用于制造导电片的方法和用于制造触控面板的方法技术

利用第一光(106a)辐照形成于透明支撑体(102)的一个主表面上的第一光敏层(104a)，由此对所述第一光敏层(104a)进行曝光的第一曝光处理，和利用第二光(106b)辐照形成于所述透明支撑体(102)另一个主表面上的第二光敏层(104b)，由此对所述第二光敏层(104b)进行曝光的第二曝光处理，所述曝光处理执行为使得入射到所述第一光敏层(104a)上的第一光(106a)基本上不到达所述第二光敏层(104b)且入射到所述第二光敏层(104b)上的第二光(106b)基本上不到达所述第一光敏层(104a)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于制造导电片(例如适合用于投影式电容触控面板中)的方法和用于制造触控面板的方法。
技术介绍
用于在支撑体的每一侧上形成高分辨率导电图案的常规方法包括日本特许专利公开号2008-158108中描述的方法。日本特许专利公开号2008-158108中公开的方法采用光敏材料，该光敏材料具有透明支撑体、形成于支撑体一侧(A侧)上的光敏卤化银乳剂层、以及形成于支撑体的另一侧(B侧)上的另一光敏卤化银乳剂层，并且所述方法包括利用具有图案的光仅辐照A侧并对曝光的材料进行显影，以在透明支撑体的每一侧上在相同位置形成图像的步骤。常规电容触控面板是能够感测人手指和导电膜之间的静电电容的变化以检测指尖触摸的位置的位置输入装置。该电容触控面板包括表面电容触控面板和投影式电容触控面板。表面电容触控面板具有简单的结构，但是不能同时检测两个或更多触摸点(多触摸检测)。另一方面，投影式电容触控面板具有的结构包含以矩阵排列的大量电极，类似于液晶显示器装置等的像素结构。更具体地，该结构是使得多个电极排列在竖直方向上并且串联连接以形成第一电极阵列，多个第一电极阵列排列在水平方向上，多个电极排列在水平方向上并且串联连接以形成第二电极阵列，多个第二电极阵列排列在竖直方向上，并且通过第一和第二电极阵列顺序检测电容改变以实现多触摸检测。该常规投影式(projected)电容触控面板包括日本特许专利公开号2008_1四708 中描述的电容输入装置。在此电容输入装置中，透明电极导线dl设置为上电极基底上的X 检测电极Xl和X2与公共电极Cl之间的空间S1、S2中的假电极D1，且透明电极导线d2设置为下电极基底上的相邻Y检测电极yn之间的空间S3中的假电极D2，由此减小了包含公共电极cl、X检测电极xb、以及Y检测电极yn的区域和仅包含假电极D1、D2的区域之间的对比度差。从而，当从外部观察透明触控面板时，里侧透明电极导线是不易看见的。如上述，日本特许专利公开号2008-158108中公开的方法适合于在透明支撑体的每一侧上的相同位置形成相同图案。然而，该方法不适合用于在每一侧上形成不同导电图案以获得日本特许专利公开号2008-U9708中描述的投影式电容触控面板。不适合的原因如下在上述方法中，当透明支撑体的A和B侧暴露于不同图案时， A侧上的曝光图案也形成于B侧上，并且类似地，B侧上的曝光图案也形成于A侧上。结果， A和B侧具有相同图案。另外，在日本特许专利公开号2008-U9708中描述的触控面板中，例如在该专利文献的附图3中所示的下电极基底上的端子图案中，对应于距端子图案的导线组件最远的电极yl的端子图案比其它端子图案长，并且对应于距导线组件最近的电极yl6的端子图案比其它端子图案短。因此，不利的是，电极yl和排列在其附近的电极的RC时间常数增大， 并且检测电压波形失真，使得难以在预定操作时间(扫描时间)内执行位置检测。特别是在较大触控面板中会引起此问题，并且从而仅能够有限程度地增大屏幕大小(不是厚度， 而是长度和宽度)。
技术实现思路
基于上述问题，本专利技术的目的是提供用于制造导电片的方法，该方法能够在曝光处理中在具有透明支撑体的光敏材料的每一侧上形成相同或不同的图案，简化了导电片制造工艺，容易形成用于触控面板等的电极，并使得触控面板等较薄(较小)。本专利技术的另一目的是提供利用以上导电片制造方法的制造触控面板的方法，该方法能够产生较薄的触控面板，减小了导电片中的电极的时间常数，并提高了触控面板的屏幕大小。[1] 一种用于制造根据本专利技术的第一方面的导电片的方法，所述方法包括对光敏材料进行曝光和显影的步骤，所述光敏材料具有透明支撑体、形成于所述透明支撑体的一个主表面上的第一光敏层和形成于所述透明支撑体的另一个主表面上的第二光敏层，其中，所述曝光步骤包括利用光辐照所述透明支撑体上的所述第一光敏层，由此对所述第一光敏层进行曝光的第一曝光处理；和利用光辐照所述透明支撑体上的所述第二光敏层，由此对所述第二光敏层进行曝光的第二曝光处理；并且所述曝光步骤执行为使得入射到所述第一光敏层上的光基本上不到达所述第二光敏层且入射到所述第二光敏层上的光基本上不到达所述第一光敏层。[2]根据所述第一方面的方法，其中，同时进行针对所述第一光敏层的所述第一曝光处理和针对所述第二光敏层的所述第二曝光处理。[3]根据所述第一方面的方法，其中，至少通过选择所述第二光敏层的敏感度来控制所述第一光敏层上的图像形成；并且至少通过选择所述第一光敏层的敏感度来控制所述第二光敏层上的图像形成。[4]根据所述第一方面的方法，其中，所述第一光敏层包含在入射于其上的光的波长范围中具有光吸收敏感度的材料；并且所述第二光敏层包含在入射于其上的光的波长范围中具有光吸收敏感度的材料。[5]根据所述第一方面的方法，其中，所述第一光敏层包含第一光敏卤化银乳剂层；所述第二光敏层包含第二光敏商化银乳剂层；至少通过选择所述第二光敏商化银乳剂层的施加的银量来控制所述第一光敏层上的所述图像形成；并且至少通过选择所述第一光敏卤化银乳剂层的施加的银量来控制所述第二光敏层上的所述图像形成。[6]根据所述第一方面的方法，其中，所述第一光敏层包含第一光敏卤化银乳剂层；所述第二光敏层包含第二光敏商化银乳剂层；至少通过选择包含于所述第二光敏卤化银乳剂层中的色素的光吸收来控制所述第一光敏层上的所述图像形成；并且至少通过选择包含于所述第一光敏卤化银乳剂层中的色素的光吸收来控制所述第二光敏层上的所述图像形成。[7]根据所述第一方面的方法，其中，所述第一光敏层包含第一光敏卤化银乳剂层；所述第二光敏层包含第二光敏商化银乳剂层；至少通过选择所述第二光敏商化银乳剂层的施加的银量和包含于所述第二光敏卤化银乳剂层中的色素的光吸收来控制所述第一光敏层上的所述图像形成；并且至少通过选择所述第一光敏卤化银乳剂层的施加的银量和包含于所述第一光敏卤化银乳剂层中的色素的光吸收来控制所述第二光敏层上的所述图像形成。[8]根据所述第一方面的方法，其中，不提供防光晕层；并且所述第一光敏卤化银乳剂层和所述第二光敏卤化银乳剂层均具有5至30g/m2的施加的银量。[9]根据所述第一方面的方法，其中，所述第一光敏层包含第一光敏卤化银乳剂层和形成于所述第一光敏卤化银乳剂层和所述透明支撑体之间的第一防光晕层；所述第二光敏层包含第二光敏商化银乳剂层和形成于所述第二光敏商化银乳剂层和所述透明支撑体之间的第二防光晕层；至少通过选择包含于所述第一和第二防光晕层中的每一层中的色素的光吸收来控制所述第一光敏层上的所述图像形成；并且至少通过选择包含于所述第一和第二防光晕层中的每一层中的色素的光吸收来控制所述第二光敏层上的所述图像形成。[10]根据所述第一方面的方法，其中，所述第一光敏层包含第一光敏卤化银乳剂层和形成于所述第一光敏卤化银乳剂层和所述透明支撑体之间的第一防光晕层；所述第二光敏层包含第二光敏商化银乳剂层和形成于所述第二光敏商化银乳剂层和所述透明支撑体之间的第二防光晕层；至少通过选择所述第二光敏卤化银乳剂层的施加的银量和包含于所述第一和第二防光晕层中的每一层中的色素的光吸收来控制所述第一光敏层上的所述图像形成；并且至少通过选择所述第一光敏卤化银乳剂层的施加的银量和包含于所本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于制造导电片（１０、１１４）的方法，所述方法包括对光敏材料（１００）进行曝光和显影的步骤，所述光敏材料（１００）具有透明支撑体（１０２）、形成于所述透明支撑体（１０２）的一个主表面上的第一光敏层（１０４ａ）和形成于所述透明支撑体（１０２）的另一个主表面上的第二光敏层（１０４ｂ），其中：所述曝光步骤包括：利用光（１０６ａ）辐照所述透明支撑体（１０２）上的所述第一光敏层（１０４ａ），由此对所述第一光敏层（１０４ａ）进行曝光的第一曝光处理；和利用光（１０６ｂ）辐照所述透明支撑体（１０２）上的所述第二光敏层（１０４ｂ），由此对所述第二光敏层（１０４ｂ）进行曝光的第二曝光处理；并且所述曝光步骤执行为使得入射到所述第一光敏层（１０４ａ）上的光（１０６ａ）基本上不到达所述第二光敏层（１０４ｂ）且入射到所述第二光敏层（１０４ｂ）上的光（１０６ｂ）基本上不到达所述第一光敏层（１０４ａ）。

【技术特征摘要】
2010.05.28 JP 122747/2010;2011.03.30 JP 074531/2011.一种用于制造导电片(10、114)的方法，所述方法包括对光敏材料(100)进行曝光和显影的步骤，所述光敏材料(100)具有透明支撑体(102)、形成于所述透明支撑体(102)的一个主表面上的第一光敏层(104a)和形成于所述透明支撑体(102)的另一个主表面上的第二光敏层(104b)，其中所述曝光步骤包括利用光(106a)辐照所述透明支撑体(10 上的所述第一光敏层 (104a)，由此对所述第一光敏层(104a)进行曝光的第一曝光处理；和利用光(106b)辐照所述透明支撑体(10 上的所述第二光敏层(104b)，由此对所述第二光敏层(104b)进行曝光的第二曝光处理；并且所述曝光步骤执行为使得入射到所述第一光敏层(104a)上的光(106a)基本上不到达所述第二光敏层(104b)且入射到所述第二光敏层(104b)上的光(106b)基本上不到达所述第一光敏层(104a)。2.如权利要求1所述的方法，其中，同时进行针对所述第一光敏层(104a)的所述第一曝光处理和针对所述第二光敏层 (104b)的所述第二曝光处理。3.如权利要求1所述的方法，其中，至少通过选择所述第二光敏层(104b)的敏感度来控制所述第一光敏层(104a)上的图像形成；并且至少通过选择所述第一光敏层(104a)的敏感度来控制所述第二光敏层(104b)上的图像形成。4.如权利要求3所述的方法，其中，所述第一光敏层(104a)包含在入射于其上的光(106a)的波长范围中具有光吸收敏感度的材料；并且所述第二光敏层(104b)包含在入射于其上的光(106b)的波长范围中具有光吸收敏感度的材料。5.如权利要求3所述的方法，其中，所述第一光敏层(104a)包含第一光敏卤化银乳剂层(IMa)； 所述第二光敏层(104b)包含第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)； 至少通过选择所述第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)的施加的银量来控制所述第一光敏层(104a)上的所述图像形成；并且至少通过选择所述第一光敏卤化银乳剂层(IMa)的施加的银量来控制所述第二光敏层(104b)上的所述图像形成。6.如权利要求3所述的方法，其中，所述第一光敏层(104a)包含第一光敏卤化银乳剂层(IMa)； 所述第二光敏层(104b)包含第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)； 至少通过选择包含于所述第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)中的色素的光吸收来控制所述第一光敏层(104a)上的所述图像形成；并且至少通过选择包含于所述第一光敏卤化银乳剂层(IMa)中的色素的光吸收来控制所述第二光敏层(104b)上的所述图像形成。7.如权利要求3所述的方法，其中，所述第一光敏层(104a)包含第一光敏卤化银乳剂层(IMa)； 所述第二光敏层(104b)包含第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)； 至少通过选择所述第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)的施加的银量和包含于所述第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)中的色素的光吸收来控制所述第一光敏层(104a)上的所述图像形成；并且至少通过选择所述第一光敏卤化银乳剂层(IMa)的施加的银量和包含于所述第一光敏卤化银乳剂层(IMa)中的色素的光吸收来控制所述第二光敏层(104b)上的所述图像形成。8.如权利要求5所述的方法，其中， 不提供防光晕层；并且所述第一光敏卤化银乳剂层(IMa)和所述第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)均具有5至 30g/m2的施加的银量。9.如权利要求3所述的方法，其中，所述第一光敏层(104a)包含第一光敏卤化银乳剂层(IMa)和形成于所述第一光敏卤化银乳剂层(IMa)和所述透明支撑体(10 之间的第一防光晕层；所述第二光敏层(104b)包含第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)和形成于所述第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)和所述透明支撑体(10 之间的第二防光晕层(1 )；至少通过选择包含于所述第一和第二防光晕层(U6a、126b)中的每一层中的色素的光吸收来控制所述第一光敏层(104a)上的所述图像形成；并且至少通过选择包含于所述第一和第二防光晕层(U6a、126b)中的每一层中的色素的光吸收来控制所述第二光敏层(104b)上的所述图像形成。10.如权利要求3所述的方法，其中，所述第一光敏层(104a)包含第一光敏卤化银乳剂层(IMa)和形成于所述第一光敏卤化银乳剂层(IMa)和所述透明支撑体(10 之间的第一防光晕层；所述第二光敏层(104b)包含第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)和形成于所述第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)和所述透明支撑体(10 之间的第二防光晕层(1 )；至少通过选择所述第二光敏卤化银乳剂层(1Mb)的施加的银量...

【专利技术属性】
技术研发人员：栗城匡志，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP