【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种电极表面处理方法及装置，它主要应用于电化学中的电极表面抛光。
技术介绍
在电化学研究及电化学分析领域，通常利用固体电极来做工作电极，而在此过程 中，通常会遇到电极表面失活的现象。由于电极表面暴露于空气中，或者在使用过程中在电 极表面形成氧化膜，或者电极表面吸附了有机物质如醌类、酚类、内酯等，或者电极表面吸 附反应生成物或者反应物等，致使电极表面的电子传递速度、被分析物质的吸附性能以及 分析结果的灵敏度和线性都受到一定程度的影响。所以就需要对电极表面进行抛光处理。 电极表面处理程度及其效果直接影响到分析结果。目前对常用电极如玻碳盘电极、金盘电极和钼盘电极等，电极表面处理方式有多 种，包括物理抛光、电化学方法、溶剂清洗、真空热处理、激光处理、射频等离子体处理和氢 等离子体处理等。但是在以上各种方式中，采用物理抛光处理是目前效果最理想、成本最低、也是最 常用的方法。该方法将抛光材料放置于抛光板上，加入水或乙醇溶液将抛光材料变成乳浊 液，通过旋转电极等方式将电极表面进行更新处理。而电极表面结构比较精细，一般的机械抛光装置无法应用于电极表面处理过程 中。...
【技术保护点】
１．一种电极表面处理方法，包括以下步骤：ａ、利用夹紧机构固定电极，使电极垂直于设置在转盘上的抛光布；将抛光粉放至抛光布上并添加溶剂，使抛光粉与溶剂混合形成乳浊液；ｂ、对夹紧机构施加压力以控制电极与抛光布之间的压力，转动转盘，对电极表面进行抛光直至达到要求。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张思相，王晓宇，项光宏，王静，
申请(专利权)人：聚光科技杭州股份有限公司，无锡聚光盛世传感网络有限公司，
类型：发明
国别省市：86
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