【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种水垢抑制剂。
技术介绍
现有的水垢抑制剂，效果不理想，生产成本高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种使用效果好的硅垢去除剂。本专利技术的技术解决方案是一种硅垢去除剂，其特征是由下列重量份的成分组成氟化铵5 10份过氧化氢1 3份胼1 3份非离子表面活性剂1 5份。所述的硅垢去除剂，由下列重量份的成分组成氟化铵7份过氧化氢2份胼1份非离子表面活性剂4份。本专利技术配方合理，使用效果好，生产成本低。下面结合实施例对本专利技术作进一步说明。具体实施例方式实施例1 一种硅垢去除剂，由下列3氟化铵7份过氧化氢2份胼1份非离子表面活性剂4份。实施例2 一种硅垢去除剂，由下列3氟化铵8份过氧化氢3份胼2份非离子表面活性剂1份。权利要求1.一种硅垢去除剂，其特征是由下列重量份的成分组成 氟化铵5 10份过氧化氢1 3份胼1 3份非离子表面活性剂1 5份。2.根据权利要求1所述的硅垢去除剂，其特征是由下列重量份的成分组成 氟化铵7份过氧化氢2份胼1份非离子表面活性剂4份。全文摘要本专利技术公开了一种硅垢去除剂，由氟化铵、过氧化氢、肼、非离子表面活性剂组成。本专利技术配方合理，使用效果好，生产成本低。文档编号C02F5/08GK102398993SQ20101028306公开日2012年4月4日 申请日期2010年9月14日 优先权日2010年9月14日专利技术者曹建兵 申请人:曹建兵
【技术保护点】
【技术特征摘要】
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