蒸发装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种蒸发器，所述蒸发器包括：蒸发室，具有流体入口和蒸汽出口。在蒸汽入口中具有蒸汽喷嘴。蒸发器还包括设置在蒸发室和蒸汽喷嘴之间的环，所述环增大蒸发室中的压力同时通过喷嘴的传导率基本不变。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于闪蒸(flash evaporation)的蒸发器，更具体地说，涉及一种 具有改善了的蒸发器压力稳定性和膜均勻性的蒸发器。
技术介绍
液体(单组份或多组分)的闪蒸使用超声波喷嘴来将液体雾化成小液滴，液滴随 后分散在保持为升高了温度的容器(蒸发器)中。当液滴与蒸发器的壁接触时，它们立即 转化为蒸汽状态而不沸腾。这种工艺消除了液体的单独组分的分离或蒸馏，并在气相下保 持与液体的组成相同的组成。在例如第4，954，371号以及第4，842，893号美国专利中大体 地描述了闪蒸工艺，这些专利通过引用包含于此。该工艺的一个问题在于雾化工艺不能完全恒定，这导致转化为气相的液体的量随 时间而波动。在一个闪蒸工艺的申请中，将蒸汽相传输到喷嘴，蒸汽在喷嘴处被引导到基 底，所述基底经过喷嘴并且蒸汽在喷嘴上凝结以形成薄的液体层。蒸汽量(通过蒸发器中 的压力测量)的波动导致到达基底的流量变化，导致凝结的液体层厚度的不期望的变化。这种问题的一个解决方案是在蒸发器中引入障碍以试图在蒸汽通过喷嘴出射之 前使蒸汽压力均勻。在例如第5，902，641号美国专利中描述了使用阻碍物，该专利通过引 用包含于此。然而，使用内部阻碍物仅在减小蒸汽波动方面部分地成功。此外，该方法在蒸 发器制造方面增加了复杂性和费用。此外，为了在基底上形成均勻的液体膜，蒸发器中的压力应该在尽可能短的时间 内达到稳定状态条件。这缩短了用于非连续涂覆的总时间并增大了制造工艺的生产量。已 经用于缩短到达稳定状态条件所需的时间的一个方法是使蒸汽出射到基底所穿过的蒸汽 喷嘴的开口变窄。虽然这不缩短蒸发器到达稳定状态压力的时间，但蒸汽喷嘴的制造公差 变得更难以实现，使得制造组件更加昂贵和困难。
技术实现思路
本专利技术提供一种具有减小了的到达基底的蒸汽量变化的蒸发器。本专利技术还提供一种快速到达稳定状态的成本较低的蒸发器。根据本专利技术的一方面，提供一种蒸发器，所述蒸发器包括蒸发室，具有流体入口 和蒸汽出口 ；蒸汽喷嘴，在蒸汽出口中；环，设置在蒸发室和蒸发喷嘴之间，环增大蒸发室 内的压力同时通过喷嘴的出口的传导率不变。环的剖面面积可小于蒸汽喷嘴的剖面面积。环可包括可插入到蒸汽出口的第一部分。环可包括环形圆环。第一部分还可包括向外延伸部分。第一部分可包括具有环形法兰的环形圆环。向外延伸部分可包括至少一个片。第一部分的剖面面积可小于蒸汽喷嘴的剖面面积。环可包括第一环和第二环，第一环具有可插入到蒸汽出口中的第一部分，第二环 插入到第一部分中，第二环的剖面面积小于蒸汽喷嘴的剖面面积。环可包括可插入到蒸汽出口的第一部分和连接到第一部分的第二部分，第二部分 的剖面面积小于蒸汽喷嘴的剖面面积。第一部分可具有法兰，其中，第二部分可连接到所述法兰。法兰可从环向外延伸。法兰可从环向内延伸。法兰可从环向外和向内延伸。第二部分可以可拆卸地连接到第一部分。第二部分可以永久性地连接到第一部分。第一部分可包括环形圆环。第一部分可包括具有环形法兰的环形圆环。第二部分可包括第二环形法兰，其中，第二环形法兰可连接到所述环形法兰，其 中，第二环形法兰的剖面面积可小于蒸汽喷嘴的剖面面积。第一部分还可包括向外延伸部分。向外延伸部分可包括至少一个片。环可以可拆卸地设置在蒸发室和蒸发喷嘴之间。根据本专利技术的另一方面，提供一种蒸发器，所述蒸发器包括蒸发室，具有流体入 口和蒸汽出口，蒸发室具有剖面面积，蒸汽出口具有小于蒸发室的剖面面积的剖面面积；蒸 汽喷嘴，在蒸汽出口中，蒸汽喷嘴具有小于蒸汽出口的剖面面积的剖面面积；可拆卸环，设 置在蒸发室和蒸汽喷嘴之间，环具有小于蒸汽喷嘴的剖面面积的剖面面积。附图说明通过参照附图详细描述本专利技术的示例性实施例，本专利技术的上述和其它特征和优点 将变得更加清楚，在附图中图1是示出根据本专利技术实施例的蒸发器的剖视图；图2是根据本专利技术实施例的环(collar)的剖视图；图3是根据本专利技术另一实施例的环的剖视图；图4是根据本专利技术另一实施例的环的剖视图；图5是根据本专利技术另一实施例的环的剖视图；图6是根据本专利技术另一实施例的环的剖视图；图7是根据本专利技术另一实施例的环的剖视图；图8是根据本专利技术另一实施例的环的剖视图；图9是根据本专利技术另一实施例的环的剖视图。具体实施例方式现在将参照附图更充分地描述本专利技术，在附图中示出了本专利技术的示例性实施例。通过喷嘴的传导率在减小到达基底的蒸汽的量的变化方面是重要的特征。传导率 是以给出的压力差可以穿过开口的蒸汽的量。改变传导率的最简单的方式是改变开口的直 径。可选地，也可使用利用管或紧密间隔的平行板的方法。根据本专利技术的实施例，在蒸发室和蒸汽喷出到基底所穿过的蒸汽喷嘴之间设置有 环。环形成阻塞物(例如小孔)，阻塞物被设计为匹配通过以前使蒸汽喷嘴出口变窄而获得 的限制力相同的限制力。结果是增大了蒸发器压力，同时蒸汽喷嘴出口的宽度保持不变。由 于蒸发器中包含了更多的蒸汽，所以这提高了蒸发器压力相对于雾化(atomization)工艺 中的变化的稳定性。因此，雾化工艺中的任何波动代表了总蒸汽的更小的份数(fraction)。 同时，由于蒸汽流的量相同，所以蒸汽喷嘴处的蒸汽压力基本不变，并且通过喷嘴的开口的 传导率不变。结果是沉积(基底上的液体聚集的平均比率)工艺不变，并且沉积了更加恒 定和均勻的薄膜。因此，环提供了现有技术的工艺中发现的问题的低成本的解决方案。由本专利技术获得的附加特征在于蒸发器压力的稳定性允许使用反馈来改变压力，以 受控的方式可控地允许膜厚度改变。以前，由于流体流控制系统的响应时间慢，所以短时间 段出现的波动使得难以反馈。在流体流控制系统的一个实施中，通过包含该流体的活塞泵 的排水量速率来控制流率。泵通过一定长度的管道连接到蒸发器上的雾化喷嘴。流率至泵 的排水量速率变化的延迟时间(滞后)与蒸发器中的压力波动的频率相似。这使得难以提 供稳定的减小压力波动的反馈系统。图1中示出了蒸发器10。存在包括流体入口 20的蒸发室15。这可被应用到各 种类型的流体系统，如本领域技术人员可理解的，流体系统包但不限于单体、低聚体、树脂 等。存在雾化器25。雾化器25可通过使用超声波等将通过流体入口 20流入的流体雾化 为颗粒或液滴。然而，本专利技术不限于此，雾化器25可利用除了超声波以外的其它方式将流 体雾化为液滴。存在加热器30，以加热蒸发室15的表面35。流过雾化器25的单体被雾化 为颗粒或液滴，颗粒或液滴与加热的表面35碰撞，颗粒或液滴在加热的表面35上闪蒸为气 体、蒸发物或复合蒸汽。流过蒸汽出口 40并流出蒸汽喷嘴45的气体在将要涂覆的表面上 凝结，因此形成流体薄膜62。当流体薄膜62硬化时，形成了有机材料薄膜。蒸汽出口的剖面面积Al小于蒸发室的剖面面积A2，蒸汽喷嘴45的剖面面积A3小 于蒸汽出口 40的剖面面积Al。在蒸发室15和蒸汽喷嘴45之间具有环50。如图2所示，环具有小于蒸汽喷嘴45 的剖面面积A3的剖面面积A4。根据本专利技术的实施例，环50可附于蒸汽出口 40。在这种情 况下，不需要改变环50内部的开口的尺寸，环50可以永久地附于蒸汽出口 40。环50可被 形成为具有管道状的形状并可利用摩擦力或使用诸如焊接的附着方法附于蒸汽出口 40。通过布置环50，流出蒸发室1本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种蒸发器，所述蒸发器包括：蒸发室，具有流体入口和蒸汽出口；蒸汽喷嘴，在蒸汽出口中；环，设置在蒸发室和蒸发喷嘴之间，环增大蒸发室内的压力同时通过喷嘴的出口的传导率不变。

【技术特征摘要】
2010.12.06 KR 10-2010-0123484;2009.12.31 US 12/6501.一种蒸发器，所述蒸发器包括 蒸发室，具有流体入口和蒸汽出口； 蒸汽喷嘴，在蒸汽出口中；环，设置在蒸发室和蒸发喷嘴之间，环增大蒸发室内的压力同时通过喷嘴的出口的传 导率不变。2.如权利要求1所述的蒸发器，其中，环的剖面面积小于蒸汽喷嘴的剖面面积。3.如权利要求1所述的蒸发器，其中，环包括可插入到蒸汽出口的第一部分。4.如权利要求3所述的蒸发器，其中，环包括环形圆环。5.如权利要求3所述的蒸发器，其中，第一部分还包括向外延伸部分。6.如权利要求5所述的蒸发器，其中，第一部分包括具有环形法兰的环形圆环。7.如权利要求5所述的蒸发器，其中，向外延伸部分包括至少一个片。8.如权利要求3所述的蒸发器，其中，第一部分的剖面面积小于蒸汽喷嘴的剖面面积。9.如权利要求1所述的蒸发器，其中，环包括第一环和第二环，第一环具有可插入到蒸 汽出口中的第一部分，第二环插入到第一部分中，第二环的剖面面积小于蒸汽喷嘴的剖面 面积。10.如权利要求1所述的蒸发器，其中，环包括可插入到蒸汽出口的第一部分和连接到 第一部分的第二部分，第二部分的剖面面积小于蒸汽喷嘴的剖面面积。11.如权利要求10...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩东垣，戴咪恩·波斯，
申请(专利权)人：三星移动显示器株式会社，
类型：发明
国别省市：KR