【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光源单元、光学扫描装置和成像设备,并尤其是涉及用于照射多个激光束的光源单元、包括该光源单元的光学扫描装置和包括该光学扫描装置的成像设备。
技术介绍
垂直腔表面发射激光器(以下也称为VCSEL)是用于在与衬底的表面垂直的方向上输出光线。VCSEL优于在平行于衬底表面的方向上发射光线的端面发光型激光器,这是由于VCSEL成本低且性能高,并且用VCSEL可以容易形成阵列。此外,对利用VCSEL作为光源而应用于如光学互连的光学通信、用于光学拾取的光源以及用于诸如激光打印机的成像设备的光源方面存在很高的期望。因此,积极地进行对VCSEL的研发,并且一些R&D的结果已经投入实际使用。通常,在利用VCSEL作为光源的光学系统中,从光源发出的光线被光学系统中的透镜和镜子反射,并且可能返回到光源。由于已经返回到光源的光线(返回光线),在VCSEL 中的激光振荡变得不稳定,并且从光源发射的光量随时间以不规律的方式变化。光量可能以纳秒等级或者微秒等级变化。当VCSEL应用于成像和光学通信时,从光源发出的光量的稳定性是重要特性。取决于成像设备,甚至光量中很小比例的变化会导致严重问题。从而,用发出不稳定光量的光源无法形成高质量图像。在通信应用中,如果光源发出不稳定的光量,信号传输特性变差,并且光学通信不能以高性能执行。因此,已经提出各种方法,如增加对返回光线的阻抗的方法(例如,见专利文件1) 或者减少返回光线的方法(例如,见专利文件2和3)。专利文件1公开了一种表面发射激光器元件,其中,通过下部多层膜发射镜和上部多层膜反射镜形成振荡器。有源层放置在下部多 ...
【技术保护点】
1.一种光源单元,包括:表面发射激光器阵列,该表面发射激光器阵列包括发光单元;以及孔径元件,该孔径元件设置在从所述表面发射激光器阵列发出的光束的光路上,且该孔径元件包括孔径,其中:在至少一个方向上,由穿过所述孔径的光束所造成的干涉图案的强度分布包括相等数量的波峰和波谷。
【技术特征摘要】
2010.04.28 JP 103074/10;2011.02.22 JP 035380/111.一种光源单元,包括表面发射激光器阵列,该表面发射激光器阵列包括发光单元;以及孔径元件,该孔径元件设置在从所述表面发射激光器阵列发出的光束的光路上,且该孔径元件包括孔径,其中在至少一个方向上,由穿过所述孔径的光束所造成的干涉图案的强度分布包括相等数量的波峰和波谷。2.如权利要求1所述的光源单元,其中在包括表面发射激光器阵列的发光区域的平面上所述孔径的正交投影在所述一个方向上的长度基本上是XL/d的整数倍,其中λ是表面发射激光器阵列的振荡波长,d是在所述一个方向上所述发光单元之间的间隔,而L是从所述孔径的中心到所述平面延伸的垂直线的长度。3.如权利要求1所述的光源单元,还包括准直透镜,该准直透镜使得从表面发射激光器阵列发出的光束变成平行光束,所述准直透镜设置在所述表面发射激光器阵列和所述孔径元件之间,其中在包括所述表面发射激光器阵列的发光区域的平面上所述孔径的正交投影在所述一个方向上的长度基本上是XL/d的整数倍,其中λ是表面发射激光器阵列的振荡波长,d是在所述一个方向上所述发光单元之间的间隔,而L是从所述准直透镜的中心到所述平面延伸的垂直线的长度。4.如权利要求1所述的光源单元,其中在包括所述表面发射激光器阵列的发光区域的平面上所述孔径的正交投影是矩形形状,包括长度Rl的短边和长度R2的长边,长边相对于所述一个方向倾斜一倾斜角θ,且Rl · sin θ和R2 · cos θ中的至少一个基本上是λ L/d的整数倍,其中λ是表面发射激光器阵列的振荡波长,d是在所述一个方向上所述发光单元之间的间隔,而L是从所述孔径的中心到所述平面延伸的垂直线的长度。5.如权利要求1所述的光源单元,还包括准直透镜,该准直透镜使得从表面发射激光器阵列发出的光束变成平行光束,所述准直透镜设置在所述表面发射激光器阵列和所述孔径元件之间,其中在包括所述表面发射激光器阵列的发光区域的平面上所述孔径的正交投影是矩形形状,包括长度Rl的短边和长度R2的长边,所述长边相对于所述一个方向倾斜一倾斜角θ, 且Rl · sin θ和R2 · cos θ中的至少一个基本上是λ L/d的整数倍,其中λ是表面发射激光器阵列的振荡波长,d是在所述一个方向上所述发光单元之间的间隔,而L是从所述准直透镜的中心到所述平面延伸的垂直线的长度。6.如权利要求2所述的光源单元,其中所述发光单元沿着作为所述一个方向的第一方向和与所述第一方向相交的第二方向二维排列;且在所述平面上所述孔径的正交投影在所述第二方向上的长度基本上是XL/d2的整数倍,其中,所述d2是在所述第二方向上发光单元之间的间隔。7.如权利要求2所述的光源单元,其中所述发光单元沿着作为所述一个方向的第一方向和与所述第一方向相交的第二方向二维排列;在所述第二方向上所述发光单元之间的间隔不等;且在所述平面上所述孔径的正交投影在所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员:大场义浩,菅原悟,石井稔浩,
申请(专利权)人:株式会社理光,
类型:发明
国别省市:JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。