胶囊检测机制造技术

本实用新型专利技术公开一种胶囊检测机，包括胶囊排列装置，传送装置，图像检测装置和剔除装置，由拱形灯罩和补强光源在胶囊表面提供一个均匀没有阴影的光源，并且使胶囊在检测位置上产生滚动，由此可拍摄到完全的胶囊图像，失真率大大降低，提高了检测精度，漏判错判率低，剔除装置采用电磁铁和推杆使缺陷胶囊剔除速度和精确度大大提高，机器适应性广，可适用于空心硬胶囊的检测和充填药物后的胶囊制剂的检测。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及胶囊检测设备，尤其对胶囊的缺陷进行检测，并剔除有缺陷胶囊的检测设备。
技术介绍
目前空心硬胶囊生产厂家的产品，以及制药厂用空心硬胶囊装药后的胶囊制剂，对不合格产品均采用人工目测检查的方法分拣，胶囊倒入料斗并分散到带背光灯的雾化玻璃的台面上，检查人员利用肉眼对着背光台上的胶囊用手拨动检查，挑出缺陷胶囊。这种工作方式检测效率低，成本高，劳动强度大，检查人员肉眼长时间对着灯光，眼睛的疲劳对检查结果产生很大的影响，容易产生了漏检，次品的检出率低，质量不稳定，人手直接接触到胶囊或胶囊制剂，不可避免的产生了对胶囊或胶囊制剂的污染。中国技术专利说明书CN20125983Y公开一种胶囊检测设备，由排列装置、传送装置、识别装置和分离装置组成，识别装置包括光学成像系统、电控部件、图形处理器，光学成像系统对胶囊逐一拍照，将图像数据送入图形处理器，由图形处理器对图像数据进行分析，发现缺陷胶囊时向分离装置发出电控指令启动分离装置，分离装置由电磁阀、气嘴、气源构成，根据图形处理器的电控指令启动电磁阀将缺陷胶囊吹走剔除。该设备可以避免人工检查带来的二次污染，提高胶囊包装质量。但是该设备的光学成像系统由于发光体构造不合理，在胶囊上出现阴影、反光、表面光线不均匀，拍照得到的图像数据出现失真，使用中出现大量完好的胶囊当成缺陷胶囊被剔除，缺陷胶囊却未能完全检出，分离装置采用压缩空气将缺陷胶囊吹出来，方向和落点不好控制，胶囊经常掉落在传送带上，与完好的胶囊混杂在一起，对缺陷胶囊的剔除并不彻底。该设备也不能用于已经装药的胶囊制剂的检测。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述缺陷，提供一种依据胶囊图像进行检验的胶囊检测机，该机器提高了缺陷胶囊检测和剔除的准确度。本技术胶囊检测机包括胶囊排列装置，传送装置，图像检测装置和剔除装置。胶囊排列装置对胶囊进行定位排列，依次将胶囊输送到传送装置。传送装置将胶囊传送到图像检测装置。图像检测装置包括照射胶囊的光源，数码照相机，图像处理器，数码照相机对胶囊逐一拍照，将图像数据送入图像处理器，由图像处理器对图像数据进行分析，发现缺陷胶囊时向剔除装置发出电控指令。剔除装置根据图像检测装置的电控指令将缺陷胶囊剔除。传送装置包括由若干检测模板链接组成的传送带，每个检测模板开有卧向装载胶囊的通孔，并且在装载胶囊后，胶囊部分地凸出于检测模板的上表面和下表面。所述照射胶囊的光源包括位于传送带上方的主光源和位于传送带下方的背光源，主光源包括弧形灯罩，弧形灯罩下部发光体，该发光体发出的光线射向弧形灯罩内表面，弧形灯罩顶部有通孔，该通孔上方有半透半反射镜，补强光源的光线照射半透半反射镜后的-->反射光垂直射向传送带，数码照相机位于半透半反射镜上方，背光源上面遮盖有雾化玻璃面板，该玻璃面板与传送带之间的距离可以调节以便在胶囊经过该玻璃面板时，玻璃面板与胶囊之间接触摩擦而使胶囊发生滚动。上述弧形灯罩内表面优选为漫反射表面，弧形灯罩的形状可以为拱形、伞形、半球形，或者其它与胶囊弧面表面相适应的曲率弧面，以便胶囊的弧形表面上具有均匀的亮度。上述剔除装置由电磁铁和由该电磁铁驱动的推杆组成，电磁铁和推杆装在传送带的下方，推杆可穿越检测模板中的通孔，推杆端部还可以有与胶囊匹配的凹槽。本技术由拱形灯罩和补强光源在胶囊表面提供一个均匀没有阴影、反光和光线均匀的的光源，并且使胶囊在检测位置上产生滚动，由此可拍摄到完全的胶囊图像，失真率大大降低，提高了检测精度，漏判错判率低，剔除装置采用电磁铁和推杆使缺陷胶囊剔除速度和精确度大大提高，机器适应性广，可适用于空心硬胶囊的检测和充填药物后的胶囊制剂的检测。附图说明图1是本技术胶囊检测机结构图。图2是检测模板示意图。图3是A-A剖视图。图4是图像检测装置示意图。图5是剔除装置示意图。具体实施方式本技术的一种实施方式参见图1，该胶囊检测机包括定位排列装置1，传送装置2，图像检测装置3和剔除装置4。定位排列装置1可以应用现有技术中的空心硬胶囊生产设备或硬胶囊制剂装填设备中的定位排列装置，该装置由储料箱、振动落料斗、传送轮、转换轮组成。定位排列装置1装在传送装置2的前端，定位排列装置1将胶囊或胶囊制剂进行定位和排列，整齐并且逐一输送到传送装置2的检测模板21的通孔中上。参见图2和图3，传送装置2包括由检测模板21链接而成的传送带22，传送带22在传动轮23、24循环运转。每个检测模板21上可以有一个或多个卧向装载胶囊的通孔。通孔的形状和大小与胶囊匹配，或者在通孔的周边设置有若干凸点26以支撑所装载的胶囊，使装载在胶囊25通孔中并且部分的凸出于检测模板21的上表面和下表面。参见图4，图像检测装置3包括照射胶囊的光源，数码照相机和图像处理器。照射胶囊的光源包括位于传送带22上方的主光源31和位于传送带22下方的背光源32。主光源31包括拱形灯罩33，拱形灯罩33内表面为经过哑光涂层处理的漫反射表面，拱形灯罩33下端有条形或环形发光体34，该发光体34发出的光线射向拱形灯罩33下表面，通过拱形灯罩33的漫反射后照射到胶囊上，在胶囊表面形成均匀照度。拱形灯罩33顶部有通孔35，通孔35上有半透半反射镜38和补强光源37，数码照相机36的镜头位于半透半反射镜38上方，半透半反射镜38与数码照相机镜头轴线成30～60度夹角。补强光源37的光线通过半透半反镜38的反射后垂直射向传送带22，使胶囊圆弧面顶部的光线得到适当补强，-->消除因通孔35造成的局部光照不足，由此在胶囊表面上形成照射强度均匀的光照。由于半透半反射镜38只让从胶囊表面反射垂直于数码相机镜头的光源通过，消除胶囊弧形表面反射引起的阴影，使数码照相机36拍摄到没有阴影的胶囊图像。背光源32为平面光源，上面有雾化玻璃面板39，进一步消除胶囊周边的阴影，可采用平板LED灯或荧光灯。背光源32的雾化玻璃面板39与检测模板21之间要有适当的距离，以便胶囊经过背光源32时胶囊25与雾化玻璃面板39之间产生摩擦，使胶囊25发生滚动。主光源31、背光源32和补强光源37可使用与胶囊表面颜色相匹配的各种光谱特征的可见光或红外光。参见图5，剔除装置4由电磁铁41和推杆42组成，装载在数码照相机检测工作位之后的传送带22的下方。推杆42上端部有与胶囊形状相配的凹槽43，使推杆42准确推出缺陷胶囊25，避免出现缺陷胶囊掉落而混杂在合格胶囊中。机器运行过程，定位排列装置1向检测模板21装载胶囊或胶囊制剂，通过传送带22的运转，胶囊或胶囊制剂被带到图像检测位，胶囊25或胶囊制剂与雾化玻璃面板38之间产生摩擦，胶囊25发生滚动，到达数码照相机下方时，数码照相机对胶囊25进行扫描拍摄，并将图像信号传送到图像处理器，图像处理器对数码照相机传送的图像数据进行特征处理，识别并量化图像的缺陷面积、长度、数量、位置等特征，与预先设置的容许度进行比较，确认所检测胶囊是否合格，对不合格胶囊向电控系统发出剔除指令，在胶囊送达剔除装置工作位置时启动电磁铁41，推杆42将该缺陷胶囊推出并送入缺陷胶囊收集料斗，合格胶囊则被传送带送到合格胶囊收集料斗。-->本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．胶囊检测机，包括胶囊排列装置，传送装置，图像检测装置和剔除装置；胶囊排列装置对胶囊进行定位排列，依次将胶囊输送到传送装置；传送装置将胶囊传送到图像检测装置；图像检测装置包括照射胶囊的光源，数码照相机，图像处理器，数码照相机对胶囊逐一拍照，将图像数据送入图像处理器，由图像处理器对图像数据进行分析，发现缺陷胶囊时向剔除装置发出电控指令；剔除装置根据图像检测装置的电控指令将缺陷胶囊剔除；其特征在于：所述传送装置包括由若干检测模板链接组成的传送带，每个检测模板开有卧向装载胶囊的通孔，并且在装载胶囊后，胶囊部分地凸出于检测模板的上表面和下表面；所述照射胶囊的光源包括位于传送带上方的主光源和位于传送带下方的背光源，主光源包括弧形灯罩，弧形灯罩下端有发光体，该发光体发出的光线射向弧形灯罩内表面，弧形灯罩顶部有通孔，该通孔上方有半透半反射镜，补强光源的光线照射半透半反射镜后的反射光垂直射向传送带，数码照相机位于半透半反射镜上方，背光源上面遮盖有雾化玻璃面板，该玻璃面板与传送带之间的距离可以调节以便在胶囊经过该玻璃面板时，玻璃面板与胶囊之间接触摩擦而使胶囊发生滚动。

【技术特征摘要】
1.胶囊检测机，包括胶囊排列装置，传送装置，图像检测装置和剔除装置；胶囊排列装置对胶囊进行定位排列，依次将胶囊输送到传送装置；传送装置将胶囊传送到图像检测装置；图像检测装置包括照射胶囊的光源，数码照相机，图像处理器，数码照相机对胶囊逐一拍照，将图像数据送入图像处理器，由图像处理器对图像数据进行分析，发现缺陷胶囊时向剔除装置发出电控指令；剔除装置根据图像检测装置的电控指令将缺陷胶囊剔除；其特征在于：所述传送装置包括由若干检测模板链接组成的传送带，每个检测模板开有卧向装载胶囊的通孔，并且在装载胶囊后，胶囊部分地凸出于检测模板的上表面和下表面；所述照射胶囊的光源包括位于传送带上方的主光源和位于传送带下方的背光源，主光源包括弧形灯罩，弧形灯罩下端有发光体，该发光体发出的光线射向弧形灯罩内表面，弧形灯罩顶部有通孔，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李煜龙，林秀君，许健樵，李灼，李加海，
申请(专利权)人：潮州市强基制药厂，
类型：实用新型
国别省市：44[中国|广东]