一种深地坑施工方法及地坑结构技术

本发明专利技术公开了一种深地坑施工方法及地坑结构。该方法是在地坑的底部设置底梁，在底梁的两端浇铸与底梁连接为一体的扶壁柱；然后再在底梁上部和扶壁柱内侧浇铸底板和壁板。本发明专利技术的结构包括垫层（６），垫层（６）上设有底梁，底梁上对称设有扶壁柱（３）；在底梁上方设有底板（２），在扶壁柱（３）内侧设有壁板（１）。采用本发明专利技术，其底板和壁板都不用做的像现有技术要求的那么厚了，可节约用料。由于扶壁柱与底梁的两端是一次浇铸成一体的，因此扶壁柱的基础不用做的很大就有足够的抗挤压能力。本发明专利技术还具有设计计算简单，施工方便，工期短，并且抗侧土压力大的特点。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种深地坑施工方法，其特征在于：该方法是在地坑的底部设置底梁，在底梁的两端浇铸与底梁连接为一体的扶壁柱；然后再在底梁上部和扶壁柱内侧浇铸底板和壁板。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：翁周，杨华，
申请(专利权)人：贵阳铝镁设计研究院，
类型：发明
国别省市：52[中国|贵州]