荧光膜制造技术

技术编号:6663724 阅读:193 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开一种荧光膜,其包括一荧光激发膜及一紫外线阻挡层,该荧光激发膜可在紫外线照射下发光,该紫外线阻挡层覆设于荧光激发膜外表面,可阻挡紫外线。本实用新型专利技术荧光膜通过紫外线阻挡层对紫外线的阻挡作用,既能避免环境当中微量紫外线的干扰,进而增强荧光膜发光对比度,还能阻挡内部工作紫外线透过荧光膜,进而确保人眼的安全。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本实用新 型涉及一种荧光膜,尤其涉及一种可以提高发光对比度的荧光膜。
技术介绍
请参阅图5,当前一种荧光膜200包括一荧光激发膜101,该荧光激发膜101是在 塑料膜中掺杂荧光粉制得,该荧光粉遇紫外线照射便能发出荧光。请参阅图6及图7,荧光膜200工作时,一般要提供高功率的工作紫外线30,这些 紫外线照射于荧光膜200而使荧光激发膜101发出工作荧光。然而,由于环境当中存在微 量紫外线40,这些紫外线亦照射于荧光膜200而使荧光激发膜101发出背景荧光,该背景荧 光不可消除,夹杂在工作荧光当中,降低了荧光膜200的发光对比度;同时,高功率的工作 紫外线30大部分被荧光激发膜101所吸收,而剩余的小部分紫外线将透过荧光膜200而可 能对环境造成紫外线污染。
技术实现思路
本技术的目的就是提供一种既能增强荧光膜发光对比度又能减少紫外线污 染的荧光膜。为了达成上述的目的,本技术提供一种荧光膜,包括一荧光激发膜及一紫外 线阻挡层,该荧光激发膜可在紫外线照射下发光,该紫外线阻挡层覆设于荧光激发膜外表 面,可阻挡紫外线。如上所述,本技术荧光膜通过紫外线阻挡层对紫外线的阻挡作用,既能避免 环境当中微量本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种荧光膜,包括一荧光激发膜,该荧光激发膜可在紫外线照射下发光,其特征在于:荧光激发膜外表面覆设一可阻挡紫外线的紫外线阻挡层可阻挡紫外线。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:于英杰
申请(专利权)人:富港电子东莞有限公司正崴精密工业股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:44

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1