基于电荷转移的触控传感器结构的制作方法技术

基于电荷转移的触控传感器结构的制作方法，在基材的一面制作透明导电层；在上述透明导电层表面制作金属强化层；通过选择性腐蚀方法在一层基材的一面分别形成第一透明导电层、第一引线电极组的图形，在另外一层基材的一面形成第二透明导电层、第二引线电极组的图形；在第一引线电极组和第二引线电极组表面采用丝网印刷、圆辊移印或光刻的方法制作保护层；将完成上述工艺的工件放入选择性蚀刻液，将覆盖透明导电层的金属强化层去除；两层基材表面的制作工序相同，区别在于选择性腐蚀的图形不一样；最后将制作好电极图案的两层基材用光学透明胶粘贴起来。与现有技术相比，本发明专利技术的方法大大提高了产品的良品率，成本低，更具有竞争力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子显示
，具体来说，是一种。
技术介绍
触控面板(Touch Panel)已大量应用于家电、通讯、电子资讯等产品应用上，如目前广泛商用之掌上电脑、各种家电设备、游戏输入界面等。均由触控面板与显示器之整合， 可供使用者以手指或触控笔依照显示画面上之功能选项触摸输入所欲执行的动作。熟知的触控面板主要在一块基板表面布设感应区域，其感应区域用手指或触控笔触摸图标或菜单来达到触控的目的。该感应部件即为一种基于电荷转移位置传感器。该传感部件的制作所使用的材料大都采用带有透明导电薄膜(氧化铟锡，俗称ΙΤ0)的玻璃，使得使用者在操作时，触摸该传感器达到电荷转移的目的。ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡膜加工制作而成。电容式触摸传感器主要有表面电容式触摸传感器和投射电容式触摸传感器。表面电容式触摸传感器只采用单层ITO玻璃；投射电容式触摸传感器与表面电容式触摸传感器相比，是在两层ITO涂层玻璃上蚀刻出不同的ITO模块。现有基于电荷转移位置传感器大都是一块多层复合玻璃屏；基于电荷转移位置传感器的制作主要是在玻璃表面通过真空溅射镀膜的方法镀上透明的金属透明导电层 (ΙΤ0)，然后在两面分别经过涂布、烘干、曝光、显影、蚀刻、去胶等工艺制成电极图案，最后再用印刷低温银浆或者化学镀金属的方法制作一层金属强化走线层。印刷低温银浆的方式能够制作的电极的分辨率较低，且良品率低下；化学镀的方式一般选择使用金(Au)，不仅加工工序多，而且Au的附着力差，同时Au的成本很高，制作成品率低。玻璃基底过厚会造成重量增加，过薄在制作过程中易于损坏，并且无法实现卷曲，生产效率低。
技术实现思路
技术问题本专利技术提供一种，该传感器采用单面制作图案，然后通过粘贴的方法完成传感器的制作，加工工序少，生产成本低， 成品率高于现有技术，同时减轻了产品重量，并能够实现产品的卷曲。技术方案，步骤如下在基材的一面通过真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空热蒸发镀膜或涂布的方法制作透明导电层；在上述透明导电层表面通过真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空热蒸发镀膜、电镀或化学镀方法制作金属强化层；通过选择性腐蚀方法在一层基材的一面分别形成第一透明导电层、第一引线电极组的图形，在另外一层基材的一面形成第二透明导电层、第二引线电极组的图形； 在第一引线电极组和第二引线电极组表面采用丝网印刷、圆辊移印或光刻的方法制作保护层；将完成上述工艺的工件放入选择性蚀刻液，将覆盖透明导电层的金属强化层去除；两层基材表面的制作工序相同，区别在于选择性腐蚀的图形不一样；最后将制作好电极图案的两层基材用光学透明胶粘贴起来。所述的选择性腐蚀方法为采用涂布感光胶、贴敷感光干膜或者丝网印刷感光胶， 之后干燥、曝光、显影、蚀刻、去胶的方法完成电极图案的制作。所述的选择性腐蚀方法为采用丝网印刷或圆辊移印直接制作防蚀刻胶，之后干燥、曝光、显影、蚀刻、去胶的方法完成电极图案的制作。将柔性基材裁切后以片状形式进行作业或使用卷对卷的模式进行作业。基于电荷转移的触控传感器结构，由两层基材、在一层基材表面形成的第一透明导电层、第一引线电极组、第一保护层；在另外一层基材表面形成的第二透明导电层、第二引线电极组、第二保护层组成；基材之间设有光学透明胶层；其中，第一引线电极组由透明电极及覆盖透明电极的金属强化层组成，该引线电极组与第一透明导电层电气相连，其上覆盖第一保护层；第二引线电极组由透明电极及覆盖透明电极的金属强化层组成，该引线电极组与第二透明导电层电气相连，其上覆盖第二保护层；第一引线电极组与第二引线电极组互相垂直。基材为玻璃、聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、亚克力或聚烯烃，厚度 0. 05mm 0. 7mm。所述基材为玻璃的厚度0. lmnTO. 7mm。所述的透明导电层的材料是氧化铟锡、氧化锌、氧化锡、铝、镍、钼、金、银、铜、碳纳米管膜或导电树脂的一种或几种的组合物。所述的金属强化层的材料是铝、镍、钼、金、银或铜中的一种或任意几种的合金。有益效果1、本专利技术提出了一种新的，采用单面制作图案，然后通过粘贴的方法完成传感器的制作。取消了传统工艺中通过印刷或者电镀的方式制作强化走线，取而代之的是使用对整面金属强化层进行光刻的方式来实现。而且，降低了对设备的要求，对工艺过程更能有效的控制。2、与传统方法相比，本专利技术的方法大大提高了产品的良品率，成本低，更具有竞争力。附图说明图1是一种基于电荷转移的传感器结构示意图。图2是基材溅射透明导电层和金属强化层后的示意图。图3是涂布后的示意图。图4是显影后示意图。图5是蚀刻后示意图。图6是去胶后示意图。图7是制作金属强化走线的保护胶后的示意图。图8是二次蚀刻去除金属强化层后的示意图。图9是粘贴光学透明胶后示意图。图10是有机基材的卷对卷作业方式流程示意图。图11是有机基材的片状作业方式流程示意图。图中1基材一 ；2第一透明导电层；3第一金属强化层；4第一保护层；5基材二 ；6 第二透明导电层；7第二金属强化层；8第二保护层；9光学透明胶粘层；感光胶层10 ；a引线电极组。具体实施例方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的说明，但本专利技术并不仅限于该实施例。选择性蚀刻液为三氯化铁、硫酸、盐酸、硝酸、氢氟酸、草酸、氨水或氯化铵中的一种或任意几种的组合。实施例1选择卷式聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜为基材，整个过程以卷对卷的模式进行作业; 参见图10。在PET膜1的表面通过真空溅射镀膜的方法先后镀上氧化铟锡(ITO)层2和铜(Cu)层3，参见图2 ；在ITO层和Cu层之上后以丝网印刷的方式制作感光胶层10，参见图 3，然后一次曝光、显影、蚀刻、去胶，同时制作透明电极图案和走线强化图案，参见图4，5，6 ； 之后在强化走线的区域通过丝网印刷的方式制作保护胶层4，参见图7 ；此保护胶需要能够耐受二次蚀刻液的浸泡；接着，对于透明电极层上面的Cu再进行一轮二次蚀刻，将裸露在外面的Cu完全去除，参见图8 ；需注意的是，PET膜2的表面制作工序与PET膜1相同，区别在于光刻的图形不一样；跟着将光学透明胶粘层9贴在制作好电极图案的一层基材上，参见图9 ；最后再将基材粘贴起来，即完成。到此为止，即完成了本专利技术基于电荷转移位置传感器的制作。实施例2本实施例与实施例1的不同在于，基底材料改选玻璃、或者PC、或者PMMA、或者聚烯烃、 或者其它柔性有机材料。实施例3本实施例与实施例1的不同在于，除了使用真空溅射镀膜的方法制作透明导电层外， 还可以使用真空离子镀膜、真空热蒸发镀膜或涂布的方法制作。实施例4本实施例与实施例1的不同在于，除了使用真空溅射镀膜的方法制作金属强化层外， 还可以使用真空离子镀膜、真空热蒸发镀膜、电镀或化学镀方法制作。实施例5本实施例与实施例1的不同在于，透明导电层可以是氧化铟锡(ΙΤ0)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO)、铝(Al)、镍(Ni)、钼(Mo)、金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)、碳纳米管(CNT)膜、 导电树脂等多种透明导电材料或者其组合方式。实施例6本实施例与实施例1的不同在于，金属强化层可以是镍(Ni)、钼(Mo)、金(Au)、银 (Ag)、铜(Cu)等多种导电性优良的金属或者其组合方式。不管选择其本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．基于电荷转移的触控传感器结构的制作方法，其特征在于步骤如下：在基材的一面通过真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空热蒸发镀膜或涂布的方法制作透明导电层；在上述透明导电层表面通过真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空热蒸发镀膜、电镀或化学镀方法制作金属强化层；通过选择性腐蚀方法在一层基材的一面分别形成第一透明导电层、第一引线电极组的图形，在另外一层基材的一面形成第二透明导电层、第二引线电极组的图形；在第一引线电极组和第二引线电极组表面采用丝网印刷、圆辊移印或光刻的方法制作保护层；将完成上述工艺的工件放入选择性蚀刻液，将覆盖透明导电层的金属强化层去除；两层基材表面的制作工序相同，区别在于选择性腐蚀的图形不一样；最后将制作好电极图案的两层基材用光学透明胶粘贴起来。

【技术特征摘要】
1.基于电荷转移的触控传感器结构的制作方法，其特征在于步骤如下在基材的一面通过真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空热蒸发镀膜或涂布的方法制作透明导电层；在上述透明导电层表面通过真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空热蒸发镀膜、电镀或化学镀方法制作金属强化层；通过选择性腐蚀方法在一层基材的一面分别形成第一透明导电层、第一引线电极组的图形，在另外一层基材的一面形成第二透明导电层、第二引线电极组的图形； 在第一引线电极组和第二引线电极组表面采用丝网印刷、圆辊移印或光刻的方法制作保护层；将完成上述工艺的工件放入选择性蚀刻液，将覆盖透明导电层的金属强化层去除；两层基材表面的制作工序相同，区别在于选择性腐...

【专利技术属性】
技术研发人员：张小华，潘耀南，章晶晶，
申请(专利权)人：南京福莱克斯光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：84