一种用于光学系统成像过程中的消杂光面板技术方案

本发明专利技术公开了一种用于光学系统成像过程中的消杂光面板。它为薄板形单一主体结构，沿光线入射方向，薄板的两个端面依次为前端面和后端面；薄板上有多个贯通前后端面的微小通光孔；前端面和后端面的面型可根据需要做成不同面型。它可以单独使用在光学系统的镜片之间，也可以在端面进行曲率加工，使面板的端面曲率与光学系统的镜片曲率接近或一致，通过胶合和镜片连接在一起；光学镜片间隔中可以一次多次使用本面板；面板可以放置在镜片与探测器的焦平面之间单独使用，也可以通过粘结使面板和焦平面进行胶合，消除焦平面带来的杂光，使用灵活，且使用该装置几乎不会额外增加光学系统的重量和体积。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种能有效消除光学系统杂光的装置，特别涉及一种用于光学系统整个成像过程中的消杂光面板。
技术介绍
光学系统在成像时会引入非成像光线并会聚在成像探测器上面，造成图像质量下降，如图像对比度下降、信噪比降低、图像光晕等。造成非成像光线的因素主要有镜片、机械件、探测器等元件间的光散射、反射、衍射等，红外波段成像时系统元件的辐射也会造成辐射杂光。通常的做法是在光学系统前面加上遮光罩，为了更好起到消杂光的效果需要增加遮光罩的长度并设计一定形式的挡光环，这会造成系统重量、体积的增大，在许多条件下是不适用的。在成像视场附近有强光源时，即侧逆光成像，杂光的影响更为强烈。消除光学系统内部的杂光通常的做法是在内壁涂上消光漆，但这只会部分消除照射在其上的光线，很多杂光是通过镜片反射、透射等方式，直接传输到探测器上面，探测器的焦平面与镜片、机械件间的反射也会造成杂光，这部分存在于光学系统整个成像过程中的杂光消除却很少被关注。在本专利技术作出之前，公开号为C拟662^5Y的中国专利技术专利提供了一种光学系统的多孔径杂光抑制装置，它为单一主体圆柱筒的内部空间被分割成由多个孔组成的多孔径结构，多孔径本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．　一种用于光学系统成像过程中的消杂光面板，它为薄板形单一主体结构，沿光线入射方向，薄板的两个端面依次为前端面（１０３）和后端面（１０４）；薄板上有多个贯通前后端面的微小通光孔（１０１）。

【技术特征摘要】
1.一种用于光学系统成像过程中的消杂光面板，它为薄板形单一主体结构，沿光线入射方向，薄板的两个端面依次为前端面(103)和后端面(104)；薄板上有多个贯通前后端面的微小通光孔(101)。2.根据权利要求1所述的一种用于光学系统成像过程中的消杂光面板，其特征在于 所述的微小通光孔(101)为锥形孔，其前端面口径(Dl)大于或小于后端面口径(D2)。3.根据权利要求1所述的一种用于光学系统成像过程中的消杂光面板，其特征在于 所述的微小通光孔内填有透光介质，其折射率...

【专利技术属性】
技术研发人员：周建康，石荣宝，陈新华，季轶群，陈宇恒，沈为民，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：发明
国别省市：32