本发明专利技术涉及一种运送式基板处理装置中的节水型清洗系统。可在维持高度的清洗性能的同时，大幅度地减少清洗水的使用量。在化学液处理区的下游侧，沿基板运送方向，排列多个清洗区。在最上游侧的清洗区中，设置桨处理用的清洗机构。在第2级以后的清洗区设置喷淋处理用的清洗机构，以及回收使用后的清洗水的箱。将由未使用的纯水形成的清洗水供向最下游侧的清洗区中的清洗机构。将使用后的清洗水按照阶梯方式依次送给上游侧的清洗区中的清洗机构。废弃最上游侧的清洗区的使用完的清洗水。在基板前端进入到最上游侧的清洗区之前，该清洗区中的清洗机构的清洗水开始排出，即使基板后端与该清洗区脱离之后，仍按照规定时间继续排出清洗水。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在液晶面板用玻璃基板的各种处理等所采用的基板清洗装置，更具体地说，称为平流式的运送式基板处理装置中，相对过去可节制蚀刻液、剥离液等的化学液处理之后的清洗处理所使用的清洗水的使用量的节水型清洗系统。
技术介绍
在液晶面板的制造中，在作为材料的大面积的玻璃基板的表面上，反复地进行抗蚀剂涂敷、显影、蚀刻、抗蚀剂剥离的各种处理，由此，在基板表面上形成集成电路。各种处理方式的代表性的方式之一属于称为平流方式的基板运送方式的基板处理装置，在沿水平方向运送基板的同时，在其表面上，反复进行各种处理。比如，在平流式的蚀刻处理中，在以水平姿势或以在侧方倾斜的姿势沿水平方向运送的基板的表面上，在蚀刻区供给蚀刻液，接着，在冲洗区，通过清洗水进行表面清洗。通过图6，对平流式蚀刻处理中的基板清洗装置的过去典型的装置结构进行说明。沿基板的运送方向，依次排列有蚀刻区1、第1冲洗区2A、第2冲洗区2B、最终冲洗区2C以及干燥区3。各区由独立的腔构成，分别设置为了进行基板运送而沿运送方向并列的多个运送辊。在蚀刻区1的出口附近，为了去除附着于基板的表面上的蚀刻液，比如，上下一组的气刀4、4按照夹持基板运送线的方式设置。在第1冲洗区2A、第2冲洗区2B以及最终冲洗区2C中，按照夹持基板运送线的方式分别设置向基板的两面排出供给清洗水的上下一对的喷淋系统5A、5B和5C。为了去除附着于基板的两个表面上的清洗水，在干燥区 3按照夹持基板运送线的方式设置上下一对的气刀6、6。清洗水与基板运送方向相反，按照最终冲洗区2C、第2冲洗区2B、第1冲洗区2A 的顺序以阶梯方式供给。即，首先由未使用的纯水形成的清洗水从最终冲洗区2C中的喷淋系统5C、5C排出，对基板的两个面进行清洗。使用后的清洗水回收到设置于最终冲洗区2C 中的箱7C的内。箱7C内的清洗水从第2冲洗区2B中的喷淋系统5B、5B排出，对基板的两个表面进行清洗。使用后的清洗水回收到设置于第2冲洗区2B中的箱7B的内。箱7B内的清洗水从第1清洗区2A中的喷淋系统5A、5A排出，对基板的两个表面进行清洗。将清洗使用完的清洗水废弃。由此，清洗水的清洁度按照第1冲洗区2A、第2冲洗区2B、最终冲洗区2C的顺序提高，以少量的清洗水进行有效的清洗。S卩，在基板运送线上行进的基板在蚀刻区1接受蚀刻处理，通过出口附近的气刀 4，按照在两面没有干燥的程度，从两面去除蚀刻液，然后，在第1冲洗区2A，通过清洁度低 (污染度高的)清洗水，对两个面预先进行清洗。将使用后的清洗水废弃。接着，在第2冲洗区2B，通过清洗度高(污染度低的)清洗水，对两个面进行正式清洗，最后，通过由最终冲洗区2C未使用的纯水形成的清洗水，对两个面进行最终清洗。由于采用越是往下游侧，清洁度越高的清洗水，故串联地使用清洗水，尽管谋求该使用量的削减，但也可使基板具有较高的清洁度。只要用于像日本那样的水丰富的国家、地域，即使在按照阶梯方式使用清洗水的上述这样的基板清洗装置中的情况下，仍没有特别的问题。但是，具有因国家、地域，对清洗水的使用量，有较大的限制的情况，在这样的场合，即使在上述方式的基板的清洗装置中， 清洗水的使用量也过大，人们寻求可进行进一步节水的基板清洗装置。 关于基板清洗装置中的节水，在专利文献1中公开有下述的基板清洗装置，其中， 在化学液处理区和喷淋式水洗区之间，组合有液膜式清洗机构，其呈幕状将清洗水供给到基板表面上；液刀的除液机构，其在液膜式清洗机构的下游侧，使清洗水呈液膜状，并且相对基板运送方向，沿相反方向倾斜而排出，置换残留于基板的两个表面上的清洗液。另外， 在专利文献2中，公开有下述的基板清洗装置，其中，组合有第1喷嘴排和第2喷嘴排，在该第1喷嘴排中，沿与基板运送方向相垂直的水平方向并列有多个平型喷雾嘴，各喷雾嘴按照沿周向每次按照相同角度而扭转的方式配置，在该第2喷嘴排中，在第1喷嘴排的下游侧，多个平型喷雾嘴按照来自各喷雾嘴的液膜重叠的方式沿与基板运送方向相垂直的水平方向并列，形成幕状的液膜。在任意的基板清洗装置中，按照在结束化学液处理的基板的表面上的运送方向的一部分上，在全宽范围内，集中供给清洗水的所谓的桨方式，进行清洗。在基板的表面上的运送方向的一部分上在全宽范围内供给的清洗水呈厚膜状放置于基板上，排到侧方。这样的桨清洗每次一部分地对基板运送方向较窄的部分进行清洗，将化学液置换为清洗水，由此，与喷淋清洗相比较，可大幅度地削减清洗水的使用量。但是，在考虑清洗效果的场合，实际的情况是，其节水量谈不上充分。在先技术文献专利文献专利文献1 :W02005/053006A1 号文献专利文献2 日本特开2006-205086号文献本专利技术的目的在于提供可在维持高度的清洗性能的同时，大幅度地削减清洗水的使用量的运送式基板处理装置中的节水型清洗系统。
技术实现思路
为了实现上述目的，本专利技术人认为，虽然在专利文献1、2中记载的这样的有效的喷嘴结构的开发均是必要的，但是，重要的是，按照其以上的程度，从总体上以多角度检讨基板处理装置中的清洗系统整体，从清洗效率、清洗水的水质管理的两个方面，进行清洗系统的重新评估。其结果是，判明下述的事实。为了提高清洗性，化学液的基板处理后的清洗区必须要求多级，为了节约清洗水， 从下游侧向上游侧，按照阶梯的方式将清洗水供向多个清洗区这一点是不可缺少的。由于在阶梯供水中，最上游侧的清洗区使用完的清洗水的污染度高，故全部废弃，这一点对于将清洗水的污染度抑制在较低程度来说是有效的。其结果是，供向最下游侧的清洗区的清洗水量，与从最上游侧的清洗区排出的清洗水量相等，其结果是，从最上游侧的清洗区排出的清洗水的量支配清洗水的使用量。由此，节约最上游侧的清洗区的清洗水量，减少清洗水的废弃量这一点是重要的，从此观点来说，作为最上游侧的清洗区的清洗方式的桨处理是不可缺少的。在最上游侧的清洗区采用桨处理的场合，针对每个基板，间歇地供给清洗水。艮口， 在基板前端到达桨处理区跟前时，开始清洗水的排出，在基板后端完全通过桨处理区之后， 停止清洗液的排出。由此，在基板的运送的运送方向全长的范围内，进行桨处理。桨处理中来自排出喷嘴的单位时间的排出量按照可进行必要的液置换的方式设定。由此人们认为， 相对基板全长通过的时间，极力地排除无用的排出时间这一点与清洗水的节约有关。但是，如果缩短最上游侧的桨处理的清洗水排出时间，则桨处理部的总排出量减少，清洗水的废弃量也减少，由此，最下游侧的清洗区的未使用的清洗水的供给量减少，清洗水的污染度增加，其结果是，清洗水的使用量增加。图5表示阶梯供水方式清洗系统的最上游侧区所采用的清洗水的污染度和使用量之间的关系。所要求的清洗质量相同。于是， 根据该图，知道下述的内容。有清洗水的污染度越高，其使用量越增加的倾向。关于最上游侧的清洗区所采用的清洗水的污染度，如果所要求的清洗质量相同，则在清洗系统中，存在固有的允许限度， 系统长度越小，允许限度越低。即，即使在污染度高的情况下，如果增加处理次数，仍确保清洗品质，按照此程度，系统长度增加。由此，为了减小系统长度，最上游侧的清洗区的污染度的降低是不可缺少的。如此，从下游侧向上游侧串联地供给清洗水的阶梯方式的场合，清洗水的污染度最高的最上游侧的清洗区所采用的清本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种运送式基板装置中的节水型清洗系统，该系统设置于运送式基板装置中，通过清洗水对化学液处理后的基板进行清洗处理，其特征在于：包括：多个清洗区，其沿基板运送方向排列于化学液处理区的下游侧；桨处理用的清洗机构，其设置于最上游侧的清洗区；分别设置于第２级以后的清洗区的喷淋处理用的清洗机构和回收使用后的清洗水的箱；供水系统，其将由未使用的纯水形成的清洗水，供向最下游侧的清洗区中的清洗机构；阶梯方式的送水系统，其将各箱内的清洗水依次送给上游侧的清洗区中的清洗机构；排水系统，其将在最上游侧的清洗区的使用完的清洗水排出；按照下述方式设定来自该清洗区中的清洗机构的清洗水的排出开始时刻和排出结束时刻，该方式为：在基板前端进入最上游侧的清洗区的时刻之前，开始来自该清洗区中的清洗机构的清洗水的排出，在基板后端与该清洗区脱离的时刻之后，停止来自该清洗区中的清洗机构的清洗水的排出，并且确保将从最上游侧的清洗区中的清洗机构排出的清洗水的污染度维持在允许限度内，且在该限度附近所必需的清洗水的排出时间。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：小泉晴彦，松元俊二，
申请(专利权)人：住友精密工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。