一种多孔射流对撞均质器制造技术

本实用新型专利技术涉及一种多孔射流对撞均质器，包括均质座、均质环和均质杆，所述均质座上端中部设有沉孔，均质座下端设有环形凹槽，沉孔底端面在环形凹槽顶端面下方，沉孔与环形凹槽之间通过两相互垂直的通孔连通，通孔一端在靠近环形凹槽顶部处，另一端在靠近沉孔底部处；所述均质座上端套在均质环内，均质环内套有均质杆，均质座顶端与均质杆一端接触。本实用新型专利技术的有益效果：通过对流体的多次撞击，在不增加流体压力的情况下极大地提高了均质效果；在一定程度上节约能源，降低能耗，节约了成本，有利于产品的推广。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种流体均质装置，尤其涉及一种多孔射流对撞均质器。技术背景目前市场上的均质器由均质座、均质环和均质杆组成，其均质座中部设有通孔；加工时高压流体进入通孔并撞击封在通孔顶部的均质杆，从而实现对流 体的均质与乳化。这种结构的均质器在流体压力较小等使得流速较慢时的均质 效果较差，难以满足均质需求，不利于产品推广。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种多孔射流对撞均质器，克服了现有均质器均 质效果差的不足。本技术的目的是通过以下技术方案来实现一种多孔射流对撞均质器，包括均质座、均质环和均质杆，所述均质座上 端中部设有沉孔，均质座下端设有环形凹槽，沉孔与环形凹槽之间通过若干通 孔连通；所述均质座上端套在均质环内，均质环内套有均质杆，均质座顶端与 均质杆一端接触。本技术所述的多孔射流对撞均质器的有益效果为通过对流体的多次 撞击，在不增加流体压力的情况下极大地提高了均质效果；在一定程度上节约 能源，降低能耗，节约了成本，有利于产品的推广。附图说明下面根据附图和实施例对本技术作进一步详细说明。图1是本技术所述的多孔射流对撞均质器的结构示意图；图2是本技术所述的多孔射流对撞均质器的均质座的A-A视图；图3是本技术所述的多孔射流对撞均质器的另一均质座实施例的A-A 视图。图中1、均质座；2、均质环；3、均质杆；4、沉孔；5、环形凹槽；6、通孔。具体实施方式如图l-2所示，本技术所述的多孔射流对撞均质器，包括均质座l、均 质环2和均质杆3,所述均质座1上端中部设有沉孔4,均质座1下端设有环形 凹槽5，沉孔4底端面在环形凹槽5顶端面下方，沉孔4与环形凹槽5之间通 过两相互垂直的通孔6连通，通孔6—端在靠近环形凹槽5顶部处，另一端在 靠近沉孔4底部处；所述均质座1上端套在均质环2内，均质环2内套有均质 杆3,均质座1顶端与均质杆3—端"t妄触。如图3所示，本技术所述的多孔射流对撞均质器，所述均质座l的沉 孔4与环形凹槽5之间:没有四个相互垂直的通孔6,沉孔4顶部通过通孔6与 环形凹槽5底部连通。本技术所述的多孔射流对撞均质器，在使用时高压流体由均质座1的 环形凹槽5进入与其垂直方向的通孔6，再由通孔6进入与其垂直的沉孔4，沉 孔4内的高压流体继续向上移动撞击均质座1顶端的均质杆3并将其撞开流体 流出均质座1。在流体移动过程中经过了两次以上的强力撞击，提高流体的均 质效果。权利要求1、一种多孔射流对撞均质器，包括均质座(1)、均质环(2)和均质杆(3)，所述均质座(1)上端套在均质环(2)内，均质环(2)内套有均质杆(3)，均质座(1)顶端与均质杆(3)一端接触，其特征在于均质座(1)上端中部设有沉孔(4)，均质座(1)下端设有环形凹槽(5)，沉孔(4)与环形凹槽(5)之间通过若干通孔(6)连通。专利摘要本技术涉及一种多孔射流对撞均质器，包括均质座、均质环和均质杆，所述均质座上端中部设有沉孔，均质座下端设有环形凹槽，沉孔底端面在环形凹槽顶端面下方，沉孔与环形凹槽之间通过两相互垂直的通孔连通，通孔一端在靠近环形凹槽顶部处，另一端在靠近沉孔底部处；所述均质座上端套在均质环内，均质环内套有均质杆，均质座顶端与均质杆一端接触。本技术的有益效果通过对流体的多次撞击，在不增加流体压力的情况下极大地提高了均质效果；在一定程度上节约能源，降低能耗，节约了成本，有利于产品的推广。文档编号B01F5/02GK201168576SQ20082010748公开日2008年12月24日 申请日期2008年3月28日 优先权日2008年3月28日专利技术者赵国庆 申请人:赵国庆本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多孔射流对撞均质器，包括均质座（１）、均质环（２）和均质杆（３），所述均质座（１）上端套在均质环（２）内，均质环（２）内套有均质杆（３），均质座（１）顶端与均质杆（３）一端接触，其特征在于：均质座（１）上端中部设有沉孔（４），均质座（１）下端设有环形凹槽（５），沉孔（４）与环形凹槽（５）之间通过若干通孔（６）连通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵国庆，
申请(专利权)人：赵国庆，
类型：实用新型
国别省市：13[中国|河北]