当前位置: 首页 > 专利查询>韩长征专利>正文

足部按摩保健浴盆制造技术

技术编号:663302 阅读:250 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
足部按摩保健浴盆,涉及有盆体和按摩凸起构成,盆体的横截面为梯形状,在盆体的内部的底面上均匀设置有按摩凸起,所说的按摩凸起的高度不同,在所说的足部按摩保健浴盆的盆底边缘部分的按摩凸起较低,盆底中央部分的按摩凸起较高。盆底边缘部分按摩凸起的高度为0.5厘米,在盆体底面中央的按摩凸起的高度高于四周的按摩凸起,盆体底面中央的按摩凸起的高度为1厘米,各按摩凸起之间的距离为1厘米,以便使脚部脚弓凹陷部分在浴洗过程中得到充分按摩。本实用新型专利技术所述的足部按摩保健浴盆,结构简单,使用方便,该保健浴盆能调整和维持人体内部平衡,改善血液循环及微循环,提高机体免疫功能,增强组织器官的新陈代谢,从而达到防病治病的目的。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及足部按摩装置,尤其涉皿部按摩{*#浴盆。技术背景热7jC泡脚、足部穴位按摩,是中医传统疗法的重要组成部分,足部按摩能调整 和维持人体内部平衡,改善血液循环及微循环,提高人体免疫功能,增强组织器官 的新陈代谢,从而达到防病治病的目的。但目前公知的普衝郷卩盆大都只能用于洗 脚,对脚部没有按摩保健作用,因此,不能满足人们在洗脚的同时,又能全过程进 行足部保健按摩的需求.
技术实现思路
本技术的目的在于,克服现有技术的不^处,提供一种结构简单,使用 方便的足部按摩{^#^浴盆。本技术所述的足部按摩{繊浴盆,涉及有盆体和按摩凸起构成,所说的盆 体是用来孝潔浴脚液体的容器,盆体的横截面为梯形状,在所说盆体的内部的底面 上均匀设置有按摩凸起,所说的按摩凸起的高度不同,在所说的足部按摩保健浴盆 的鹏边缘部分的按摩凸起较低,鹏中央部分的按摩凸起较高。盆底边缘部分按 摩凸起的高度为0.5厘米,在盆体底面中央的按摩凸起的高度高于四周的按摩凸起, 盆体底面中央的按摩凸起的高度为1厘米,各按摩凸起之间的距离为1厘米,以便 使脚部脚弓凹陷部分在浴洗过程中得到充分按摩。本技术所述的足部按摩保使浴盆,结构简本文档来自技高网...

【技术保护点】
足部按摩保健浴盆,其特征在于盆体(1)的横截面为梯形状,在所说盆体(1)的内部的底面上均匀设置有按摩凸起(2),所说的按摩凸起(2)的高度不同,在所说的足部按摩保健浴盆的盆底边缘部分的按摩凸起(2)较低,盆底中央部分的按摩凸起(2)较高;盆底边缘部分按摩凸起(2)的高度为0.5厘米,在盆体(1)底面中央的按摩凸起(2)的高度高于四周的按摩凸起(2),盆体(1)底面中央的按摩凸起(2)的高度为1厘米,各按摩凸起(2)之间的距离为1厘米。

【技术特征摘要】
1、足部按摩保健浴盆,其特征在于盆体(1)的横截面为梯形状,在所说盆体(1)的内部的底面上均匀设置有按摩凸起(2),所说的按摩凸起(2)的高度不同,在所说的足部按摩保健浴盆的盆底边缘部分的按摩凸起(2)较低,盆底中央部分...

【专利技术属性】
技术研发人员:韩长征
申请(专利权)人:韩长征
类型:实用新型
国别省市:37[中国|山东]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1