测距装置、透镜系统以及摄影装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种测距装置、透镜系统以及摄影装置。该测距装置根据三角测距的原理测定到达由摄影装置摄影的被摄影体的距离，该测距装置具有测定单元，该测定单元将到达上述被摄影体的距离的能够测距的最远距离设为不小于上述摄影装置的超焦距的最大值的1/2。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及能够安装于具有自动焦点调节功能的摄影装置中的测距装置、具备该测距装置的透镜系统以及摄影装置。
技术介绍
在摄影装置的自动焦点调节中进行的步骤大致分类为焦点检测步骤和焦点调节步骤这二个步骤。在焦点检测步骤中，为了得到高精度的被摄影体信息，有时使用从摄影装置中独立出来的测距装置。该测距装置有的为了进行焦点检测而利用三角测距的原理。在三角测距的原理中，有利用对象物所发出的光进行焦点检测的无源型、和通过检测从装置侧向对象物投射的光的反射而进行测距的有源型。另一方面，在焦点调节步骤中，根据上述焦点检测的结果进行光学系统的聚焦。这样，在摄影装置的自动焦点调节中，为了高精度地检测被摄影体信息，需要与摄影系统分开设置测距系统。因此，在摄影装置中，由于与摄影系统分开搭载测距系统，从而产生了摄影装置整体大型化等状况。以往，针对这样的状况提出有如下方案将测距传感器和测光传感器配置在同一基板上，并且，将独立地设置的多个测距透镜和测光透镜一体形成的测距/测光装置(例如，参照日本特开2004-U863号公报)。另外，将包含测距透镜的测距光学系统作为成像系统，将包含测光透镜的测光光学系统作为非成像系统。根据该测距/测光装置，即使将测距光学系统和测光光学系统构成为一个装置，也能够进行高精度的测距、测光，并且能够实现小型化、低成本化。在上述以往技术中，通过提供如下所述的测距装置(或者测光装置)而实现了小型化，该测距装置(或者测光装置)缓和了由于测距透镜和测光透镜成为一体构造而产生的光学性的限制、测光透镜的必要视场角对测距透镜的限制。另外，通过缓和与上述小型化相伴的限制，测距/测光的精度也得以实现。不过，测距装置的精度必须与搭载该测距装置的摄影装置的变焦镜头侧所要求的聚焦精度对应。但是，在基于上述以往技术的测距装置中，不容易满足与该变焦镜头侧所要求的聚焦精度对应的测距规格。
技术实现思路
本专利技术就是鉴于这样的状况而提出的，提供一种满足与摄影装置的变焦镜头侧所要求的聚焦精度对应的测距规格的测距装置。本专利技术提供一种测距装置，根据三角测距的原理测定到达由摄影装置拍摄的被摄影体的距离，其特征在于具有测定单元，该测定单元将到上述被摄影体的距离的能够测距的最远距离设为不小于上述摄影装置的超焦距的最大值的1/2。根据该结构，能够通过上述测距装置得到能在摄影装置的整个变焦区域中聚焦的测距精度。另外，上述测定单元具有一对透镜和一对传感器，该一对传感器通过上述一对透4镜分别形成上述被摄影体的像，在设上述摄影装置的超焦距的最大值为H、上述一对透镜的焦距为fs、由上述一对透镜的光轴间的距离确定的基线长度为Is、上述传感器的位移量的最小分辨率为ds时， 优选满足下式的条件。0. 06 ^ (H · ds)/(2 · Is · fs)彡 2. 5. · · (1)其中，H= fit2/( δ · Fnot)fit 摄影装置的最大焦距δ 摄影装置的散光圈(circle of confusion)Font 摄影装置的fit中的F值根据本专利技术，因为能够得到满足在具有自动焦点调节功能的摄影装置的整个变焦区域中要求的测距精度的测距装置，所以通过本专利技术的测距装置起到能够提高摄影装置的聚焦精度的效果。本专利技术的进一步的特征能够通过参照附图并结合以下典型的实施方式而加以明确。附图说明图1是无源型测距装置的概念图。图2A和图2B是表示在和摄影装置的关系中要求的无源型测距装置的测距精度的条件的概念图。图3A和图;3B是表示本专利技术的无源型测距装置的测距精度的概念图。图4是本专利技术的测距装置的实施例1的透镜的结构。图5是正交于图4的透镜基线长度的方向的各像差。图6是图4的透镜基线长度方向的各像差。图7是本专利技术的测距装置的实施例2的透镜的结构。图8是正交于图7的透镜基线长度的方向的各像差。图9是图7的透镜基线长度方向的各像差。图10是本专利技术的测距装置的实施例3的透镜的结构。图11是正交于图10的透镜基线长度的方向的各像差。图12是图10的透镜基线长度方向的各像差。具体实施例方式在本实施方式中，以下以无源型测距装置为例进行说明，但其并非意在限定于此。 因此，只要是采用三角测距的原理的装置，则也可以是有源型测距装置。图1是无源型测距装置的概念图。无源型测距装置具备测定单元，该测定单元具有一对相同规格的透镜Gl以及G2、与透镜G1、G2分别对置而并列配置的传感器S1、S2。透镜Gl和G2以各自的光轴Xl 和X2平行的方式并列配置，将光轴Xl以及X2之间的距离定义为基线长度Is。将在光轴 Xl上隔着透镜Gl而存在于与传感器Sl对置的位置上的被摄影体0的像成像在传感器Sl 以及S2上。在此，设从透镜Gl的主点位置M到被摄影体0的距离为L、透镜Gl以及透镜G2的焦距为fs、在传感器S2中所测定的成像点的位置差量为S。于是，根据三角测距的原理，被摄影体距离L通过下式赋予。L= (fs · Is)/S在上述式子中，因为焦距fs和基线长度Is为已知值，所以能够通过求相位差量S 而算出被摄影体距离L。图2是表示在和摄影装置的变焦镜头的关系中要求的无源型测距装置的测距精度条件的概念图。在图2中，设在传感器S2上在和基线长度Is水平的方向上展开的传感器S2的位移量的最小分辨率为ds。另外，设与以上述最小分辨率ds为单位移动的位移量对应的各被摄影体位置为a、b、c，设从透镜Gl的主点位置M到各被摄影体的距离为La、Lb、 Lc。在此，a是无源型测距装置的能够测距的最远距离。另外，设在各被摄影体位置上由摄影装置所要求的前景深度为32、132、(32，设后景深度为31、131、(31。在图2A中，与最小分辨率ds的上述位移量对应地，被摄影体位置a和被摄影体位置b离散地相邻。在该离散地相邻的被摄影体位置a和被摄影体位置b之间的范围内，被摄影体位置a的前景深度a2和被摄影体b的后景深度bl无间隔地连续。因此，如果是以传感器S2的最小分辨率ds为位移量的单位的情况下，即使是不能测距的被摄影体距离间， 如果从摄影装置侧看，在该连续的状态时也成为能够连续聚焦的状态。因此，如果是以上那样的结构，则能够进行精度高的聚焦。另一方面，在图2B中，在被摄影体位置a和被摄影体位置b之间的范围内，在被摄影体位置a的前景深度a2和被摄影体位置b的后景深度bl之间产生有间隔i。因此，在这种情况下，如果从摄影装置侧看，则关于存在于该间隔i的部分的被摄影体成为不能聚焦的区域。因此，如果成为这样的结构，则高精度的聚焦变得困难。根据图2(1)以及(2)可知，为了设定测距精度高的条件需要满足以下的式子。a2+hl ^ La-Lh上述无源型测距装置的测定单元只要构成为在摄影装置的整个变焦区域中满足该条件即可。在此，如果设fit为摄影装置的最大焦距、δ为摄影装置的散光圈，并将i^not 设为摄影装置的fit中的F值，则上述式子能够展开为如下所示。a2 = ( δ · Fnot · La2) / (fit2+ δ · Fnot · La)bl = ( δ · Fnot · Lb2)/(fit2- δ · Fnot · Lb)La = (fs · ls)/dsLb = (fs · ls)/2ds如果将H设为摄影装置的超焦距的最大值，即，设为在摄影本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：小平正和，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：