一种具有保湿功能的清洗设备制造技术

技术编号:6390203 阅读:176 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开一种具有保湿功能的清洗设备,包括一设备主体以及位于设备主体上用于上料的上料台,所述上料台位置处设置有一保湿装置,所述保湿装置包括一位于上料台上部的喷淋装置。本实用新型专利技术保湿功能的清洗设备用于硅片清洗前对硅片的保湿。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种具有保湿功能的清洗设备,包括一设备主体以及位于设备主体上用于上料的上料台,其特征在于:所述上料台位置处设置有一保湿装置,所述保湿装置包括一位于上料台上部的喷淋装置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:左国军
申请(专利权)人:常州捷佳创精密机械有限公司
类型:实用新型
国别省市:32

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