包含某些阳离子聚合物的去头屑和调理香波制造技术

本发明专利技术公开了提供去头屑功效和调理作用的卓越组合的香波组合物，而且本发明专利技术还公开了一种清洁和调理头发的方法，包括在头发上施用有效量的所述组合物。该去头屑和调理香波包括：（Ａ）占组合物重量约５％至约５０％的阴离子表面活性剂；（Ｂ）占组合物重量约０．０１％至约１０％的非挥发性调理剂；（Ｃ）占组合物重量约０．１％至约４％的去头屑颗粒；（Ｄ）占组合物重量约０．０２％至约５％的阳离子瓜尔衍生物；（ｉ）其中所述阳离子瓜尔衍生物的分子量为约５０，０００至约７００，０００；并且（ｉｉ）其中所述阳离子瓜尔衍生物的电荷密度为约０．０５ｍｅｑ／ｇ至约１．０ｍｅｑ／ｇ；以及（Ｅ）水。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及提供出众的去头屑功效和调理作用的组合的香波组合物。这些组合物包含阴离子表面活性剂、调理剂、去头屑颗粒、阳离子聚合物和水。阳离子聚合物具有某种分子量和电荷密度参数，带来了改进的去头屑香波组合物功效。
技术介绍
包括去污表面活性剂和调理剂，特别是聚硅氧烷调理剂的各种组合的香波组合物是本领域公知的而且是能够买到的。已经发现这些组合物中的许多能够提供优异的清洁头发和调理头发的作用。例如在一配方中加原-维生素调理剂的Pantene香波，其中包含阴离子表面活性剂、阳离子聚合物和聚硅氧烷调理剂，当施用于头发上时，带来了杰出的清洁、调理和发感益处。去头屑香波也是本领域已知的，而且也可以买到。去头屑香波中通常引入了去头屑活性物质和去污表面活性剂。其中，优选类型的去头屑剂是颗粒状的结晶去头屑剂，如硫、二硫化硒和吡啶硫酮的重金属盐。可溶的去头屑剂如酮康唑也是本领域中已知的。类似地，还提供调理功效的去头屑香波也是本领域已知的。例如，美国专利5624666例举并要求保护了包含阴离子表面活性剂、阳离子聚合物和吡啶硫酮锌作为去头屑剂的香波组合物。美国专利5624666讲述了诸如聚硅氧烷流体的调理剂能够任选地引入到其中的组合物。Head&ShouldersDandruff Shampoo Plus Conditioner是市售产品的一个实例，其在将香波施用到头发上时，同时提供了去头屑和调理功效。然而，一些消费者希望相对于目前市售的产品而言，有一种能提供出众的去头屑功效和调理性能的组合作用的香波。这样一种卓越的功效和调理性能的组合作用是很难达到的。例如，原已确信杰出的去头屑功效能够通过使用一种在头发和头皮上沉积功效优化的凝聚相而实现。认为更有效沉积的凝聚相优选用于该功效。但是很可惜，使用最有效的凝聚相在头发和头皮上沉积去头屑活性物质能够对调理作用，特别是清洁的头发感觉产生不利影响。为了达到良好的调理作用，希望能够降低去头屑剂的量，产生良好的调理作用，而不会降低最佳的去头屑功效。但是，申请人现在发现，令人惊奇的是，去头屑活性物质的生物利用度和覆盖度对功效的预言性比活性物质在头发或头皮上沉积的预言性高得多。事实上，申请人发现在许多情况下，即使在去头屑活性物质在头发和头皮上沉积得非常好的时候，也不能得到可接受的去头屑功效。相反，良好的去头屑功效能够在去头屑活性物质具有良好的覆盖度并且生物可利用度高、但是在头发或头皮上的沉积不突出的情况下实现。因此，为了提供相对于已知的香波组合物，提供去头屑功效和调理性能的卓越组合的香波组合物，必须满足生物利用度和覆盖度方面的某些标准，但是不是必须要具有将去头屑活性物质卓越地沉积在头发或头皮上的能力。申请人还发现，如果稀释香波时在阳离子聚合物和阴离子表面活性剂之间形成的凝聚相具有铺展性和流动性而不是天然时的弹性时，给定组合物中的去头屑活性物质能够达到杰出的生物利用度和覆盖度。凝聚相的性质受香波组合物中存在的阳离子聚合物的用量和类型的影响。本专利技术的目的是提供香波组合物，该组合物具有出众的去头屑功效和调理性能的组合作用。本专利技术的另一个目的是提供一种清洁和调理的方法。这些和其它的目的通过下文的详述而容易明白。专利技术概述本专利技术涉及提供卓越的去头屑功效和调理作用的组合的香波组合物。这些香波组合物包括(A)占组合物重量约5％至约50％的阴离子表面活性剂；(B)占组合物重量约0.01％至约10％的非挥发性调理剂；(C)占组合物重量约0.1％至约4％的去头屑颗粒；(D)占组合物重量约0.02％至约5％的阳离子瓜尔衍生物；以及(E)水。阳离子瓜尔衍生物的分子量为约50,000至约700,000，电荷密度为约0.05meq/g至约1.0meq/g；本专利技术还涉及提供去头屑功效和调理头发作用的方法，包括在头发和头皮上施用一定量的上述有效提供所述功效的组合物。专利技术详述本专利技术的香波组合物提供了去头屑功效和调理性能的卓越组合。这样的去头屑和调理香波组合物能够包括基本组份、本专利技术中限定的内容以及任何附加或任选的组分或限定特征，或者由它们组成或基本由它们组成。特别是，这些组合物包括阴离子表面活性剂、调理剂、去头屑颗粒、阳离子瓜尔和水。在稀释时，阴离子表面活性剂和阳离子瓜尔形成凝聚相，阳离子瓜尔的分子量和电荷密度将影响去头屑颗粒的生物利用度和覆盖度。这对于去头屑功效和调理作用是重要的。本专利技术香波组合物的组分，包括可任选加入的那些组分以及制备方法、使用方法在下文中进行了详细描述。I.组分本专利技术的去头屑和调理香波组合物包括阴离子表面活性剂、调理剂、去头屑颗粒、阳离子瓜尔衍生物和含水载体。这些组分中的每一种都在下文中进行了详细描述。A.阴离子表面活性剂本专利技术的去头屑和调理香波组合物包括占组合物重量约5％至约50％，优选约8％至约30％，更优选约10％至约25％，最优选约12％至约18％的适于应用到头发或皮肤上的阴离子去污表面活性剂组分。相信该阴离子去污表面活性剂给组合物带来了清洁和起泡性能。此外，该阴离子去污表面活性剂在用水稀释时与本专利技术的阳离子聚合物组分(下文所述)形成了凝聚相。据信该凝聚相对提供本专利技术所述的功效和调理作用具有重要作用。阴离子去污表面活性剂组分能够包括阴离子去污表面活性剂、具有在组合物的pH值时为阴离子性的连接部分的两性离子或两性去污表面活性剂，或者它们的组合；优选阴离子去污表面活性剂。这些表面活性剂应与下文描述的基本成分在物理和化学性质上相容，并且应不过度损害产品的稳定性、美观或性能。适用于本文所述香波组合物中的阴离子去污表面活性剂的实例包括但不限于硫酸盐、磺酸盐、肌氨酸盐和肌氨酸衍生物。1.硫酸盐优选用于本专利技术的去头屑和调理香波组合物中的阴离子去污表面活性剂为烷基和烷基醚硫酸盐。这些表面活性剂的通式分别为ROSO3M和R(C2H4O)xOSO3M，其中R为具有约8至18个碳原子的烷基或链烯基，x为1至10的整数，M为选自以下的阳离子带正电的共价键合的部分(例如铵)、链烷醇胺(例如三乙醇胺)、一价金属(例如钠或钾)、多价金属阳离子(例如镁和钙)以及它们的混合物。应选择阳离子M使得阴离子去污表面活性剂成分为水溶性的。表面活性剂的溶解度取决于具体的阴离子去污表面活性剂和所选择的阳离子。在烷基和烷基醚硫酸盐中，优选R具有约8至约18个碳原子，更优选含有约10至约16个碳原子，最优选约12至约14个碳原子。烷基醚硫酸盐通常是由环氧乙烷和具有约8至约24个碳原子的一元醇的缩合产物而制备的。醇可是合成的或者它们可由脂肪衍生得到，脂肪例如为椰子油、棕榈仁油和牛脂。优选由椰子油或棕榈仁油衍生得到的月桂醇和直链醇。这些醇与0至约10，优选约2至约5，更优选约3摩尔的环氧乙烷反应。所得到的各种分子的混合物中例如具有平均3摩尔的氧化乙烯/1摩尔醇，再将这种混合物硫酸化并中和。可用于本专利技术香波组合物中的烷基醚硫酸盐的非限定性实例包括椰油烷基三甘醇醚硫酸的钠和铵盐、牛油烷基三甘醇醚硫酸的钠和铵盐、牛油烷基六氧乙烯硫酸的钠和铵盐。优选的烷基醚硫酸盐为包括单一化合物的混合物的那些，其中混合物中的化合物的平均烷基链长为约10至约16个碳原子，并且平均乙氧基化度为约1至约4摩尔氧化乙烯。优选的烷基硫酸盐的具体实例包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种香波组合物，特征在于其包含： ａ）占组合物重量５％至５０％的阴离子表面活性剂； ｂ）占组合物重量０．０１％至１０％的非挥发性调理剂； ｃ）占组合物重量０．１％至４％的去头屑颗粒； ｄ）占组合物重量０．０２％至５％的阳离子瓜尔衍生物； （ｉ）其中所述阳离子瓜尔衍生物的分子量为５０，０００至７００，０００；并且 （ｉｉ）其中所述阳离子瓜尔衍生物的电荷密度为０．０５ｍｅｑ／ｇ至１．０ｍｅｑ／ｇ；以及 （ｅ）水。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴维S邓洛普，维森特E利巴，
申请(专利权)人：宝洁公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]