足部按摩垫制造技术

本实用新型专利技术涉及按摩垫，特别是一种足部按摩垫，包括：垫基体，其具有第一和第二表面；多个柔性凸体，其被设置在所述垫基体的第一和第二表面中的至少一个上；和多个磁体，其被设置在所述柔性凸体中。通过本实用新型专利技术提供的足部按摩垫，能够有效地实现对脚趾的按摩，而且便于携带。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及按摩垫，特别是一种足部按摩垫。
技术介绍
目前，在洗脚时可在水盆底部设置足部按摩装置，例如多个小的凸起(如小园石头)，从而可在热水泡脚时踩在上面，在泡脚的同时进行足部按摩。不过，这种足部按摩装置难以实现对脚趾的按摩，而且携带不便。
技术实现思路
针对上述现有技术的问题，本技术提供一种足部按摩垫，其能够有效实现对脚趾的按摩。本技术提供一种足部按摩垫，包括垫基体，其具有第一和第二表面；多个柔性凸体，其被设置在所述垫基体的第一和第二表面中的至少一个上；和多个磁体，其至少被设置在所述柔性凸体中。优选地，所述多个柔性凸体被均勻设置。优选地，所述多个柔性凸体被设置的形状对应于足部形状的至少一部分。优选地，所述多个柔性凸体具有不同的突出高度。优选地，所述多个柔性凸体中的全部或一部分包括从所述柔性凸体的表面上突出的多个子凸体。优选地，被设置在所述第一表面上的所述多个柔性凸体与被设置在所述第二表面上的所述多个柔性凸体采取不同的分布方式。优选地，所述磁体还被设置在所述垫基体之中或之上，并处于所述多个柔性凸体之间。优选地，所述柔性凸体具有锥球的形状。优选地，所述垫基体能够柔性变形。通过本技术提供的足部按摩垫，能够有效地实现对脚趾的按摩，而且便于携市ο附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，以下将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，以下描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图所示实施例得到其它的实施例及其附图。图1是根据本技术的实施例的足部按摩垫的俯视图。图2是图1所示足部按摩垫局部放大剖视图。具体实施方式以下将结合附图对本技术各实施例的技术方案进行清楚、完整的描述，显然， 所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施例，都属于本技术所保护的范围。本技术提供一种足部按摩垫，包括垫基体，其具有第一和第二表面；多个柔性凸体，其被设置在所述垫基体的第一和第二表面中的至少一个上；和多个磁体，其至少被设置在所述柔性凸体中。这样，通过在垫基体的至少一个表面上设置多个柔性凸体以及磁体，能够有效实现对脚趾的按摩，而且这种足部按摩垫还便于携带。在一个实施例中，如图1中所示，足部按摩垫包括垫基体，多个柔性凸体被设置在所述垫基体的第一表面上，并且均勻分布，多个磁体(未示出)至少被设置在所述柔性凸体中。优选地，所述多个柔性凸体被均勻设置，或者以预定图样设置。优选地，所述预定图样的形状对应于足部形状的至少一部分。这样，可以针对足部穴位按摩，特别是可针对脚趾部分设计特别的图样以利于按摩脚耻，其中，预定图样可以对应于这个脚掌，也可以对应于足部的一部分，例如脚趾部分。优选地，采用所述预定图样的所述多个柔性凸体具有不同的突出高度。在这种情况下，对应于脚趾部分的柔性凸体可更加突出，以着重按摩脚趾。优选地，所述多个柔性凸体中的全部或一部分包括从所述柔性凸体的表面上突出的多个子凸体。优选地，被设置在所述第一表面上的所述多个柔性凸体与被设置在所述第二表面上的所述多个柔性凸体采取不同的分布方式。在一个实施例中，设置在第一表面上的多个柔性凸体均勻分布，而设置在第二表面上的多个柔性凸体按照足部图样分布。在另一实施例中，设置在第一表面上的多个柔性凸体按照足部图样分布并具有相同高度，而设置在第二表面上的多个柔性凸体按照足部图样分布但具有不同高度，例如对应于脚趾部分的柔性凸体具有更大高度。优选地，所述磁体还被设置在所述垫基体之中或之上，并处于所述多个柔性凸体之间。优选地，所述柔性凸体具有锥球的形状。优选地，所述垫基体能够柔性变形。在一个实施例中，垫基体能够卷起，以利于携带所述足部按摩垫。如图2所示，在一个实施例中，垫基体1上设置有多个锥球形柔性凸体2，且柔性凸体2上包括突出的多个子凸体4，磁体3设置在柔性凸体2中。通过本技术提供的足部按摩垫，能够有效地实现对脚趾的按摩，而且便于携市ο本技术提供的各种实施例可根据需要以任意方式相互组合，通过这种组合得到的技术方案，也在本技术的范围内。 显 然，本领域技术人员可以对本技术进行各种改动和变型而不脱离本技术的精神和范围。这样，倘若对本技术的这些修改和变型属于本技术权利要求及其等同技术的范围之内，则本技术也包含这些改动和变型在内。权利要求1.一种足部按摩垫，其特征在于，包括垫基体，其具有第一和第二表面；多个柔性凸体，其被设置在所述垫基体的第一和第二表面中的至少一个上；和多个磁体，其被设置在所述柔性凸体中。2.如权利要求1所述的足部按摩垫，其特征在于，所述多个柔性凸体被均勻设置。3.如权利要求1所述的足部按摩垫，其特征在于，所述多个柔性凸体被设置的形状对应于足部形状的至少一部分。4.如权利要求3所述的足部按摩垫，其特征在于，所述多个柔性凸体具有不同的突出尚度。5.如权利要求2所述的足部按摩垫，其特征在于，所述多个柔性凸体中的全部或一部分包括从所述柔性凸体的表面上突出的多个子凸体。6.如权利要求1至5中任一项所述的足部按摩垫，其特征在于，所述磁体还被设置在所述垫基体之中或之上，并处于所述多个柔性凸体之间。7.如权利要求1至5中任一项所述的足部按摩垫，其特征在于，所述柔性凸体具有锥球的形状。专利摘要本技术涉及按摩垫，特别是一种足部按摩垫，包括垫基体，其具有第一和第二表面；多个柔性凸体，其被设置在所述垫基体的第一和第二表面中的至少一个上；和多个磁体，其被设置在所述柔性凸体中。通过本技术提供的足部按摩垫，能够有效地实现对脚趾的按摩，而且便于携带。文档编号A61H39/04GK202143704SQ20112017726公开日2012年2月15日 申请日期2011年5月30日 优先权日2011年5月30日专利技术者荣帅 申请人:荣帅本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种足部按摩垫，其特征在于，包括：垫基体，其具有第一和第二表面；多个柔性凸体，其被设置在所述垫基体的第一和第二表面中的至少一个上；和多个磁体，其被设置在所述柔性凸体中。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：荣帅，
申请(专利权)人：荣帅，
类型：实用新型
国别省市：15