在循环运动的靶区中沉积额定剂量分布制造技术

本发明专利技术涉及一种用于通过借助以至少两个通路接近靶网格的网格点的射线（１０５）的多次照射在循环运动的靶区（１０２）中沉积额定剂量分布的方法，其中，在每个通路中依次接近网格点。其特征在于下面的步骤：规定与额定剂量分布的最大容许的局部偏差，使照射过程和靶区（１０２）的循环运动去同步并且将对靶区的照射划分成足够多的通路，从而与额定剂量分布的局部偏差最高相当于与额定剂量分布的最大容许偏差。此外，本发明专利技术还涉及一种用于实施该方法的照射装置和一种用于确定用于该照射装置的控制参数的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
通过利用以至少两个通路接近靶网格的网格点的射线（１０５）的多次照射以在循环运动的靶区（１０２）中沉积额定剂量分布的方法，其中，在每个通路中依次接近网格点，其特征在于下面的步骤：确定与额定剂量分布的最大容许的局部偏差，使照射过程和靶区（１０２）的循环运动去同步，并且将对靶区的照射划分成足够多的通路，从而与额定剂量分布的局部偏差最高相当于与额定剂量分布的最大容许偏差。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：C·贝尔特，
申请(专利权)人：GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司，
类型：发明
国别省市：DE