足浴按摩保健盆制造技术

本实用新型专利技术是具有保健功能的足浴盆，新型特征是根据足部的形状及脏器反射区的分布在盆底及盆壁分别设计了不同形状及高度的半圆柱形凸起、横条形凸起、竖长条形凸起及丘形凸起等。双脚滑动按摩可使足底及足两侧反射区受到良好刺激以此促进血液循环，调节身体各系统功能，达到祛病、防病，自我保健的目的。（*该技术在2003年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术是具有按摩保健功能的脚盆。目前，公知的保健脚盆有两类，一类需有电源，为涡轮传动旋转式或踏板振动式按摩，此类造价高，使用携带不方便。另一类保健盆为盆底有凸起的颗粒或圆锥形凸起，此类结构虽简单但不能使足部凹进去的部位和足两侧得到按摩。本技术目的是提供一种脚盆，在足浴同时达到对足底各部位和足两侧进行充分按摩；日常阅读及看电视时，盆中不放水可单作足踏保健按摩用。本技术目的是这样实现的根据足部反射区健康法机理，既人体各脏腑器官在足部均有其对应的反射区。足部反射区健康法是运用手或某些器材，对足部反射区按摩，给予机体物理性刺激，通过神经反射，促进机体的自我调节机制，改善各脏腑器官的机能。从而提高机体的防病和修复能力，恢复机体的正常状态。按照足部的形状和各脏器反射区的分布，在盆底和盆壁设计了不同形状和不同高度的凸起。盆壁前部及两侧为半圆形柱状凸起长20～60mm，半径3～8mm，可对足趾和足外侧进行按摩；盆底前部为对称的横条形凸起长60～100mm，上面有4个丘形突起，内侧的1个突起高15～30mm，其余3个高10～25mm，可作趾间及跖趾间按摩；盆底竖长条形凸起长50～90mm，宽15本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种足浴按摩保健盆，盆底及盆壁有凸起，其特征是：根据足部形状和足部反射区的分布，设计了盆底和盆壁不同形状和高度的凸起，在盆壁前部和两侧有半圆柱形凸起；盆底前部有对称的横条形凸起，上面各有４个丘形突起；盆底中间竖长条形凸起，上有１２个小半圆形突起；盆底后部对称半圆形凸起，上有数个小半圆形突起；盆底后部中央丘形凸起；盆壁后部两侧燕尾形槽，槽内安装凸起附件。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周淑英，
申请(专利权)人：中国人民解放军军事医学科学院放射医学研究所，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]