适应不同流量的溅盘式再分布器制造技术

技术编号:5948175 阅读:224 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及一种用于填料塔的液体再分布装置,特别是一种可适应不同流量的溅盘式再分布器。该装置包括气体上升管、上升管盖板、导流槽、分布溅盘,该装置设有低液位导流槽和高液位导流槽,低液位导流槽的开口位置低于高液位导流槽的开口位置。本实用新型专利技术的优点是:结构合理,气、液分布效果好,可适应不同流量。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种用于填料塔的液体再分布装置,特别是一种可适应 不同流量的溅盘式再分布器。
技术介绍
现有的溅盘式再分布器的结构是由气体上升管、上升管盖板、导流槽、 分布溅盘构成,由于导流槽设置于一个液位上,可适应的流量适用范围较窄。 现有的一些工艺流程中,根据生产检修环境的不同,需要使用设备有多种组 合,互为备用,这就要求同一个填料塔,在同一个填料层的流量要有较大变 化。因此,需要开发出一种适应不同流量的溅盘式再分布器
技术实现思路
本技术的目的是提供一种适应不同流量的溅盘式再分布器,该装置 结构合理,气、液分布效果好。本技术通过以下技术方案实现适应不同流量的溅盘式再分布器,该装置包括气体上升管、上升管盖板、 导流槽、分布溅盘,其特征在于,该装置设有低液位导流槽和高液位导流槽, 低液位导流槽的开口位置低于高液位导流槽的开口位置。本技术的优点是结构合理,气、液分布效果好,可适应不同流量。3附图说明图1是本技术装置的结构示意图。具体实施方式见图l,适应不同流量的溅盘式再分布器,该装置包括气体上升管l、上升管盖板3、低液位导流槽2、高液位导流槽4、分布溅盘5,本装置的特征 在于,设有低液位导流槽2和高液位导流槽4,低液位导流槽2的开口位置低 于高液位导流槽4的开口位置。液体流量小时,分布溅盘5上的液位低,只经由低液位导流槽2流到分 布溅盘5上;液体流量大时,分布溅盘5上液位升高,低液位导流槽2的流 量加大,液位继续升高,当超过高液位导流槽4的槽口时,高、低液位导流 槽同时使用。通过改变高、低导流槽的数量比、槽宽和开口大小,可适用不同高、低 流量比。权利要求1、适应不同流量的溅盘式再分布器,该装置包括气体上升管、上升管盖板、导流槽、分布溅盘,其特征在于,该装置设有低液位导流槽和高液位导流槽,低液位导流槽的开口位置低于高液位导流槽的开口位置。专利摘要本技术涉及一种用于填料塔的液体再分布装置,特别是一种可适应不同流量的溅盘式再分布器。该装置包括气体上升管、上升管盖板、导流槽、分布溅盘,该装置设有低液位导流槽和高液位导流槽,低液位导流槽的开口位置低于高液位导流槽的开口位置。本技术的优点是结构合理,气、液分布效果好,可适应不同流量。文档编号B01D3/14GK201316542SQ20082022010公开日2009年9月30日 申请日期2008年12月2日 优先权日2008年12月2日专利技术者成 吕, 孟凡盛, 张美文, 马增礼 申请人:中冶焦耐工程技术有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
适应不同流量的溅盘式再分布器,该装置包括气体上升管、上升管盖板、导流槽、分布溅盘,其特征在于,该装置设有低液位导流槽和高液位导流槽,低液位导流槽的开口位置低于高液位导流槽的开口位置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吕成马增礼孟凡盛张美文
申请(专利权)人:中冶焦耐工程技术有限公司
类型:实用新型
国别省市:21[中国|辽宁]

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