【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种功能材料,或/和用于磁性传感器的材料及其制备方法,确切讲本专利技术是一种可在百兆赫兹以下出现明显巨磁阻抗效应的纳米量级材及制备方法。
技术介绍
巨磁阻抗效应(GMI)是对通有高频交流电的软磁材料施加一个外磁场,其薄膜的交流阻抗随外磁场发生巨大变化的特征。近些年,随着物联网技术的迅速发展,在汽车电子、机器人技术、生物工程、自动化控制等领域急需一些新型的、小型的、高性能的和响应快的新型磁敏传感器件来监测磁场、速度、转速、位移、扭矩等等。目前使用最为广泛的磁敏传感器为霍尔传感器,但是其弱的输出信号好较差的温度稳定性,使其灵敏度受到较大的限制。而利用各向异性磁电阻效应制备的AMR传感器的输出信号只有2% _4%,其磁场灵敏度小于/Oe0近来,利用巨磁电阻效应制备的GMR传感器的信号变化可达80%以上,因此GMR传感器可以获得更高的信号输出,但GMR传感器也有一个缺点是驱动磁场相对而言较高(3000e以上),其磁场灵敏度也在-2% /Oe0 1992年的一些研究发现的巨磁阻抗效应,在弱磁场下具有非常高的灵敏度,其磁场灵敏度达2% -300% /Oe,比A ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
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