流体处理系统技术方案

说明了一种流体处理系统，在该流体处理系统中，待处理的流体在压力作用下被撞击至辐射发射表面。所述流体处理系统包含至少一个具有辐射发射表面的辐射源和至少一个具有流体排出开口的喷管元件，所述流体排出开口与所述辐射发射表面分隔开。所述流体排出开口构造成使待处理的流体撞击到所述辐射发射表面的至少一部分上。所述流体处理系统特别适于处理低透射率的流体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种流体处理系统，包含至少一个具有辐射发射表面的辐射源和至少一个具有流体排出开口的喷管元件，所述流体排出开口与所述辐射发射表面分隔开，所述流体排出开口构造成使待处理的流体碰撞到所述辐射发射表面的至少一部分上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：迈克尔·萨斯格斯，
申请(专利权)人：特洛伊科技有限公司，
类型：发明
国别省市：CA