一种电极表面处理方法及装置制造方法及图纸

技术编号:6681413 阅读:264 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种电极表面处理方法,包括以下步骤:a、利用夹紧机构固定电极,使电极垂直于设置在转盘上的抛光布;将抛光粉放至抛光布上并添加溶剂,使抛光粉与溶剂混合形成乳浊液;b、对夹紧机构施加压力以控制电极与抛光布之间的压力,转动转盘,对电极表面进行抛光直至达到要求。本发明专利技术还提供了一种电极表面处理装置。本发明专利技术能够实现对电极表面的抛光,尤其是实现对内外层材料不一、物理性质差异较大的电极表面处理问题,本发明专利技术抛光效果好、可实施性强等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电极表面处理方法及装置,它主要应用于电化学中的电极表面抛光。
技术介绍
在电化学研究及电化学分析领域,通常利用固体电极来做工作电极,而在此过程 中,通常会遇到电极表面失活的现象。由于电极表面暴露于空气中,或者在使用过程中在电 极表面形成氧化膜,或者电极表面吸附了有机物质如醌类、酚类、内酯等,或者电极表面吸 附反应生成物或者反应物等,致使电极表面的电子传递速度、被分析物质的吸附性能以及 分析结果的灵敏度和线性都受到一定程度的影响。所以就需要对电极表面进行抛光处理。 电极表面处理程度及其效果直接影响到分析结果。目前对常用电极如玻碳盘电极、金盘电极和钼盘电极等,电极表面处理方式有多 种,包括物理抛光、电化学方法、溶剂清洗、真空热处理、激光处理、射频等离子体处理和氢 等离子体处理等。但是在以上各种方式中,采用物理抛光处理是目前效果最理想、成本最低、也是最 常用的方法。该方法将抛光材料放置于抛光板上,加入水或乙醇溶液将抛光材料变成乳浊 液,通过旋转电极等方式将电极表面进行更新处理。而电极表面结构比较精细,一般的机械抛光装置无法应用于电极表面处理过程 中。因此在应用中,一般采用手工物理抛光。手工物理抛光时,用手扶住电极以保证电极与抛光板之间相垂直,同时,旋转电极 或抛光板,对电极表面进行抛光;但在抛光过程中,会存在以下问题1、为保证电极处理过程电极抛光的效果,电极与抛光板之间要垂直,而采用手工 扶住电极使其满足要求,就需要操作者具有一定的专业知识,能够掌握一定的电极抛光技 巧;因此不同操作者对电极抛光的程度不能达到一致,致使电极抛光的效果不能得到保 证;2、由于抛光过程中所用抛光粉为固体小颗粒,对于手工物理抛光来说,操作环境 较差,易对操作人员带来不良影响;3、电极处理过程繁琐复杂,需要专业人员操作,一定程度上影响了电化学分析方 法的推广和应用。由于在实际电极抛光过程中,涉及到的大都是双层电极,且双层电极内外层材料 不同,如图1所示。电极包括外层20、内层30和铜螺柱40,铜螺柱40用于将电极与外界电 源相连;外层20为聚四氟乙烯,内层30为玻碳;这种结构的特点是内层和外层硬度及其它 物理性质差异较大;若采用一般的机械抛光装置对电极抛光,由于电极与抛光布之间摩擦生热,电极 受热膨胀,但电极内外两层材料的热膨胀系数不同,材料的硬度也不同,致使在相同的抛光 条件下,电极内外层材料的抛光程度不同;这样抛光后电极会发生变形,同时,在电极内外两层材料之间会产生缝隙50,致使电极发生“漏液”现象。
技术实现思路
为了解决现有技术中的上述不足,本专利技术提供了 一种应用于电化学中的电极表面 处理方法和装置。为实现上述专利技术目的,本专利技术采用如下技术方案一种电极表面处理方法,包括以下步骤a、利用夹紧机构固定电极,使电极垂直于设置在转盘上的抛光布;将抛光粉放至抛光布上并添加溶剂,使抛光粉与溶剂混合形成乳浊液;b、对夹紧机构施加压力以控制电极与抛光布之间的压力,转动转盘,对电极表面 进行抛光直至达到要求。进一步,所述电极为内外层材料不一致的双层结构。进一步,转盘转速不大于200r/min。进一步,施加在夹紧机构上的压力不大于50N。进一步,在步骤b中,对电极抛光时间不大于300s。作为优选,在步骤b中,采用加压机构对夹紧机构施加压力。作为优选,采用压力传感器测量施加在夹紧机构上的压力,并据此反馈控制施加 在夹紧机构上的压力。本专利技术还提供了一种电极表面处理装置,包括抛光机构、夹紧机构、动力机构和支 座;所述抛光机构、夹紧机构分别与支座相连;所述抛光机构包括转盘和抛光布,所述抛光布设置在转盘上;所述夹紧机构设置在抛光机构的上方;所述夹紧机构固定电极,使电极垂直于设 置在转盘上的抛光布,并承受压力,使电极与抛光布相接触;所述动力机构控制转盘转动。进一步,所述电极为内外层材料不一致的双层结构。作为优选,所述处理装置还包括设置在夹紧机构上的压力传感器,测量施加在夹 紧机构上的压力。所述处理装置还包括加压机构,所述加压机构设置在支座上夹紧机构的上方,并 与之相接触。进一步,所述处理装置还包括分别与加压机构和压力传感器相连的压力反馈模 块,以控制加压装置施加在夹紧机构上的压力。作为优选,所述夹紧机构为螺钉锁紧或锁簧锁紧或电磁锁紧结构。本专利技术与现有技术相比具有以下有益效果1、采用机械装置直接对电极表面进行抛光,且抛光效果良好,可实施性强,能够实 现一般电极表面抛光处理;避免了手工操作效果无法保证的缺陷;2、避免了电极处理需要专业技巧问题,使没有电化学专业背景的人员能够进行电 极抛光处理;3、通过对夹紧机构施加压力以控制电极与抛光布之间的压力,避免了对电极直接 施加压力而导致电极结构的损坏;4、由于不用人工手扶电极,就极大地减轻了颗粒状抛光粉对人体造成的损害,改 善了电极处理试验操作环境;5、由于电极抛光时转盘转速可以调整,能够在转盘转速较小的情况下,实现对内 外两层材料不一、物理性质差异较大的盘电极等电极表面处理问题;6、对电极抛光参数进行了限定,以使电极在适当的转速和压力条件下,抛光一定 时间,获得较为满意的抛光效果,避免了因转速过大带来的电极漏液现象,也避免了因压力 过大使电极磨损过多而带来的对电极的浪费;7、节省了电极处理时间,同时降低了由于电极处理问题导致的试验效果较差的可 能。附图说明图1为双层电极结构示意图2为实施侈1中电极表面处理装置结构侧视图3为实施侈1中电极表面处理装置结构后视图4为实施侈1中夹紧机构结构主视图5为实施侈1中夹紧机构结构侧视图6为实施侈1中夹紧机构结构俯视图7为实施侈1中加压模块主视图8为实施侈2中加压机构主视图9为实施侈3中夹紧机构结构后视图10为实施列3中夹紧机构结构侧视图11为实施列4中夹紧机构结构主视图12为实施列4中夹紧机构结构侧视图13为实施列5中电极表面处理装置结构侧视图14为实施列5中电极表面处理装置结构主视图15为实施列5中电极抛光之前利用循环伏安法测定扫描波形图图16为实施列5中电极抛光之后利用循环伏安法测定扫描波形图图17为实施列6中电极抛光之前利用循环伏安法测定扫描波形图图18为实施列6中电极抛光之后利用循环伏安法测定扫描波形图图19为实施列7中电极抛光之前利用循环伏安法测定扫描波形图图20为实施列7中电极抛光之后利用循环伏安法测定扫描波形图图21为实施列8中电极抛光之前利用循环伏安法测定扫描波形图图22为实施列8中电极抛光之后利用循环伏安法测定扫描波形图。具体实施例方式本专利技术所述垂直不是绝对垂直,在满足电极处理要求时允许存在一定误差。实施例1请参阅图2和图3,一种电极表面处理装置,包括抛光机构1、夹紧机构21、动力机 构4和支座5 ;5所述抛光机构1、夹紧机构21分别与底座5相连;所述抛光机构1包括转盘11和抛光布12,所述抛光布12固定在转盘11上,所述 抛光布12为麂皮或金相砂纸,本实施例采用麂皮;所述夹紧机构21设置在抛光机构1的上方;请参阅图4、图5和图6,所述夹紧机构21包括背板211、压板212、锁紧结构和导 轨214,所述锁紧结构为锁簧213和手柄216 ;在所述背板211和压板212的相对位置设置凹槽215,用于放置电极10,并保证电 极10垂直于设置在本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种电极表面处理方法,包括以下步骤:a、利用夹紧机构固定电极,使电极垂直于设置在转盘上的抛光布;将抛光粉放至抛光布上并添加溶剂,使抛光粉与溶剂混合形成乳浊液;b、对夹紧机构施加压力以控制电极与抛光布之间的压力,转动转盘,对电极表面进行抛光直至达到要求。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张思相王晓宇项光宏王静
申请(专利权)人:聚光科技杭州股份有限公司无锡聚光盛世传感网络有限公司
类型:发明
国别省市:86

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