用于太阳电池表面抗反射的蛾眼结构的制备方法技术

技术编号:6681567 阅读:424 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种用于太阳电池表面抗反射的蛾眼结构的制备方法,包括以下步骤:步骤1:取一太阳能电池所用的外延片,对外延片进行清洗;步骤2:在外延片上旋涂光刻胶;步骤3:对光刻胶进行前烘,形成样品;步骤4:采用双光束干涉曝光设备,对样品两次曝光、显影,形成二维周期光刻胶掩膜图形;步骤5:对显影后的样品进行后烘;步骤6:对样品进行干法刻蚀;步骤7:去除光刻胶掩膜图形,完成蛾眼结构的制备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体光电器件
,尤其涉及到用于太阳能电池表面抗反射的 蛾眼结构的制备方法。
技术介绍
太阳光从空气进入半导体层,空气折射率为1,而半导体材料如GaAs,Si折射率在 3以上,因而界面处会形成大折射率阶跃,由此产生的Fresnel反射会损耗30%以上的能 量。目前通用的解决方法是采用1/4λ波长的介质膜作为抗反射层,但其带宽有限;多层介 质抗反射层具有宽光谱抗反射效果,但受限于各层材料折射率的选择与匹配,膜层边界的 热膨胀系数不同,以及膜层界面出现的材料扩散等问题,器件可靠性与稳定性不佳,特别是 当工作在极端条件下,如极高温度,此类问题尤为突出。受自然界蛾眼结构宽光谱抗反射功 能的启发,我们提出将制备类蛾眼结构,将其作为抗反射层用于太阳能电池,以提高对光的 吸收并增大电池光电转换效率。蛾眼结构实际是一种二维亚波长双周期纳米结构,侧壁倾 斜,可以等效为具有渐变折射率的抗反射层。其亚波长的性质,使得光入射时仅存在零级反 射光,进一步地抑制了反射,且这一性质在变角度入射时尤为明显,使反射谱对入射角度的 变化不敏感。蛾眼抗反射结构与多层膜系的抗反射结构相比,具有更高的可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于太阳电池表面抗反射的蛾眼结构的制备方法,包括以下步骤:步骤1:取一太阳能电池所用的外延片,对外延片进行清洗;步骤2:在外延片上旋涂光刻胶;步骤3:对光刻胶进行前烘,形成样品;步骤4:采用双光束干涉曝光设备,对样品两次曝光、显影,形成二维周期光刻胶掩膜图形;步骤5:对显影后的样品进行后烘;步骤6:对样品进行于法刻蚀;步骤7:去除光刻胶掩膜图形,完成蛾眼结构的制备。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈熙樊中朝李宁宋国锋陈良惠
申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
类型:发明
国别省市:11

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