一种有机硅阴离子表面活性剂及其合成方法技术

一种有机硅阴离子表面活性剂及其合成方法，其结构通式如右式：该有机硅阴离子表面活性剂合成方法为：合成氨烃基聚硅氧烷，经缩合反应将氨烃基聚硅氧烷引入亲水基。本发明专利技术的优点是所用的原料易得，价格低廉，反应条件简单易行，收率较高，易于工业化生产。该表面活性剂具有乳化，分散，润湿，抗静电，消泡，稳泡，起泡，柔软、滑爽等性能，可用于日化、食品、生物工程、轻工、纺织、石油化工、电子、医药、农药等领域。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种新型的有机硅阴离子表面活性剂及其合成方法，特别涉及的是磺酸型的阴离子表面活性剂及其合成方法。有机硅表面活性剂具有优良的性能，其疏水基团是烷基硅氧烷链组成，具有比碳氢链类表面活性剂更强的表面活性；在同等浓度的溶液中，具有更低的表面张力。这样的特殊结构还赋予硅氧烷表面活性剂具有硅化物的耐高低温性，耐老化性，平滑性，涂平性，无毒无腐蚀性，生理惰性等特征；又和碳氢表面活性剂一样，具有乳化性，分散性，润湿性，抗静电性，消泡，稳泡，起泡等性能。随着硅氧烷的合成化学技术以及配方技术的发展，有机硅表面活性剂在目化、食品、生物工程、轻工、纺织、石油化工、电子、医药、农药等领域中起着重要的作用。有机硅表面活性剂在表面活性剂大多数是非离子的聚醚改性的聚硅氧烷，其通式为(CH3)3SiOm-n-Si(CH3)3，R聚醚链，m＝5-400，n＞1，(如德国专利DE1444555)，而阴离子型有机硅表面活性剂却较少，但其使用范围较广。阴离子型有机硅表面活性剂其中包括羧酸型，磺酸型，硫酸型，磷酸酯型等，它们可以通过带不饱和健的碳氢化合物相应酯与含氢硅油的硅氢加成反应得到；如也可以通过丙烯酸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机硅阴离子表面活性剂，其特征在于具有如下的结构通式： ＊＊＊ 式中：ｍ＝１０－２０００，ｎ＝１－２００ Ｒ＝ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＮＨＺ ＣＨ↓［２］ＮＨＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＮＨＺ ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＮＨＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＮＨＺ （ＣＨ↓［２］）↓［３］ＮＨＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＮＨＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＮＨＺ Ｚ＝ＣＨ↓［２］ＣＨＯＨＣＨ↓［２］ＳＯ↓［３］Ｍ Ｃ↓［２］Ｈ↓［４］ＳＯ↓［３］Ｍ ＣＨ↓［２］ＣＨＯＨＣＨ↓［２］ＯＰＯ↓［３］Ｍ ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：夏建俊，王利民，田禾，龚荣蓉，王志斌，
申请(专利权)人：上海制皂有限公司，华东理工大学，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]