【技术实现步骤摘要】
本专利技术是有关一种组合式化学过滤网结构，尤其是指一种由单元体间 活动堆栈组设，而该单元体内设有至少一个吸附装置，该吸附装置内设有 吸附剂，而由抽换单元体的吸附装置而可更换吸附剂，使具自由搭配吸附 剂种类、更换吸附剂而可重复使用及可视空间需求以活动堆栈组设，而适io用于电子制造业的无尘室如集成电路(Integrated Circuit, IC)、薄膜晶 体管(Thin Film Transistor, TFT)、半导体制造业的无尘室或类似场地。
技术介绍
随着半导体技术不断进步，集成电路(Integrated Circuit, IC)工艺线 15 径不断的縮小，最新进的半导体技术己进入45nm，未来将更进一步地跨 入22及32nm工艺技术，也由于IC线径不断的縮小，因此外部空气或无 尘室内中含微污染(Airborne Molecular Contamination, AMC)物质，例如 含硫物质SOx 、 H2S 、 DMSO(Dimethyl Sulfoxide ， (CH3)2SO)、 DMS(Dimethyl Sulfide ， (CH3)2S)等，酸性物...
【技术保护点】
一种组合式化学过滤网结构，该组合式化学过滤网结构由复数个单元体相互活动结合而成，该单元体包括： 一单元框，该单元框设有至少一开口；以及 至少一吸附装置，该吸附装置与单元框互相活动结合，而该吸附装置包括有一支撑结构、至少二滤网及吸 附剂，而该支撑结构的二外侧各结合有滤网，该吸附剂充填于该二滤网与支撑结构所形成的容置空间内； 当该吸附装置吸附饱满时，活动拆离该单元体而抽换该吸附装置而以利重复更换使用。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：郑石治，林哲弘，陈寿忠，徐瑞珠，刘邦昱，洪守铭，
申请(专利权)人：华懋科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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