机箱制造技术

一种机箱包括一机箱面板，该机箱面板上具有若干开孔，每一开孔上向机箱的里侧突设一中空的屏蔽盖，且该屏蔽盖未与开孔相连的底面的面积小于该屏蔽盖与开孔相连的底面的面积。该机箱可以有效地的屏蔽电磁辐射。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种机箱。
技术介绍
计算机在人的生活中使用频率愈来愈频繁。在长期的使用过程中，用户因长时期受到电磁辐射污染所带来的一系列问题易疲劳、记忆力下降、生理机能减退等等都会接踵而来。对电磁辐射的屏蔽，一般可通过以下几个方法来实现选择具有屏蔽性质的材料制造机箱、提高机箱的封闭性、设计良好的接地出路以及设计合理的开孔孔径等，其中机箱上的开孔还用于满足机箱的散热需求。请参阅图1及图2，在现有的机箱10上，其一机箱面板11 (前面板、侧面板以及后面板均可)上的开孔12 —般设计为圆形等，该等开孔12用于将机箱10内部的热量散发至机箱10的外部。该开孔12的孔径尺寸还满足一定的要求，如此使得开孔12既能照顾到机箱10的散热需求，又能部分防止电磁波的辐射。但是其对电磁辐射的屏蔽效果仍然不是十分理想。
技术实现思路
鉴于以上内容，有必要提供一种能更有效地屏蔽电磁辐射的机箱。一种机箱，包括一机箱面板，该机箱面板上具有若干开孔，其中每一开孔沿开口的边缘向该机箱的里侧突设一中空的屏蔽盖，且该屏蔽盖未与开孔相连的底面的面积小于该屏蔽盖与开孔相连的底面的面积。一种机箱，包括一机箱面板，该机箱面板上具有若干开孔，其中该机箱面板上还包括若干中空的屏蔽盖，该屏蔽盖的第一底面与开孔的形状及大小相对应且与开孔朝向机箱的里侧的一面相连，该屏蔽盖的第二底面的面积小于第一底面的面积。上述机箱透过在开孔处设置一与开孔相连的中空的屏蔽盖，使得机箱能在满足散热要求的情况下更有效地屏蔽电磁辐射。附图说明图1是现有机箱的示意图。图2是图1中机箱面板的局部立体图。图3是本专利技术机箱的较佳实施方式的机箱面板的局部立体图。图4为图3中机箱面板的剖视图。图5是本专利技术机箱与现有机箱的电磁辐射遮蔽率模拟结果比较图。主要元件符号说明机箱面板2、11开孔3、12屏蔽盖4机箱10 具体实施例方式下面结合附图及较佳实施方式对本专利技术作进一步详细描述请一并参考图3及图4，本专利技术机箱的较佳实施方式呈一长方体，其机箱面板2上具有若干圆形的开孔3及若干屏蔽盖4。该屏蔽盖4为一中空的圆台，其第一底面与开孔3 的形状及大小相对应，该屏蔽盖4的第二底面的面积小于第一底面的面积。该圆台的侧壁向内凹陷以形成一平滑的曲面。每一屏蔽盖4的第一底面对应与一开孔3朝向机箱的里侧的一面相连。也就是说，该机箱面板2沿每一开孔3的周缘向机箱的里侧突出设置一中空的圆台，以形成该屏蔽盖4。如此，该开孔3仍然与机箱内部相连通，从而可将机箱内部的热量散发至机箱的外部，以满足机箱的散热需求。请参照图5，其中曲线Al代表图1中现有机箱10的电磁辐射遮蔽率模拟结果图， 曲线A2代表图3中本专利技术机箱的电磁辐射遮蔽率模拟结果图。从图5可以看出，图3中机箱的电磁辐射遮蔽率比图1中现有机箱10的电磁辐射遮蔽率较好。在频率为4GHz时，图3 中机箱的电磁辐射遮蔽率较图1中机箱10的电磁辐射遮蔽率有1. 5dB以上的遮蔽率改善。其它实施方式中，该屏蔽盖4的大小可根据设计者的需要进行变更，比如，该开孔 3的形状可为方形，该屏蔽盖4则为一中空的梯台。另外，该屏蔽盖4的高度亦可根据设计者的需要进行变更，且当屏蔽盖4的高度增加时，该机箱的电磁辐射遮蔽率亦会对应升高。权利要求1.一种机箱，包括一机箱面板，该机箱面板上具有若干开孔，其中每一开孔沿开口的边缘向该机箱的里侧突设一中空的屏蔽盖，且该屏蔽盖未与开孔相连的底面的面积小于该屏蔽盖与开孔相连的底面的面积。2.如权利要求1所述之机箱，其特征在于该开孔呈圆形。3.如权利要求2所述之机箱，其特征在于该屏蔽盖为中空的圆台，且该圆台的侧壁向内凹陷以形成一平滑的曲面。4.如权利要求1所述之机箱，其特征在于该开孔呈方形。5.如权利要求4所述之机箱，其特征在于该屏蔽盖为中空的梯台。6.一种机箱，包括一机箱面板，该机箱面板上具有若干开孔，其中该机箱面板上还包括若干中空的屏蔽盖，该屏蔽盖的第一底面与开孔的形状及大小相对应且与开孔朝向机箱的里侧的一面相连，该屏蔽盖的第二底面的面积小于第一底面的面积。7.如权利要求6所述之机箱，其特征在于该开孔呈圆形。8.如权利要求7所述之机箱，其特征在于该屏蔽盖为中空的圆台，且该圆台的侧壁向内凹陷以形成一平滑的曲面。9.如权利要求6所述之机箱，其特征在于该开孔呈方形。10.如权利要求9所述之机箱，其特征在于该屏蔽盖为中空的梯台。全文摘要一种机箱包括一机箱面板，该机箱面板上具有若干开孔，每一开孔上向机箱的里侧突设一中空的屏蔽盖，且该屏蔽盖未与开孔相连的底面的面积小于该屏蔽盖与开孔相连的底面的面积。该机箱可以有效地的屏蔽电磁辐射。文档编号G06F1/18GK102279628SQ20101019710公开日2011年12月14日 申请日期2010年6月10日 优先权日2010年6月10日专利技术者刘建宏, 白育彰, 许寿国, 谢博全 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种机箱，包括一机箱面板，该机箱面板上具有若干开孔，其中每一开孔沿开口的边缘向该机箱的里侧突设一中空的屏蔽盖，且该屏蔽盖未与开孔相连的底面的面积小于该屏蔽盖与开孔相连的底面的面积。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：白育彰，谢博全，刘建宏，许寿国，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94