大入射角CWDM薄膜滤光片制造技术

本实用新型专利技术公开了一种大入射角CWDM薄膜滤光片。大入射角CWDM薄膜滤光片，包括基板（1），基板（1）的一面设有正面膜系（2），另一面设有反面膜系（3），所述的基板(1)采用厚度为1毫米玻璃为基板，其表面平面度为光圈N＜3，局部光圈ΔN＜0.4，表面光洁度B＝III；所述的正面膜系（2）为基于9个法布里-珀罗串联；所述的反面膜系(3)为增透膜。本实用新型专利技术通过膜层的材料、厚度和串联方式的选择，较好的解决了在大角度入射时普通CWDM滤光片波形变形大的问题，此类滤光片可实现minCWDM模块组装。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种滤光片，具体是指一种大入射角CWDM薄膜滤光片。
技术介绍
薄膜滤光片，又分为薄膜吸收滤光片和薄膜干涉滤光片两种。前者是在特定材料基材上，用化学浸蚀或真空蒸镀方法形成单层薄膜，使本征吸收线正好位于需要的波长处。 后者是在一定片基上，用真空镀膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金属-介质-金属膜，或全介质膜，构成一种低级次的、多级串联实心法布里-珀罗干涉仪。 目前，市场上的滤光片普遍存在着峰值透射率不高或者是次峰跟旁带问题严重的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于避免现有技术中的不足而提供一种在大角度入射时候，曲线仍然透过率极高，透射插损小于0. 2dB,实现min CffDM模块组装的大入射角CWDM薄膜滤光片。本技术的目的通过以下技术方案实现大入射角CWDM薄膜滤光片，包括基板，基板的一面设有正面膜系，另一面设有反面膜系，所述的基板采用厚度为1毫米玻璃为基板，其表面平面度为光圈N < 3，局部光圈ΔΝ< 0.4，表面光洁度B = III ；所述的正面膜系为基于9个法布里-珀罗串联HLHL H6LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL .........HLHL H8LHLHLHL HLHL H6LHLHLHL0. 2356H1. 3526L ；所述的反面膜系为增透膜，增透膜的膜层结构如下权利要求1. 一种大入射角CWDM薄膜滤光片，包括基板(1)，基板(1)的一面设有正面膜系(2)， 另一面设有反面膜系(3)，其特征在于所述的基板(1)采用厚度为1毫米玻璃为基板，其表面平面度为光圈N < 3，局部光圈ΔΝ &lt; 0. 4，表面光洁度B = III ；所述的正面膜系(2)为基于 9 个法布里-珀罗串联HLHL H6LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL .........HLHL H8LHLHLHLHLHL H6LHLHLHL0. 2356H1. 3526L，L表示厚度为λ 0/4五氧化二钽膜层，H表示厚度为 λ 0/4 二氧化硅膜层，中心波长λ 0 = 1470-1610纳米；所述的反面膜系(3)为增透膜，增透膜的膜层结构如下专利摘要本技术公开了一种大入射角CWDM薄膜滤光片。大入射角CWDM薄膜滤光片，包括基板(1)，基板(1)的一面设有正面膜系(2)，另一面设有反面膜系(3)，所述的基板(1)采用厚度为1毫米玻璃为基板，其表面平面度为光圈N＜3，局部光圈ΔN＜0.4，表面光洁度B＝III；所述的正面膜系(2)为基于9个法布里-珀罗串联；所述的反面膜系(3)为增透膜。本技术通过膜层的材料、厚度和串联方式的选择，较好的解决了在大角度入射时普通CWDM滤光片波形变形大的问题，此类滤光片可实现minCWDM模块组装。文档编号B32B9/04GK202275170SQ201120299249公开日2012年6月13日 申请日期2011年8月17日 优先权日2011年8月17日专利技术者王鹏飞, 范卫星, 赵战刚 申请人:奥普镀膜技术(广州)有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：范卫星，赵战刚，王鹏飞，
申请(专利权)人：奥普镀膜技术广州有限公司，
类型：实用新型
国别省市：