液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置制造方法及图纸

技术编号:7018073 阅读:168 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置,即使分割基板进行取向处理的情况下,也能够抑制显示画面上产生接缝,能够提高成品率。本发明专利技术是包括一对相对的基板、设置在所述基板间的液晶层、和设置在至少一个基板的液晶层侧的表面的取向膜的液晶显示装置的制造方法,其中,所述制造方法包括将基板面内分割为两个以上的曝光区域,在每个曝光区域中通过光掩模进行取向膜的曝光的曝光工序,所述曝光工序以相邻的曝光区域的一部分重复的方式进行曝光,所述光掩模具有与重复的曝光区域对应的半色调部。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置。更详细而言,涉及通过在像素内形成两个以上的畴而能够实现高显示品质的矩阵型液晶显示装置的制造方法和矩阵型液晶显示装置。
技术介绍
液晶显示装置作为低耗电的显示装置,能够被轻量化、薄型化,因此被广泛应用于电视机、个人计算机用监视器等中。但是,液晶显示装置通常通过与施加电压相对应的液晶分子的倾斜角度来控制光的偏光,因此具有光透过率的角度依赖性。由此,在液晶显示装置中,根据视角方向的不同,会发生对比度下降、中间色调显示时的灰度等级反转等。因此,一般液晶显示装置在视场角特性不充分这一点上存在改善的余地。于是,开发有将液晶分子的取向和倾斜方向在像素内分割成两个以上的区域的取向分割技术。根据该技术,当向液晶层施加电压时,由于液晶分子在像素内向不同的方向倾斜,因此能够改善液晶显示装置的视场角特性。其中,液晶分子的取向方位不同的各区域也被称为畴,取向分割也被称为多畴。作为进行取向分割的液晶模式,在水平取向模式中,能够举出多畴扭曲向列(TN Twist Nematic)模式、多畴双折射控制(ECB =Electrically Controled Birefringence 电控双折射)模式、多畴OCB (Optically Compensated Birefringence 光学补偿双折射)模式等。另一方面,在垂直取向模式中,能够举出多畴垂直取向(MVA=Multi-Domain Vertical Alignment)模式、PVA(Patterned Vertical Alignment :垂直取向构型)模式等,在各个模式的液晶显示装置中,进行了用于实现进一步的广视场角化的各种改良。作为这样的进行取向分割的方法,能够举出摩擦法、光取向法等。在摩擦法中,提出有使摩擦区域和非摩擦区域通过基于抗蚀剂的图案化而分离进行取向分割的方法。但是,因为摩擦法是通过用卷绕在辊上的布来摩擦取向膜表面而进行取向处理,所以会发生由于布的毛、碎片等杂质、静电引起开关元件的破坏、特性改变、劣化等不良问题,存在改善的余地。与此相对,光取向法是使用光取向膜作为取向膜材料,通过在光取向膜上照射紫外线等光线,在取向膜中产生取向限制力的取向方法。由此,能够非接触地进行取向膜的取向处理,因此能够抑制在取向处理中的污染、杂质等的产生。此外,通过在曝光时使用光掩模,能够在取向膜面内的各区域中以不同的条件进行光照射,因此能够容易地形成具有期望的设计的畴。作为利用现有的光取向法的取向分割的方法,例如在将像素分割成两个畴的情况下,能够举出以下的方法。即,准备以与各像素相对应地一半一半地配置有透光部和遮光部的光掩模,首先对像素的一半区域进行第一曝光之后,使光掩模偏移半间距(half-pitch) 左右,对像素的剩余区域以与第一曝光不同的条件进行第二曝光的方法。如果使用这样的光取向法,能够容易地使用光掩模将各像素分割为两个以上的畴。此外,例如,在专利文献 1中,公开有通过光取向法进行取向处理,形成VAECB (Vertical Alignment ECB)模式的技术。此外,近年来,特别是液晶显示装置的大型化迅速发展,液晶电视迅速地进入从40 型到60型这种在现有技术中曾为等离子体电视的主战场的尺寸领域中。但是,将这样的60 型级别的液晶显示装置通过上述现有的光取向法进行取向分割是非常困难的。其理由是, 在工厂内能够设置的曝光装置的尺寸上有限制,能够对60型级别的基板一次性曝光的曝光装置实际上是不可能设置在工厂内的,因此对60型级别的基板整个面一次性进行曝光是不可能的。因此,在对大型的液晶显示装置进行取向分割的情况下,必须分割多次对基板进行曝光。此外,在对20型级别的比较小型的液晶显示装置通过光取向法进行分割取向处理的情况下,也能够想到从使曝光装置的尺寸尽可能小的要求出发,而必须进行分割曝光的情况。但是,这样将基板分为多次进行曝光而制作的液晶显示装置,导致在显示画面上能够清楚地看到各曝光区域间的接缝。因此,在通过对基板分割进行曝光以进行液晶显示装置的取向分割的情况下,在抑制显示画面上的接缝的产生、提高成品率的这些问题点上还存在改善的余地。专利文献1 日本特开2001-281669号公报
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述现状而提出的,其目的是提供一种在像素内形成两个以上的畴的液晶显示装置中,即使在将基板分割进行取向处理的情况下,也能够抑制在显示画面上产生接缝,提高成品率的液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置。本专利技术的专利技术人们对即使通过分割基板进行曝光而进行取向分割也不能视觉辨认出显示画面上的接缝的液晶显示装置的制造方法进行了各种研究,最后着眼于分割基板进行曝光时的曝光方式。并且发现,即使在同一曝光区域内假设中心附近和周边附近的照射条件相异,该差异在面内连续变化,人的眼睛也几乎识别不出,另一方面,即使装置精度、 光掩模的图案精度等为最大限度的高精度,实际上也不可能使分割并曝光的基板的各曝光区域间的照射条件完全一致,即使相邻的曝光区域间的照射条件的差别很微小,不连续的条件邻接,导致人的眼睛识别出接缝。因此,本专利技术的专利技术人们进一步进行研究,发现作为接缝产生的主要原因,考虑有例如在相邻的曝光区域间的照射量偏差、作为掩模和基板的间隔的邻近间隙的偏差、进行偏振紫外线照射的情况下的其偏光轴偏差等,在其中导致识别出接缝的最大的原因是相邻的曝光区域间的光掩模的对准精度的不同。即,可知即使是使对准精度在曝光装置上尽可能地为高精度,但是在现有的技术水平下也无法避免士数μ m左右的对准偏差,而且即使在该士数Pm的对准偏差的范围中,在相邻的曝光区域的边界也确实地被人的眼睛识别为接缝。而且,发现到当产生该光掩模的对准偏差时,在像素内取向方位不同的区域间, 即畴间的边界产生的暗线的位置和宽度在接缝两侧不连续地变化,作为其结果,导致识别出接缝,并且还发现在分割基板进行曝光时,通过与重复的曝光区域对应具有半色调 (halftone)部的光掩模,以相邻曝光区域的一部分重复的方式进行曝光,由此能够使接缝附近的暗线的位置和宽度连续变化,作为其结果,即使通过分割基板进行曝光而进行取向分割处理,也能够实现在显示画面上看不到接缝的液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置,从而想到能够很好地解决上述课题,达成本专利技术。S卩,本专利技术是一种液晶显示装置的制造方法,该液晶显示装置包括一对相对的基板、设置在上述基板间的液晶层、和设置在至少一个基板的液晶层侧的表面的取向膜,并且在像素内具有取向方位不同的两个以上的区域,上述制造方法包括将基板面内分割为两个以上的曝光区域,在每个曝光区域中通过光掩模进行取向膜的曝光的曝光工序,上述曝光工序以相邻的曝光区域的一部分重复的方式进行曝光,上述光掩模具有与重复的曝光区域对应的半色调部。此外,本专利技术是一种液晶显示装置,其包括一对相对的基板、设置在上述基板间的液晶层、和设置在至少一个基板的液晶层侧的表面的取向膜,并且在像素内具有取向方位不同的两个以上的区域,在上述取向方位不同的区域间产生的暗线的位置和宽度在相邻像素中连续变化。以下详细叙述本专利技术的液晶显示装置的制造方法。本专利技术的液晶显示装置的制造方法包括将基板面内分割为两个以上的曝光区域, 在每个曝本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种液晶显示装置的制造方法,该液晶显示装置包括一对相对的基板、设置在该基板间的液晶层、和设置在至少一个基板的液晶层侧的表面的水平取向膜,该制造方法的特征在于:该制造方法包括将基板面内分割为两个以上的曝光区域,通过设置有透光部和遮光部的光掩模在每个曝光区域中进行水平取向膜的曝光的曝光工序,该曝光工序在对光源和光掩模的组合、以及基板中的至少任一个进行扫描的同时进行扫描曝光,并且以相邻的曝光区域的一部分重复的方式进行重复曝光,该光掩模具有半色调部,该半色调部配置有透光部,该透光部的开口率小于在其它部分设置的透光部的开口率,该半色调部与重复曝光的区域对应设置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:井上威一郎箱井博之寺下慎一宫地弘一
申请(专利权)人:夏普株式会社
类型:发明
国别省市:JP

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