用于捕获部件的相对位置的装置和清洗处理装置制造方法及图纸

技术编号:6646186 阅读:146 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种用于捕获位置可以相对于清洗处理装置(10)的参考部件(12)和相应的清洗处理装置而改变的部件(14)的相对位置的装置,该清洗处理装置尤其是清洗机或干燥机,所述装置包括:-至少一个光源(34,38,42),-至少一个光接收器(36,40,44),-光反射表面(50,52),其将所述光源(34,38,42)发射的光反射至所述光接收器(36,40,44),所述装置被设计成根据所述光接收器(36,40,44)所捕获的所述反射光来捕获所述位置可变化的部件(14)相对于所述参考部件(12)的当前的相对位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于捕获部件的相对位置的装置,所述部件的位置可以相对于清洗处理装置(尤其是清洗机或干燥机)的参考部件和相应的清洗处理装置改变。
技术介绍
这样的装置现有技术已知具有多种形式。因此,文件DE 101 04 682 Al显示电容式传感器,使用该电容式传感器,浴盆相对于清洗机的外壳的轴向距离被提供用于确定不平衡、操作中的偏转和清洗鼓的当前的负载的目的。这种方案具有的缺点是在被测量的距离的情况下,电容式传感器相对地难以评估环境的电磁干扰作用,并遭受这种环境的电磁干扰作用。在文件DE 103 34 572 B3中已知另一布置。在该文件中描述的布置的情况下,基于线圈的电磁行程传感器用于捕获所述浴盆相对于外壳的偏转。这样的电磁行程传感器也遭受干扰作用和磨损问题。文件DE 698 07 055 T3描述了一种清洗机,其中本专利技术的鼓偏转和装载通过使用 Hall元件和与之相关的磁主体来确定。在这种情形下,存在的问题是,Hall传感器也遭受电磁干扰,为了获得足够好的测量结果,需要大的均一的磁体。Hall传感器的使用还具有的缺点是,为了确定在空间上的当前的位置,总是需要3个场矢量。使用单个双极磁体是不够的,这是因为其的场分量不是一对一的。在文件DE 199 60 847 Al中,描述了使用应变仪确定浴盆在清洗机的外壳中的位置的可能性。为了评估由应变仪提供的信号,需要相对昂贵的和灵敏的放大器和补偿电路。文件DE 10 2004 043 752 B4描述了具有光学传感器的测量装置,以确定清洗鼓相对于清洗机的浴盆的旋转轴线所存在的偏转。在上述文件中的描述的光学系统具有的缺点是它必须被集成到鼓的轴承布置中,且这在结构上是昂贵的。
技术实现思路
与上述方案相比,本专利技术的目的是提供一种具有上述类型的装置,所述装置在结构上是简单的,在操作中对外部影响是不敏感的,以及具有高的测量精度。所述目的是通过用于捕获部件的相对位置的装置实现的,所述部件的位置可以相对于清洗处理装置,尤其是清洗机或干燥机,的参考部件变化,所述装置包括-至少一个光源,-至少一个光接收器,-光反射表面,其将所述光源发射的光反射至所述光接收器,所述装置被设计以根据所述光接收器捕获的所述反射光来捕获所述位置可变化的部件相对于所述参考部件的当前的相对位置或距离。根据本专利技术,位置可变化的部件(例如清洗处理装置的浴盆)相对于参考部件 (例如清洗处理装置的外壳或布置在清洗处理装置中的固定位置上的部件)的位置,基于从它所捕获的反射光和光强度被纯光学地确定。反射表面可以是分立的部件的表面,或与现有的部件(例如浴盆)一体形成。可以使用相对便宜的可利用的部件进行位置的这种光学确定。它不遭受任何电磁干涉作用。不需要相对于彼此移动的且可能遭受磨损的机械部件。通过适合地形成束路径或反射路径或反射表面,可以实现永久的可靠的结果。因此可以使用反射图案,例如一种类型的反射和非反射区域的反射栅格。还可以使用凸或凹弯曲的反射表面,尤其是球面弯曲的反射表面。类似地,还可以使用台阶形的反射表面,或在子区域中交替地凸和凹弯曲的一种反射表面,例如用于产生Fresnel结构,其使得距离测量较容易。本专利技术的另一实施方式提供了 所述反射表面是成散射反射表面的形式,其散射和反射所述光源发射的光。根据本专利技术,还可以提供,所述光源是成发光二极管(LED)、激光二极管或红外光源或类似的元件的形式。还可以在离测量点更大的距离处布置光源,且通过光波导将光引导至测量点。根据本专利技术,还可以提供,所述光接收器是成光电晶体管、光电二极管、光敏电阻、被动操作的LED或类似的元件的形式。这样的光源和光接收器是可以廉价地获得的。通过脉冲地控制光源和/或光接收器,外部光的干涉作用可以被确定且过滤掉。 还可以使用偏振光。为了简化根据本专利技术的方案中的结构,它可以提供成,至少一对光源和光接收器被彼此相邻地组合在一个模块中。在此处必须说明,测量的距离总是大于彼此相邻地布置的光源和光接收器的距离。为此,根据本专利技术的另外的实施方式,还可以设置成,布置有至少两对光源和光接收器,其被以彼此不同的对准而布置。因此,可以在清洗处理装置中,在不同的位置或/和以不同的对准来布置具有成对的光源和光接收器的这样的模块,因此用于沿着不同的空间轴线捕获位置可变化的部件和参考部件(尤其是相对于外壳)之间的可靠的相对移动。根据本专利技术,还可以设置成,围绕光源布置多个接收器,例如布置在光源的两侧上或以围绕光源的规则的角距离布置,例如以120°的角距离布置。这样,可以改善位置的确定,例如通过捕获相对的倾斜来实现。还可以补偿测量误差。这样,还可以在三维上更加容易地捕获位置。根据本专利技术,还可以设置成,以彼此成一角度布置光反射表面。因此,可以提供两对或三对光源和光接收器,彼此成垂直的布置,且固定在外壳中,且用于分配给反射表面, 所述反射表面相应地对于它们彼此垂直地对准。这样,可以确定垂直于反射表面的移动。另外地,根据本专利技术的另外的实施方式,可以设置成,所述成对的光源和光接收器相对于分配给它们的光反射表面的距离是不同的。或者说,一对光源和光接收器可以以初始状态布置在离分配给它们的光反射表面第一距离的位置处,另一对光源和光接收器可以以初始状态布置在离分配给它们的光反射表面第二距离的位置处,两个光反射表面彼此连接。这样,在基于第一和第二距离之间的已知的距离差来评估两个光接收器所确定的光反射时,可以进行测量结果的真实性检查和补偿。优选地,基本上对准两对光源和光接收器的方向。本专利技术的可替代的形式提供了,不是使用多光源,而是通过分束器(例如棱镜或双孔筛)将单一光源发射的光分成多个光束或射线束,且在离光源不同的距离处或/和以与光源不同的对准辐射到不同的光反射表面上。之后可以通过对应的光接收器以上述的方式且具有上述的优点进行评估。为了测量清洗处理装置中的压强或力,根据本专利技术,还可以提供弹簧布置,该弹簧布置被布置成使得它施加预应力至至少一对光源和光接收器与光反射表面,使得所述至少一对光源和光接收器与光反射表面到达相对于彼此预先确定的初始位置,且在偏转时变形。基于捕获的压强或捕获的力和基于依赖于压强或力变化的距离,例如可以确定具有水的清洗鼓的充满度。基于通过鼓或浴盆上的清洗物或其悬挂物的负载施加的捕获力(重量),还可以确定引入的清洗物的数量或质量。本专利技术还涉及一种清洗处理装置,尤其是清洗机或干燥机,包括-外壳,-位置可变化的部件,其可移动地承载在所述外壳中,和-上述类型的装置,其中具有至少一对光源和光接收器的传感器布置布置在外壳外面的一个部件上或位置可变化的部件上,所述光反射表面布置在外壳外面的另一部件上和位置可变化的部件上,可以根据所述光接收器捕获的所述反射光来确定所述位置可变化的部件相对于所述外壳的当前的相对位置。光反射表面可以成分立的部件的表面的形式或成清洗处理装置的部件(例如浴盆)的一体的表面的形式。例如清洗处理装置的外壳或布置在清洗处理装置中的部件可以用作外壳。还可以将传感器布置连接至浴盆,和将光反射表面连接至清洗处理装置的外壳。根据本专利技术,还可以设置成,位置可变化的部件在浴盆中,在所述浴盆中可旋转地承载清洗鼓,所述浴盆悬挂在所述外壳中,使得其位置可以变化。为此,根据本专利技术,可以是本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种用于捕获部件的相对位置的装置,所述部件的位置能够相对于清洗处理装置,尤其是清洗机或干燥机,的参考部件而变化,所述用于捕获部件的相对位置的装置包括:-至少一个光源;-至少一个光接收器;-光反射表面,其将所述光源发射的光反射至所述光接收器,所述用于捕获部件的相对位置的装置被设计成根据所述光接收器所捕获的所述反射光来捕获所述位置可变化的部件相对于所述参考部件的当前的位置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:约翰·信克尔约翰尼斯·鲍默迈克尔·索尔根弗雷曼弗雷迪·西格诺里诺
申请(专利权)人:emz汉拿两合有限公司
类型:发明
国别省市:DE

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