本实用新型专利技术涉及一种硅片清洗废水回用装置，包括相连通的回用水蓄水池、增压水泵、压力水罐及脱胶机蓄水槽；回用水蓄水池内设置有第一液位传感器，压力水罐上设置有压力传感器，第一液位传感器及压力传感器与增压水泵的电控器电连接；脱胶机蓄水槽内设置有第二液位传感器，第二液位传感器与第一电磁阀及第二电磁阀电连接。本实用新型专利技术可充分利用清洗机排放的废水供脱胶机使用，提高了废水回用率，能够有效节约生产用水，减少废水排放；本实用新型专利技术还可以省去清洗机和脱胶机自带的废水回用装置，在节约生产成本的同时也可节约设备成本。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光伏产业的硅片清洗机，具体地说是一种硅片清洗废水回用装置。
技术介绍
在太阳能生产企业的硅片生产中，切割完的硅片要经过多级清洗，去除附着在硅 片表面的砂浆、油污、灰尘等附着物，以满足后道工序的加工工艺要求。目前所用的硅片清 洗机为多级槽式清洗机，一般由九个清洗槽组成，使用阶梯式槽位设计，并将后面五个槽的 排放废水部分用于前面的一到四槽的补水，实现了排放废水的部分回用，但是废水回用率 不足10%，而且增加了每台清洗机的制造成本。
技术实现思路
本技术针对上述问题，提供一种硅片清洗废水回用装置，该装置可充分利用 清洗机排放的废水，成本低。按照本技术的技术方案一种硅片清洗废水回用装置，包括回用水蓄水池、增 压水泵、压力水罐及脱胶机蓄水槽；所述回用水蓄水池与回用水进水管相连通，所述回用水 蓄水池通过抽水管与所述增压水泵相连通，所述增压水泵通过压力水罐进水管与所述压力 水罐相连通，所述压力水罐通过压力水罐出水管与第一电磁阀相连通，所述第一电磁阀通 过回用水补水管与所述脱胶机蓄水槽相连通，所述脱胶机蓄水槽与自来水补水管相连通， 所述自来水补水管上设置有第二电磁阀；所述回用水蓄水池内设置有第一液位传感器，所 述压力水罐上设置有压力传感器，所述第一液位传感器及所述压力传感器与所述增压水泵 的电控器电连接；所述脱胶机蓄水槽内设置有第二液位传感器，所述第二液位传感器与所 述第一电磁阀及所述第二电磁阀电连接。所述回用水蓄水池低于地面。所述回用水进水管上设置有滤网。所述回用水蓄水池上设置有溢流口。所述压力传感器的上限值为0. 3MPa,其下限值为0. 2MPa。本技术的技术效果在于本技术可充分利用清洗机排放的废水供脱胶机 使用，提高了废水回用率，能够有效节约生产用水，减少废水排放；本技术还可以省去 清洗机和脱胶机自带的废水回用装置，在节约生产成本的同时也可节约设备成本。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术的具体实施方式作进一步的说明。图1中，包括回用水蓄水池1、回用水进水管11、滤网12、第一液位传感器13、溢流 口 14、抽水管15、增压水泵2、压力水罐3、压力水罐进水管31、压力传感器32、压力水罐出 水管33、脱胶机蓄水槽4、第一电磁阀41、回用水补水管42、第二液位传感器43、第二电磁阀 44、自来水补水管45等。如图1所示，本技术是一种硅片清洗废水回用装置，包括回用水蓄水池1、增 压水泵2、压力水罐3及脱胶机蓄水槽4。回用水蓄水池1低于地面。回用水蓄水池1与回用水进水管11相连通，回用水进 水管11上设置有滤网12，滤网12起过滤作用。硅片清洗机排放的废水通过回用水进水管 11采用自流方式直接排放到回用水蓄水池1。回用水蓄水池1上设置有溢流口 14，如果超 过最高液位就通过溢流口 14排出。回用水蓄水池1通过抽水管15与增压水泵2相连通，增压水泵2通过压力水罐进 水管31与压力水罐3相连通，压力水罐3通过压力水罐出水管33与第一电磁阀41相连通， 第一电磁阀41通过回用水补水管42与脱胶机蓄水槽4相连通，脱胶机蓄水槽4与自来水 补水管45相连通，自来水补水管45上设置有第二电磁阀44。回用水蓄水池1内设置有第一液位传感器13，压力水罐3上设置有压力传感器 32，第一液位传感器13及压力传感器32与增压水泵2的电控器电连接。增压水泵2由第 一液位传感器13及压力传感器32共同控制，将回用水蓄水池1中的回用水打入压力水罐 3中。脱胶机蓄水槽4内设置有第二液位传感器43，第二液位传感器43与第一电磁阀 41及第二电磁阀44电连接。由第二液位传感器43控制第一电磁阀41及第二电磁阀44的 打开，通过回用水补水管42、自来水补水管45向脱胶机蓄水槽4内补水。压力传感器32的上限值为0. 3MPa，其下限值为0. 2MPa。本技术的工作过程如下当回用水蓄水池1中的水位大于设定高度(距离回 用水蓄水池1底部25厘米)，并且压力水罐3的压力低于设定的最低值(0. 2 MPa)时，增压 水泵2通过抽水管15把回用水蓄水池1中的水打入压力水罐3中；当回用水蓄水池1中的 水位低于设定最低高度(距离回用水蓄水池1底部5厘米)，或者压力水罐3压力达到设定 的最大值(0.3 MPa)时，增压水泵2自动停止。当脱胶机蓄水槽4中的液位低于设定的低 液位时，回用水补水管42和自来水补水管45的电磁阀41、44同时打开，两路管道同时给脱 胶机蓄水槽4补水。一般脱胶机的用水量为清洗机的四倍，清洗机与脱胶机的配置比例为2 :1，所以 清洗机的回用水最多只能满足脱胶机一半的用水量，其余用水量还需要用自来水补足。使 用本技术后，可充分利用清洗机排放的废水供脱胶机使用，提高了废水回用率，能够有 效节约生产用水，减少废水排放；脱胶机自带的废水回用系统可以不用，可以将脱胶机溢流 漂洗槽的排放废水排放至回用水蓄水池，由本技术一起处理，这样可以省去清洗机和 脱胶机自带的废水回用装置，在节约生产成本的同时也可节约设备成本。权利要求1.一种硅片清洗废水回用装置，其特征是包括回用水蓄水池(1)、增压水泵(2)、压力 水罐(3)及脱胶机蓄水槽(4)；所述回用水蓄水池(1)与回用水进水管(11)相连通，所述回 用水蓄水池(1)通过抽水管(15)与所述增压水泵(2)相连通，所述增压水泵(2)通过压力水 罐进水管(31)与所述压力水罐(3)相连通，所述压力水罐(3)通过压力水罐出水管(33)与 第一电磁阀(41)相连通，所述第一电磁阀(41)通过回用水补水管(42)与所述脱胶机蓄水 槽(4)相连通，所述脱胶机蓄水槽(4)与自来水补水管(45)相连通，所述自来水补水管(45) 上设置有第二电磁阀(44)；所述回用水蓄水池(1)内设置有第一液位传感器(13)，所述压 力水罐(3)上设置有压力传感器(32)，所述第一液位传感器(13)及所述压力传感器(32)与 所述增压水泵(2 )的电控器电连接；所述脱胶机蓄水槽(4 )内设置有第二液位传感器(43 )， 所述第二液位传感器(43 )与所述第一电磁阀(41)及所述第二电磁阀(44 )电连接。2.按照权利要求1所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是所述回用水蓄水池(1)低 于地面。3.按照权利要求1或2所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是所述回用水进水管 (11)上设置有滤网(12)。4.按照权利要求1或2所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是所述回用水蓄水池 (1)上设置有溢流口(14)。5.按照权利要求1或2所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是所述压力传感器 (32)的上限值为0. 3MPa，其下限值为0. 2MPa。专利摘要本技术涉及一种硅片清洗废水回用装置，包括相连通的回用水蓄水池、增压水泵、压力水罐及脱胶机蓄水槽；回用水蓄水池内设置有第一液位传感器，压力水罐上设置有压力传感器，第一液位传感器及压力传感器与增压水泵的电控器电连接；脱胶机蓄水槽内设置有第二液位传感器，第二液位传感器与第一电磁阀及第二电磁阀电连接。本技术可充分利用清洗机排放的废水供脱胶机使用，提高了废水回用率，能够有效节约生产用水，减少废水排放；本技术还可以省去清本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种硅片清洗废水回用装置，其特征是：包括回用水蓄水池（１）、增压水泵（２）、压力水罐（３）及脱胶机蓄水槽（４）；所述回用水蓄水池（１）与回用水进水管（１１）相连通，所述回用水蓄水池（１）通过抽水管（１５）与所述增压水泵（２）相连通，所述增压水泵（２）通过压力水罐进水管（３１）与所述压力水罐（３）相连通，所述压力水罐（３）通过压力水罐出水管（３３）与第一电磁阀（４１）相连通，所述第一电磁阀（４１）通过回用水补水管（４２）与所述脱胶机蓄水槽（４）相连通，所述脱胶机蓄水槽（４）与自来水补水管（４５）相连通，所述自来水补水管（４５）上设置有第二电磁阀（４４）；所述回用水蓄水池（１）内设置有第一液位传感器（１３），所述压力水罐（３）上设置有压力传感器（３２），所述第一液位传感器（１３）及所述压力传感器（３２）与所述增压水泵（２）的电控器电连接；所述脱胶机蓄水槽（４）内设置有第二液位传感器（４３），所述第二液位传感器（４３）与所述第一电磁阀（４１）及所述第二电磁阀（４４）电连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王秦伟，杨乐，何勤忠，
申请(专利权)人：高佳太阳能股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32
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