粉碎的源材料的处理方法技术

矿石、矿物、精矿、烧渣或回收尾矿等形式的原材料在搅拌磨中进行细磨，此搅拌磨装有可在充满研磨介质的研磨室内转动的叶轮。原材料的浆液基本连续地送入研磨室的入口，并流过研磨室而从出口流出，入口处于较低部位，而出口方便地做成溢流式。载体液体可以是浸取液和／或起氧化作用的空气或氧气，在细磨进行中可以送入物料中。使用本方法以氰化物浸取液为载体液体可以实现金的高回收。（*该技术在2008年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。进行这种细磨的目的，一般是回收贵重金属或只是从它的源材料制备磨细产品，这些源材料可以是原生矿石或矿物、精矿、烧渣(Calcine)或回收尾矿(此后本文统称“源材料”(TheSourclmaterial))。使用细磨技术，“源材料”绝大部分的颗粒尺寸将减小，因而可以促进源材料颗粒中所需贵重金属的溶解，或者可以使这种源材料适于用作其它目的，如制备烧结物或陶瓷材料。本专利技术也涉及适于实施本专利技术方法的具体设备。众所周知，把材料磨细成更小的颗粒并继之用适合的浸出液(在金的情况下，通常用氰化物浸出液)浸取，就可以促进某些源材料中贵重金属(尤其是金)的溶解，这些源材料例如黄铁矿、砷黄铁矿、硅石和其它难选材料。这是由于物理包囊的金属(尤其是金)部分得以释放和因而可以浸出。源材料磨得越细，可浸出的金属就释放得越多。但显然带来的问题是由于细磨的费用，使源材料再磨细是不经济的。另一方面，象锆石砂这样的再细分材料也可以细磨成更细，但这是为了用这些磨细材料制造烧结物或陶瓷。现已令人惊异地发现，如果在某些条件下进行细磨以及可采用的浸取，则强化的效果就可以达到。根据本专利技术，提供一种细磨源材料(如本文所限定)的方法，其中将再细分源材料和液体载体一起，基本连续地送入搅拌磨的第一区，此搅拌磨装有在研磨室内转动的叶轮，研磨室内充满研磨介质，磨细的源材料与液体载体一起，从与搅拌磨第一区隔开一定距离的第二区排出。本专利技术的进一步特征为细磨是从源材料中回收贵重金属方法的组成部分;为从源材料中浸出或氧化贵重金属和其它组分，载体液体就是或含有浸出或氧化介质;研磨介质是钢或陶瓷(特别是氧化锆材料)制成的球形、园柱形、多角形或不规则形状的研磨元件;氧化或浸出所需的氧气或其它气体，与浸出液或载体液或与二者一起，在搅拌磨的第一区引入;待回收的金属包括金和载体液体包括氰化物浸出液或铅盐或汞盐。叶轮可绕垂直或水平轴转动，而且在每种情况下，载体液体和再细分源材料最好是从较低区域引入和从较高区域排出。这样可以抵消固体向较低区域沉落的倾向。实施本方法使源材料的颗粒大小一般可90%减到20μm以下，最好100%减到20μm以下，而更好为90%减到5-10μm。显然大部分颗粒的尺寸都可明显减小，申请人认为颗粒大小为3μm或更低也可以达到。本专利技术还提供一种搅拌磨，它包括在使用时容纳分离的元件形式的研磨介质的研磨室;安装在研磨室内的转动叶轮;使用时驱动叶轮的装置;在研磨室较低区域引入待磨源材料颗粒浆液的入口和配置在研磨室顶部较高区域的出口。本专利技术在这方面的进一步特征为出口为溢流式出口装置;溢流出口装置装有为保持研磨元件在研磨室内的筛网和叶轮的转动轴可以是垂直的、水平的或倾斜的。为达到产品的所需细度，显然可选择载体液体的流速，以保证再细分源材料在磨中所需的仃留时间。此后本文中，无论是源材料还是产品的细度，都用术语dx加以讨论，其中x是材料中小于所说尺寸的颗粒所占的百分比。因此，标定值d50＝20μm的含义是占50%质量的试样的颗粒大小为20μm或更低，标定值d90＝20μm的含义是占90%质量的试样的颗粒大小为20μm或更低。可以予计，本专利技术方法特别适于从最难选(refractory)矿石和精矿中，以及从经过予先提取的尾矿中回收黄金。细磨最好在含浸出液(用氰化物最适直)的载体液体中进行。本专利技术也可以有利地用于这样的过程，即在此过程中，在研磨期间正被研磨的材料，同时受到其它化学试剂(特别是氧化剂)的作用。这种应用的一种情况是含金的黄铁矿、磁黄铁矿或白铁矿的精矿，在这种情况下研磨中释放的铁与硫也进入溶液。这将消耗氰化物(如果它存在的话)，因此材料应先在碱性PH下通过空气或氧的作用方便地进行氧化(同时方便地进行研磨)，然后，再与氰化钠接触(在研磨之后)。本专利技术的另一专门应用是，氧化锆用于制造烧结物或陶瓷之前，进行细磨。的确，在本专利技术的应用中，氧化锆研磨介质是最为理想的。下面将参照附图，对本专利技术及其应用或实施例进行深入的描述。附图中附图说明图1为根据本专利技术所使用的搅拌磨的说明示意图;和图2为用于试验目的的中间规模的细磨装置的流程示意图。如图1所示，搅拌磨1包括一研磨室2，其中叶轮4的基本垂直的轴3，可由马达和变速箱组成的装置6带动旋转，叶轮上装有一系列向外伸出的搅拌杆或盘5。研磨室充满研磨介质7，研磨介质可以是球形、园柱形、多角形或不规则形状的钢制或陶瓷的研磨元件。至今所进行的试验中，已使用过钢制和陶瓷(氧化锆)的磨球。在研磨室的底部或底部侧面有浆液入口8，使用时浆液由进料泵9经入口泵入。需要时，可设置气体入口10，通过例如氧气、空气或任何其它气体以促进溶解过程或有助于减小氰化物的消耗或二者兼而有之。在研磨室上端侧壁上装置一圈护网11，使研磨的浆液仅当溢流时可以离开研磨室，而同时保留住研磨介质不外溢。在入口所通过的截面处，设置支托网12，以保持研磨介质不下漏。在中等规模的研磨机进行的试验中，研磨室直径450mm、高900mm、体积150升。支托网12孔眼2mm，护网11的卡方孔为1.2mm×20mm。研磨介质是钢球(尽管有几批试验是使用氧化锆球)，其洛氏硬度为58C，其大小分布如下直径小于8.5mm占89%直径小于3.97mm占9%直径小于2.38mm占2%共有15对长400mm的搅拌杆，它们相邻杆呈90°角交错排佈最大转速2.6米/秒。比研磨机含有470kg的磨球，其毛体积为120升，净有效体积49升。对于某些含金的源材料所进行的试验，是使用氰化物浸出液作载体液体，并使用Ca(OH)2来保持适合的高PH值。这些试验是按图2所示的流程进行的，其中从料斗13将烧渣(早先已用氰化物浸取，即没有可易于浸出的金存留)加到混合槽14中，同时加入氰化钠、石灰和水。固体的质量含量为50%的浆液，连续地送入前述的搅拌磨15中，试验的几个停留时间为15.7、9.0和6.3分钟。操作条件如下 在细磨产物稀释到固体质量含量为35%之后，再继续24小时的的浸取。对于d90、d50、和d10分别等于76.0、20.8和5.9μm的烧渣的试验表明，产物的大小分布如下 可以看出，金的溶解正如所予期的随着停留时间而增加。另外，从源材料(一般是指高难选材料)也可以实现良好的回收。本专利技术同样可用于细磨处理过矿石的现存废料(dumps)和从处理这样的废料所得的浓缩物/产物，以进一步回收其中的贵重金属。在这样的细磨中，已回收了大约50%的残留的黄金。在粗烧渣的情况下，在研磨期间配合浸取，可从中回收73%的黄金。已发现，处理这类源材料时，研磨中配合浸取是非常有利的。认为这是由于，在研磨机中研磨介质的作用下相继发生了物理的、化学的及至电化学的效应，使得在金表面存在的任何钝化作用立即消除。另外氧气或空气经由气体入口的引入，也加快了浸出速度，并减小氰化物的消耗。一般说来，产品的颗粒大小至少95%是低于20μm，通常，大部份颗粒具有实质上更小的尺寸。在含有黄铁矿、磁黄铁矿和白铁矿的硫化物精矿的情况下，氰化物由于有硫和铁的溶解而被正常地消耗。这是可以避免的，只需利用氧或空气在细磨期间对这样一些组分进行一定程度的氧化并且尔后再进行浸取，这种氧化一般要在高PH(约12)下进行，这样的PH值可以加入适量的Ca本文档来自技高网...

【技术保护点】
细磨源材料（如本文中所限定）的方法，其中，将再细分源材料和液体载体一起，基本连续地送入搅拌磨的第一区，此搅拌磨装有在研磨室内转动的叶轮，研磨室内充满研磨介质，磨细的源材料与液体载体一起，从与搅拌磨第一区隔开一定距离的第二区排出。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：丹尼斯爱德华埃文斯，基思斯图尔特利德尔，
申请(专利权)人：梅特普罗科技太平洋私人有限公司，
类型：发明
国别省市：AU[澳大利亚]