块制造技术

本实用新型专利技术涉及一种发光模块，包含一光源及一导光板；导光板包含入光面、出光面及反射面；光源朝入光面发光；出光面上平行且间隔地配置有多个线性立体单元；反射面包含多个第一微结构网点群及一第二微结构网点群；此些第一微结构网点群分别对准此些线性立体单元；各第一微结构网点群系由多个第一网点所组成，第一网点之亮度影响变量例如密度分布、深度及口径，是随着第一网点与第一入光面之距离大小成正比；第二微结构网点群是由多个第二网点所组成。此些第二网点不同于第一网点，其亮度影响变量系随着第二网点与第一入光面之距离大小成正比；本实用新型专利技术的有益效果是：可改善导光板出光面非预期的线性亮纹，均匀化导光板出光面的出光亮度。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种发光模块，尤其涉及该发光模块的结构。
技术介绍
现阶段之发光模块中，含有线性凹沟或凸条之微结构图案在导光板系统中，其一面间隔地配置有多个线性凹沟或凸条之微结构图案(如ν或us)。由于导光板发光时，出光面对应各线性凹沟或凸条之位置，会显示出多条对应之线性亮纹，导致出光面整体之出光不均勻，必须使用更多的光学覆盖片来弥补，相当耗费材料成本，有待加以进一步改良。为此，若能提供一种发光模块的设计，可满足上述之需求，或至少为具有此缺陷提供一种解决之道，即成为亟待解决之一重要课题。
技术实现思路
本技术需要解决的技术问题是提供了一种发光模块，旨在解决上述的问题。为了解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的本技术包括一第一光源；以及一导光板；所述的导光板包括一出光面；该出光面包括多个线性立体单元平行且间隔地配置于该出光面上；一反射面；该反射面与该出光面相互对立；一第一入光面；该第一入光面介于该出光面及该反射面之间，且该第一光源朝该第一入光面发光；多个第一微结构网点群；该多个第一微结构网点群分别充分地位于该些线性立体单元对应于该反射面之一垂直投影位置内，每一该些第一微结构网点群是由多个第一网点所组成，该些第一网点包括多种第一亮度影响变量，该些第一亮度影响变量至少其中之一是随着该些第一网点与该第一入光面之距离大小成正比；以及一第二微结构网点群；该第二微结构网点群位于该反射面上除了该些第一微结构网点群之其它区域，该第二微结构网点群是由多个第二网点所组成，该些第二网点包括多种第二亮度影响变量，该些第二亮度影响变量至少其中之一是随着该些第二网点与该第一入光面之距离大小成正比，该第一微结构网点群的该些第一网点不同于该第二微结构网点群的该些第二网点。与现有技术相比，本技术的有益效果是可改善导光板出光面非预期的线性亮纹，均勻化导光板出光面的出光亮度。附图说明第IA图绘示本技术发光模块于一实施例下之侧视图。第IB图绘示第IA图之发光模块之俯视图。第IC图绘示第IA图之发光模块之仰视图。第2A图是绘示第IC图沿2-2剖面线于一变化下之剖面图。第2B图是绘示第IC图沿2-2剖面线于另一变化下之剖面图。第2C图是绘示第IC图沿2-2剖面线于又一变化下之剖面图。第3A图是绘示第IC图沿3-3剖面线于一变化下之剖面图。第;3B图是绘示第IC图沿3-3剖面线于另一变化下之剖面图。第3C图是绘示第IC图沿3-3剖面线于又一变化下之剖面图。第4A图是绘示第IC图沿4-4剖面线于一变化下之剖面图。第4B图是绘示第IC图沿4-4剖面线于另一变化下之剖面图。第4C图是绘示第IC图沿4-4剖面线于又一变化下之剖面图。第5A图绘示本技术发光模块于另一实施例下之侧视图。第5B图绘示第5A图之发光模块之俯视图。第5C图绘示第5A图之发光模块之仰视图。第6A图是绘示第5C图沿6-6剖面线于一变化下之剖面图。第6B图是绘示第5C图沿6-6剖面线于另一变化下之剖面图。第6C图是绘示第5C图沿6-6剖面线于又一变化下之剖面图。第6D图是绘示第5C图沿6-6剖面线于又一变化下之剖面图。第6E图是绘示第5C图沿6-6剖面线于又一变化下之剖面图。第6F图是绘示第5C图沿6-6剖面线于又一变化下之剖面图。第7A图绘示本技术发光模块于又一实施例下之侧视图。第7B图绘示第7A图之发光模块之俯视图。第7C图绘示第7A图之发光模块之仰视图。第8A图是绘示第7C图沿8-8剖面线于一变化下之剖面图。第8B图是绘示第7C图沿8-8剖面线于另一变化下之剖面图。第8C图是绘示第7C图沿8-8剖面线于又一变化下之剖面图。第8D图是绘示第7C图沿8-8剖面线于又一变化下之剖面图。第8E图是绘示第7C图沿8-8剖面线于又一变化下之剖面图。第8F图是绘示第7C图沿8-8剖面线于又一变化下之剖面图。第9图绘示本技术发光模块于再一实施例下之仰视图。第IOA图-第IOD图绘示本技术发光模块之线性立体单元之多种外型变化示意图。具体实施方式以下结合附图与具体实施方式对本技术作进一步详细描述本技术所提供之一种发光模块，包含一第一光源及一导光板。导光板包含一第一入光面、一出光面、一反射面、多个第一微结构网点群及一第二微结构网点群。出光面包含多个线性立体单元平行且间隔地配置于出光面上。反射面与出光面相互对立。第一入光面介于出光面及反射面之间，且第一光源朝第一入光面发光。第一微结构网点群分别充分地位于线性立体单元对应于反射面之一垂直投影位置内。各第一微结构网点群是由多个第一网点所组成，第一网点包含多种第一亮度影响变量，第一亮度影响变量至少其中之一是随着第一网点与第一入光面之距离大小成正比。第二微结构网点群位于反射面上除了第一微结构网点群之其它区域。第二微结构网点群是由多个第二网点所组成，第二网点包含多种第二亮度影响变量，第二亮度影响变量至少其中之一是随着第二网点与第一入光面之距离大小成正比。第一微结构网点群之第一网点不同于第二微结构网点群之第二网点。请参照第IA图至第IC图所示，第IA图绘示本技术发光模块100于一实施例下之侧视图；第IB图绘示第IA图之发光模块100之俯视图；以及第IC图绘示第IA图之发光模块100之仰视图。本技术之一实施例中，发光模块100包含一第一光源200及一导光板300。第一光源200例如是发光二极管灯条(LED light bar)，包含多个发光二极管组件(图中未示)。导光板300包含相互对立之一出光面320及一反射面330 (第IA图)，以及环绕其出光面320与反射面330之多个侧边，其中任一侧边的面积小于出光面320或反射面330之面积，且介于出光面320及反射面330之间。其中一侧边可当作一第一入光面310，以使第一光源200配置于第一入光面310之一旁，而可供朝第一入光面310发光。出光面320上平行且间隔地配置有多个线性立体单元321。线性立体单元321于此实施例中是呈凹沟，然而，本技术于此实施例中并不限线性立体单元为凸条或凹沟。线性立体单元321具有一垂直落差V，即凸条之垂直最高高度或凹沟之垂直最深深度。此些线性立体单元321共同之一长轴走向(X轴方向)与该第一入光面310之长轴走向(Y轴方向)成正交，且各线性立体单元321之一垂直落差V皆一致。导光板300更包含多个第一微结构网点群400及一第二微结构网点群500(第IC图)。此些第一微结构网点群400分别充分地遍布于此些线性立体单元321对应于反射面330之一垂直投影位置330P内。各第一微结构网点群400系由多个第一网点410所组成。此些第一网点410具有多种第一亮度影响变量，亮度影响变量意指可影响反射光线于反射面330之亮度的因子。此些第一亮度影响变量其中之一是随着第一网点410与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第一网点410与第一入光面310之距离越大，此第一亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大。第一亮度影响变量之种类例如包含此些第一网点410在反射面330上之分布密度、深度及口径。请参照第2A图所示，第2A图是绘示第IC图沿2_2剖面线于一变化下之剖面图。此些第一网点410在反射面330上所呈现出之分布密度是随着第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：叶钧皓，
申请(专利权)人：苏州向隆塑胶有限公司，
类型：实用新型
国别省市：