光谱探测器的校准制造技术

技术编号:7133165 阅读:249 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种方法包括利用辐射敏感探测器像素探测穿过具有已知光谱特性的材料的辐射,所述辐射敏感探测器像素输出指示所探测辐射的信号;以及确定所述输出信号和所述光谱特性之间的映射。该方法还包括基于所述辐射敏感探测器像素的对应输出和所述映射确定由所述辐射敏感探测器像素探测的光子能量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种方法,包括:利用辐射敏感探测器像素探测穿过具有已知光谱衰减或荧光特性的材料的所产生的辐射,所述辐射敏感探测器像素输出指示所探测的辐射的信号;以及确定所述像素的输出信号和所述已知光谱特性之间的映射。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:A·利夫内
申请(专利权)人:皇家飞利浦电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:NL

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