一种用于其光致构图的有机发光二极管（OLED）（100）。该OLED包括在背对发光层（130）的阴极层（140）一侧连接到阴极层（140）的翘曲还原层（150）。翘曲还原层被配置成用于改进对由阴极层的局部发热导致的翘曲的抵抗性，OLED的构图会引起此热量。翘曲还原层改进阴极层的机械属性（例如，刚性）和/或热属性（例如，热传导和热容量）。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及包括层的堆叠体的0LED，该堆叠体(stack)包括阴极层与阳极层之间布置的发光层，堆叠体布置在衬底上。本专利技术进一步涉及构图的(patterned) OLED以及涉及光源。
技术介绍
也称作OLED的有机发光二极管通常包括阴极、阳极和发光层。可以把这些层堆叠在衬底上。OLED还可以包括导电层。发光层可以由可以传导电流的有机材料制造。当在阴极和阳极上施加电压时，电子从阴极朝向阳极行进。此外，在阳极侧的导电层中产生空穴 (hole)。当电子和空穴重新结合时，从有机LED器件发出光子。以许多方式把有机LED器件看作各种照明应用中的未来。经引用并入本文的、代理机构卷号为PH009044的专利申请‘Device, method and system for lighting’描述了一种有机LED器件。有机LED器件在使用中时在它的发光部分上显示预定图案。有机LED器件包括阳极、阴极、以及有机发光层。有机发光层被配置成发出光。通过波长在有机发光层的吸收带中的光照射有机发光层堆叠体的一部分。照射光的光强度在阴极层、阳极层和有机发光层的烧蚀阈值以下。作为照射处理的结果，该部分发光层堆叠体的发光属性减小。通过选择处理发光层的哪些部分、以及多久，可以在OLED中印刻图像。可以例如使用构图的OLED创建环境照明。可以在维持有机LED器件的所有固有优点(例如，是吸引人的、是漫射区光源等)的情况下，在单个有机LED器件中做出全2维灰度图片。
技术实现思路
在构图(patterning)期间，通常使用会聚光束，如激光。激光的强度相对较高，以使得在通过光照射的发光层堆叠体中的位置处，OLED将会热起来。为了避免OLED的变形， OLED中的照射导致的温度应当保持在变形阈值以下。把构图OLED需要仔细地校准和控制激光强度，以及扫描速度，以在不引起器件中金属电极的不想要变形(即，翘曲)的情况下得到高对比度构图。特别地，阴极层对翘曲(bucking)敏感。再者，为了加快光致构图的OLED的生产，期望增加构图光的强度。当加热OLED时， 部分OLED会变形和最终翘曲。为较好地解决此顾虑，在本专利技术的第一方面中，提出了用于光致构图的OLED。OLED 包括层的堆叠体。堆叠体至少包括在阴极层与阳极层之间布置的发光层。堆叠体(stack) 布置在衬底上。OLED进一步包括并非衬底的翘曲还原层(bucking-reducing layer)。翘曲还原层在背对发光层的阴极层的一侧连接到阴极。翘曲还原层被配置成用于改进对阴极的局部发热导致的翘曲的抵抗性。根据本专利技术的用于光致构图的OLED具有这样的优点可以通过较有成本效益的方式利用光对它构图。在已知系统中，当在发光层堆叠体的一些点处施加光以减小该点处的发光属性时，则光将会也加热阴极层。如果光的强度足够高，则在一些点处阴极层将会达到它翘曲的温度。然而在根据本专利技术的OLED中，阴极连接到翘曲还原层，这会增加阴极对翘曲的抵抗性。即使使用与已知系统中一样的材料和厚度的阴极层，则阴极层将能够较好地抵抗翘曲ο由于把翘曲还原层施加到背对发光层的阴极的一侧，所以不损害发光层的发光属性。因为翘曲还原层，可以增加用来在OLED中感应(induce)图案的光的强度。作为结果，在OLED的一个点处需要较少时间，以减小发光层堆叠体的发光属性。可以因此增加激光在构图期间在OLED的表面上扫描的扫描速度。即，如果对于OLED的任何特定点取得发光属性的期望变换需要较少时间，则施加整个图案也需要较少时间。相应地，减少了用于把OLED构图的时间。构图的OLED制造期间的较短构图阶段意味着，构图的OLED制造时间的相应缩短。也可以把扫描阶段划分成多个扫描遍数。发光属性的减小可以随后在数个不同步骤中继续进行。这具有第一遍期间建立的热量可以在第二遍开始之前消散的优点。这样避免了翘曲。当根据本专利技术使用多个扫描遍数把OLED构图时，则较少遍可以满足。由于阴极层对翘曲的抵抗性较高，所以多遍中任一遍中使用的激光的强度可以较高以及需要较少遍 (pass)。较少扫描遍数减少了构图阶段花费的时间。制备构图的OLED需要的制造时间对构图的OLED的成本价格做出重要贡献。为减小成本价格，增加的构图速度因此是有益的。在构图期间使用较高强度光的进一步优点是，增加单遍中可以取得的图案中对比度。较高强度光源可以取得发光层发光属性的较强减小。相应地，可以完成OLED的变暗部分与剩余未处理部分之间的较大差异。根据本专利技术的OLED可以与各种光致构图方法一起使用。作为第一实例，发光层可以包括低聚物和/或聚合物，以及可以通过作用于这些材料的方法构图。作为进一步的实例，堆叠体和/或发光层可以包括工作层，如电流支持层。在该情形中，光致构图可以影响它的电流支持属性，以影响流过发光层的电流的减小电势。如果流过发光层的电流的电势减小，则发光属性相应减小。注意到，在这两个实例中，使用的光将会至少在一些程度上加热阴极层。相应地，在这两个实例中，翘曲还原层将会施益于生产过程。可以通过至少两个不同方式实现阴极层的较高翘曲抵抗性。首先，OLED可以通过延迟翘曲的发生具有较高的阴极层抗翘曲性。也就是，通过阴极层增加的翘曲阈值。翘曲阈值定义了一个热能量，在其之上如果在光致构图期间把热能量施加到阴极层，则会发生阴极层翘曲。通过增加翘曲阈值，可以增加光的强度，同时避免一起翘曲。特别是对于通过易碎材料制成的阴极层，例如透明阴极层，停留在翘曲阈值下是优选的。相比于没有翘曲还原层的OLED而言，由于翘曲层例如由于它的刚性而承受翘曲、或者因为它协助处理引入的热能，所以翘曲将会在施加了更多热能之后开始。可以使用较高光强度，而没有翘曲。OLED具有较高的翘曲抵抗性第二方式是，通过在其发生之后减轻翘曲的严重性。当阴极层的翘曲已开始但是热量的施加继续时，翘曲变得越来越严重。严重性例如通过材料的较高和/或较尖锐折叠展现。然而，对于一些应用，可以容许一定量的翘曲，只要翘曲停留在预定限制下。特别地，翘曲不应当进展到阴极烧蚀的点。翘曲还原层可以减缓阴极层的翘曲发展的速率。再者，它减小翘曲的可见性。在一个优选实施例中，翘曲还原层与阴极层之间的连接包括用于增加阴极层机械刚性级别的机械连接。较刚性的层将会能够承受较高光强度，即翘曲发生之前的较高温度。在光致构图期间加热阴极层的一部分在材料中引起应力。当此应力充分高时，导致翘曲。具有阴极层与翘曲抵抗层之间的机械连接允许阴极承受较大量的应力。优选地， 例如通过选择翘曲还原层的合适材料或沉积方法把翘曲还原层布置成机械刚性级别比阴极层高。具有刚性比阴极层高的翘曲还原层，允许翘曲还原层较薄。优选地，翘曲还原层的机械刚性不低于阴极层的机械刚性级别。可以较快速地施加(例如，沉积)较薄的翘曲还原层，这减少OLED的制造时间。可以在OLED有成本效益的生产中使用本专利技术，这减少了制造时间和减少了构图时间。再者，如果翘曲还原层可以较薄，则翘曲还原层需要较少材料。优选地，翘曲还原层的刚性在与阴极层平行的方向上延伸，以便减小阴极层的翘曲ο在与阴极层平行的方向上增加刚性对减小阴极层的翘曲有效。如果材料抵抗此方向上的移动，则相应减小阴极层对褶皱的自由度。在优选实施例中，翘曲还原层与阴极层之间的本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种用于光致构图的ＯＬＥＤ（１００；２００），包括：层的堆叠体，堆叠体包括在阴极层（１４０）与阳极层（１２０）之间布置的发光层（１３０），堆叠体布置在衬底（１１０）上，ＯＬＥＤ进一步包括并非衬底（１１０）的翘曲还原层（１５０），翘曲还原层（１５０）在背对发光层（１３０）的阴极层（１４０）一侧连接到阴极，以及被配置成用于改进对由阴极的局部加热导致的翘曲的抵抗性。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：CA弗舒伦，
申请(专利权)人：CA弗舒伦，
类型：发明
国别省市：NL
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