拒水膜形成用组合物、带拒水膜的基体及其制造方法以及运输机械用物品技术

本发明专利技术提供可形成具有良好的水滴除去性且兼具耐磨损性和耐候性的拒水膜的拒水膜形成用组合物，具有由该拒水性形成用组合物形成的水滴除去性、耐磨损性、耐候性良好的拒水层的带拒水膜的基体及其制造方法以及运输机械用物品。本发明专利技术提供包含具有含醚氧键的含氟有机基团的特定的有机硅烷化合物、具有不含醚氧键的含氟有机基团的特定的有机硅烷化合物作为主要成分的拒水膜形成用组合物，及具有基体和位于所述基体的表面的将由该拒水膜形成用组合物形成的拒水层配置在最外层的拒水膜的带拒水膜的基体以及由该基体形成的运输机械用物品。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及可形成兼具水滴的附着少且附着的水滴容易除去的性质(以下将它们称为水滴除去性)、耐磨损性、耐候性的拒水膜的拒水膜形成用组合物，具有由该拒水膜形成用组合物形成的拒水膜的带拒水膜的基体及其制造方法以及由该带拒水膜的基体形成的运输机械用物品。
技术介绍
一直以来，在各种
中，非常希望能够赋予基体的表面以水滴除去性。为了赋予基体表面以水滴除去性，提出有例如由含氟硅烷化合物和二甲基硅氧烷化合物形成的拒水处理剂(参照专利文献1)、由含氟硅烷化合物和烷基硅烷化合物形成的拒水膜被覆用组合物(参照专利文献2)。此外，通过上述拒水处理剂等处理了的拒水性物品中，例如对于运输输送领域中所使用的物品，除了水滴除去性之外，还非常希望赋予耐磨损性和耐候性。为了赋予拒水性物品以耐磨损性，提出有例如将含氟代烷基硅烷和四乙氧基硅烷的涂布溶液通过流涂法涂布并使膜厚一定的拒水被膜的形成方法(参照专利文献幻，在拒水膜中含氧化镁、氧化钙、 氧化锶、氧化硼的拒水膜被覆物品(参照专利文献4)。此外，为了赋予拒水性物品以耐候性，提出有例如包含具有水解性甲硅烷基的光稳定剂的被覆用组合物(参考专利文献5)。 另外，为了在基体的表面形成兼具水滴除去性和耐磨损性、耐候性的表面处理层，提出有含具有醚氧键的含氟有机基团与硅结合的硅烷化合物的拒水性组合物(参考专利文献6)。但是，专利文献1和专利文献2所记载的技术中，二甲基硅氧烷化合物和烷基硅烷化合物的耐磨损性低，存在拒水性物品的耐磨损性不足的问题。此外，专利文献3所记载的技术中，存在不易在大面积的条件下使膜厚一定而量产性不佳的问题以及长期使用时表面形状变化的情况下的水滴除去性容易下降的问题。另外，专利文献5所记载的技术中，存在实际使用中光稳定剂劣化而效果无法长期持续、水滴除去性容易下降的问题。因此，希望有水滴除去性良好且兼具耐磨损性和耐候性的拒水性物品，特别是可适用于运输机械的拒水性物品。在先技术文献专利文献专利文献1 日本专利特许第32观085号公报专利文献2 日本专利特开2002-256258号公报专利文献3 日本专利特许第3342170号公报专利文献4 :W02001-009266号公报专利文献5 日本专利特开2003-138210号公报专利文献6 日本专利特开2002-2^838号公报专利技术的概要专利技术所要解决的课题本专利技术的目的在于提供可形成具有良好的水滴除去性且兼具耐磨损性和耐候性的拒水膜的拒水膜形成用组合物。此外，本专利技术的目的还在于提供具有由该拒水性形成用组合物形成的水滴除去性、耐磨损性、耐候性良好的拒水层的带拒水膜的基体及其制造方法以及运输机械用物品。解决课题的手段本专利技术是为了解决上述课题而完成的专利技术，具有以下的构成。本专利技术的拒水膜形成用组合物的特征在于，包含下述化合物(A)和化合物(B)，或者包含以下述通式(Ia)表示的化合物和/或其部分水解缩合物与以下述通式Oa)表示的化合物和/或其部分水解缩合物的部分水解共缩合物；化合物㈧选自以下述通式(Ia)表示的化合物、其部分水解缩合物和以下述通式(Ib)表示的化合物的至少1种不含醚性氧的含氟有机硅化合物；Rfl-Y-Si (R11)r (X1)3I …(Ia)权利要求1.拒水膜形成用组合物，其特征在于，包含下述化合物(A)和化合物(B)，或者包含以下述通式(Ia)表示的化合物和/或其部分水解缩合物与以下述通式Oa)表示的化合物和 /或其部分水解缩合物的部分水解共缩合物；化合物(A)选自以下述通式(Ia)表示的化合物、其部分水解缩合物和以下述通式 (Ib)表示的化合物的至少1种不含醚性氧的含氟有机硅化合物；2.如权利要求1所述的拒水膜形成用组合物，其特征在于，所述组合物中的以/ X 100表示的相对于化合物(A)和化合物(B)的总质量的化合物(B)的质量百分比为10 90质量％ ；其中，组合物包含部分水解共缩合物时，所述质量百分比是对于部分水解共缩合反应产物部分用水解共缩合反应前的化合物(A)和化合物(B)的量计算的质量百分比。3.如权利要求1或2所述的拒水膜形成用组合物，其特征在于，所述通式(Ia)和通式 (Ib)中的Rfl为可具有环结构的碳数3 8的碳-碳原子间不含醚性氧原子的全氟烷基。4.带拒水膜的基体，它是具有基体、位于所述基体的至少一部分表面的拒水膜的带拒水膜的基体，其特征在于，所述拒水膜由1层以上构成，且在最外层具有使用权利要求1 3中的任一项所述的拒水膜形成用组合物形成的拒水层。5.如权利要求4所述的带拒水膜的基体，其特征在于，所述拒水膜在所述基体与所述拒水层之间还具有以二氧化硅为主体的中间层。6.如权利要求5所述的带拒水膜的基体，其特征在于，所述中间层为使用包含选自以下述通式( 表示的化合物、其部分水解缩合物和全氢聚硅氮烷的至少1种化合物(C)的中间层形成用组合物形成的层；Si(X3)4 ... (3)式(3)中，X3分别独立地表示卤素原子、烷氧基或异氰酸酯基。7.如权利要求6所述的带拒水膜的基体，其特征在于，所述中间层形成用组合物还包含所述化合物(A)，或者包含以所述通式C3)表示的化合物和/或其部分水解缩合物与以所述通式(Ia)表示的化合物和/或其部分水解缩合物的部分水解共缩合物来代替所述化合物(C)，所述组合物中的以/ X 100表示的相对于化合物(A)和化合物(C)的总质量的化合物(A)的质量百分比为5 70质量％ ；其中，组合物包含部分水解共缩合物时，所述质量百分比是对于部分水解共缩合反应产物部分用水解共缩合反应前的化合物(A)和化合物(C)的量计算的质量百分比。8.如权利要求4 7中的任一项所述的带拒水膜的基体，其特征在于，所述拒水膜表面的通过X射线光电子能谱装置测定的/峰值比为0.1 10.0。9.如权利要求4 8中的任一项所述的带拒水膜的基体，其特征在于，所述拒水膜表面的通过X射线光电子能谱法(ESCA)测定的Fls/Si2p的峰值比为1.5 7.0，通过扫描型探针显微镜(SPM)测定的表面粗糙度Ra为0. 1 5. Onm。10.权利要求4 9中的任一项所述的带拒水膜的基体的制造方法，其特征在于，包括下述工序在所述基体表面或者预先形成于所述基体表面的所述拒水膜中构成最外层的下层的层的表面涂布权利要求1 3中的任一项所述的拒水膜形成用组合物，使其固化而形成拒水层。11.权利要求5 9中的任一项所述的带拒水膜的基体的制造方法，其特征在于，包括 在基体表面涂布所述中间层形成用组合物，使其固化而形成以二氧化硅为主体的中间层的工序；在所述中间层的表面涂布权利要求1 3中的任一项所述的拒水膜形成用组合物，使其固化而形成拒水层的工序。12.运输机械用物品，其特征在于，由权利要求4 8中的任一项所述的带拒水膜的基体形成。全文摘要本专利技术提供可形成具有良好的水滴除去性且兼具耐磨损性和耐候性的拒水膜的拒水膜形成用组合物，具有由该拒水性形成用组合物形成的水滴除去性、耐磨损性、耐候性良好的拒水层的带拒水膜的基体及其制造方法以及运输机械用物品。本专利技术提供包含具有含醚氧键的含氟有机基团的特定的有机硅烷化合物、具有不含醚氧键的含氟有机基团的特定的有机硅烷化合物作为主要成分的拒水膜形成用组合物，及具有基体和位于所述基体的表本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：岸川知子，竹田洋介，伊藤敦史，米田贵重，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：