本发明专利技术的目的是提供一种能配置在笔状的细长结构物上的光扫描装置及激光指标器。光扫描装置具备光源、从上述光源照射的光所透过的透镜、使通过了透镜的光反射的反射部件、以及用于扫描由上述反射部件反射的光的反光镜，上述光扫描装置使上述反光镜摇动而向与上述光的照射方向相同的方向射出上述光，上述反射部件具备朝向上述光源侧的第一反射面、以及朝向上述光的出射面侧的第二反射面，上述光源和上述透镜在该光扫描装置的外壳的长度方向上并列地配置，上述反光镜和上述反射部件在上述外壳的宽度方向上并列地配置。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光扫描装置及搭载了该光扫描装置的激光指标器，该光扫描装置具备光源、从上述光源照射的光所透射的透镜、使通过了上述透镜的光反射的反射部件、以及用于扫描由上述反射部件反射的光的反射镜，并且上述光扫描装置使上述反射镜摇动使上述光朝向与上述光的照射方向相同的方向射出。
技术介绍
一直以来，存在如下的光扫描装置利用具有使从光源照射的激光反射的反射镜的光MEMS (光微电子机械系统Micro Electro Mechanical Systems)使激光反射来对图像进行投影。在现有的光扫描装置中，一般是将光MEMS所具有的反射镜与激光的出射面相对地配置。图8是表示现有的光扫描装置的构成的例子的图。图8(A)所示的光扫描装置10 具备箱体11内的LD (激光二极管=Laser Diode) 12、透镜13、光MEMS14、以及偏光棱镜15。 在光扫描装置10中，光MEMS14所具有的反射镜配置在与从LD12照射的激光的出射面相对的位置上。图8(B)所示的光扫描装置IOA取代偏光棱镜15具有反射镜16。在光扫描装置 IOA中，光MEMS14所具有的反光镜也是配置在与激光的出射面相对的位置上。图8 (C)所示的光扫描装置IOB与光扫描装置IOA同样，光MEMS14所具有的反射镜也是配置在与激光的出射面相对的位置上。另外，在专利文献1中记载了反射镜位于与激光的出射面相对的位置上的激光指标器。在例如将现有的光扫描装置用于激光指标器等的场合，期望使装置整体小型化。 但是，在将上述的反射镜配置在与激光的出射面相对的位置上的构成的场合，很难将光扫描装置放入例如笔状的细长的结构物中。专利文献专利文献1 特开2000-275573号公报
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述情况为解决上述问题而进行的专利技术，目的在于提供一种能够配置在笔状的细长的结构物中的光扫描装置及激光指标器。为了实现上述目的，本专利技术采用了以下的构成。本专利技术是一种光扫描装置100、100A，具有光源120、从上述光源120照射的光所透过的透镜130、使通过了上述透镜130的光反射的反射部件150、以及用于扫描由上述反射部件150反射的光的反光镜141，并且上述光扫描装置使上述反光镜141摇动向与上述光的照射方向相同的方向射出上述光，上述反射部件150具备朝向上述光源120侧的第一反射面151 ；以及朝向上述光的出射面160侧的第二反射面152，上述光源120和上述透镜130在该光扫描装置的外壳110的长度方向上并列地配置，上述反光镜141和上述反射部件150在上述外壳110的宽度方向上并列地配置。另外，本专利技术的光扫描装置具备结构体140，该结构体一体形成有上述反光镜 141、使上述反光镜141摇动的机构、以及控制上述反光镜的摇动的半导体电路，上述结构体140和上述透镜130在上述外壳110的宽度方向上重叠地配置。另外，就本专利技术的光扫描装置而言，将上述第一反射面151和上述第二反射面152 中的任一个做成半透半反镜，并且具有将透过了上述半透半反镜的来自上述光源120的光进行受光的受光元件 170。另外，本专利技术的光扫描装置具有用于调整上述光源120与上述透镜130的位置关系的调整机构，上述调整机构含有形成于与上述外壳110的长度方向相同的方向且能使收放上述透镜130的透镜架131在与上述光的照射方向相同的方向上滑动的导向部件132。另外，在本专利技术的光扫描装置中，上述导向部件132是V字形的槽部132。另外，本专利技术的光扫描装置具有用于调整上述光源120与上述透镜130的位置关系的调整机构，上述调整机构含有在收放上述光源120的光源架121上能在与上述光的照射方向大致正交的方向上进行调整的架保持构件122。另外，在本专利技术的光扫描装置中，上述架保持构件122能够在与上述光的照射方向相同的方向上调整上述光源架121的位置。另外，在本专利技术的光扫描装置中，上述架保持构件122含有在上述光源架121上形成于上述外壳110的宽度方向的两端部的凹部。本专利技术涉及一种在圆筒状的箱体内装配有上述记载的任一个的光扫描装置100、 100A的激光指标器。另外，上述参照符号是为了便于理解而附加的，只不过是一例，并不受限于图示的方式。本专利技术的效果如下。根据本专利技术，能够提供一种配置在笔状的细长结构物上的光扫描装置。 附图说明图1是说明第一实施方式的光扫描装置的构成的第一图。图2是说明第一实施方式的光扫描装置的构成的第二图。图3是说明光MEMS的图。图4是说明第一实施方式的光扫描装置所具备的调整机构的第一图。图5是说明第一实施方式的光扫描装置所具备的调整机构的第二图。图6是说明光量监控器用的受光元件的图。图7是说明第二实施方式的光扫描装置的图。图8是表示现有的光扫描装置的构成的例的图。图中100U00A-光扫描装置；110-外壳；120-LD ；130-透镜；140-光 MEMS ；150-反射镜；151、152-反射面；160-出射面具体实施例方式在本专利技术中，在光扫描装置的框体的长度方向上配置光源和透镜，在箱体的宽度方向上配置反光镜和反射部件，由反射部件使激光反射并向反光镜入射，再次由反射部件使来自反光镜的反射光反射，向框体的长度方向射出激光。(第一实施方式)以下参照附图说明本专利技术的实施方式。图1是说明第一实施方式的光扫描装置的构成的第一图。图I(A)是表示光扫描装置100的图，图I(B)是去除了外壳的光扫描装置的分解图。本实施方式的光扫描装置100是用于例如利用激光对图像进行投影的激光指标器等的光扫描装置。本实施方式的光扫描装置100具备激光二极管(以下称为LD) 120 透镜130 ；光MEMS反射镜140 ；以及反射镜150，除了 LD120以外都收放在外壳110中。本实施方式的LD120收放在LD架121中，LD架121固定在外壳110上。另外，本实施方式的透镜130收放在透镜架131中，透镜架131收放在外壳110中。在光扫描装置100中，以LD120和透镜130并列在外壳110的长度方向(以下称为Z1-Z2方向)上的方式配置LD架121和透镜架131。另外，在本实施方式的光扫描装置 100中，光MEMS反光镜140和反射镜150在外壳110的宽度方向(以下称为Y1-Y2方向) 上并列地配置。LD120是照射激光的光源。从LD120照射的激光透过透镜130并由反射镜150反射。由反射镜150反射后的激光被设于光MEMS反射镜140的反射镜141反射，再次由反射镜150反射，从出射面160射出。图2是说明第一实施方式的光扫描装置的构成的第二图。在本实施方式的光扫描装置100中，光MEMS反光镜140所具有的反光镜141的反光镜面朝向与激光的出射面160 大致正交的方向配置。光MEMS反光镜140所具有的反光镜141是用于扫描激光的反光镜。 光MEMS反光镜140的构成将后述。在本实施方式的光扫描装置100中，LD120和透镜130与外壳110的长度方向大致平行地配置，光MEMS反光镜140和反射镜150与外壳110的宽度方向大致平行地配置。本实施方式的反射镜150为三角柱状，具有反射面151和反射面152。反射面151 朝向LD120侧形成，反射面152朝向出射面160侧形成。在本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：田中丰树，西山隆彦，
申请(专利权)人：三美电机株式会社，
类型：发明
国别省市：
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