废液回收装置及废液回收方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种废液回收装置，其包括还原剂供给装置、与该还原剂供给装置相对设置的废液导流装置及传送带。该废液导流装置包括一注入端，用于向传送带提供废液。该传送带一端靠近该还原剂供给装置，另一端靠近该注入端。该还原剂供给装置用于向该传送带提供还原剂，该传送带的传输方向为使该还原剂向传送带靠近注入端的一端运动。该传送带倾斜设置使得该废液在输送带上的流动方向与该传输方向相反。本发明专利技术还提供一种废液回收方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电路板制作
，特别涉及一种制作过程中生成废液的回收装置及废液回收方法。
技术介绍
湿制程(Wet Process)作为制作电路板过程中的制作工序，是将处理液，如各种化学药液或水喷洒于电路基板表面，以实现镀通孔、镀铜、蚀刻、显影、剥膜、镀有机保护膜、表面改性或清洗等工艺流程。文献K. W. Lee， A. Viehbeck， Wet Process SurfaceModification of Dielectric Polymers, IBM J. Research & Development, 1994， 38(4)介绍一种通过湿制程对电路板中的绝缘层与胶粘层进行表面改性方法，以提高电路板中绝缘层与金属层间的结合力。通常，湿制程中使用大量的化学药液与电路基板表面进行反应，以完成电路板的制作。该大量化学药液经反应后会产生大量的废液，需要进行处理，以降低对环境的污染及原料的浪费。以对蚀刻工序中剩余废液为例，由于蚀刻是蚀刻药水将导电层中多余的金属铜蚀刻并去除，以使保留下来的金属铜形成所需导电线路。因此，大量的金属铜反应生成铜离子，如果直接丢弃会造成金本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种废液回收装置，其包括还原剂供给装置、与所述还原剂供给装置相对设置的废液导流装置及传送带，所述废液导流装置包括一注入端，用于向传送带提供废液，所述传送带一端靠近所述还原剂供给装置，另一端靠近所述注入端，所述还原剂供给装置用于向所述传送带提供还原剂，所述传送带的传输方向为使所述还原剂向传送带靠近注入端的一端运动，且传送带倾斜设置使得所述废液在所述输送带上的流动方向与所述传输方向相反。

【技术特征摘要】
1.一种废液回收装置，其包括还原剂供给装置、与所述还原剂供给装置相对设置的废液导流装置及传送带，所述废液导流装置包括一注入端，用于向传送带提供废液，所述传送带一端靠近所述还原剂供给装置，另一端靠近所述注入端，所述还原剂供给装置用于向所述传送带提供还原剂，所述传送带的传输方向为使所述还原剂向传送带靠近注入端的一端运动，且传送带倾斜设置使得所述废液在所述输送带上的流动方向与所述传输方向相反。2 如权利要求l所述的废液回收装置，其特征在于，所述还原剂供给 装置包括磁性传送带，其一端至少部分与金属还原剂接触，且所述磁性传送带使得吸附在磁 性传送带上的金属还原剂与所述传送带相接触。3 如权利要求2所述的废液回收装置，其特征在于，所述还原剂供给 装置进一步包括一个供料槽，用于盛放金属还原剂，所述磁性传送带一端收容于所述供料槽 内。4 如权利要求l所述的废液回收装置，其特征在于，所述废液导流装 置为一废液导流板，所述废液导流板的一端设有凸起，所述凸起自废液导流板向背离传送带 的方向延伸，使废液经由所述凸起后均匀地流至传送带。5 如权利要求4所述的废液回收装置，其特征在于，所述还原剂供给 设置于传送带的相对两侧。6 如权利要求5所述的废液回收装置，其特征在于，所述废液导流板 与传送带成小于90度的夹角，所述传送带的传输方向与废液在传送带上的流动方向相反。7 如权利要求l所述的废液回收装置，其特征在于，所述还原剂供给 设置有喷口，所述喷口朝向传送带，用于将还原剂喷洒至传送带。8 如权利要求l所...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈文村，廖新治，廖道明，沈家弘，林承贤，
申请(专利权)人：富葵精密组件深圳有限公司，鸿胜科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]