足弓矫正器鞋组及该鞋组内部足底压力平衡的微调方法技术

本发明专利技术是有关于一种足弓矫正器鞋组及该鞋组内部足底压力平衡的微调方法，一种足弓矫正器鞋组及该鞋组内部足底压力平衡的微调方法，该足弓矫正器鞋组的一鞋底装置包括一足弓矫正器，该微调方法包含下列步骤：初拓脚图：印制具有使用人员一对足印的初始脚图。初步分析：根据一个分析模式，分析初始脚图上足印的初始信息，并依据此初始信息建立出一份足底须调整压力部位的初调数据。初调配置：依此初调数据对应在一双足弓矫正器鞋组的鞋底装置分别安装一垫片装置。本发明专利技术是依据使用人员足印状况，在鞋底装置对应安装垫片装置，踏置时就能依人体力学及工学，使足底压力由不平衡趋向于平衡。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
人类的足部包含沈块骨骼，是由复杂且致密的韧带和筋膜包围连结，整个足部就 像拱形或弓形结构，具有良好的弹性，能承受来自身体重量的压力，以供我们走路、跑步和 跳跃。然而由于先天或后天的影响，有些足部的足弓不完整，不但会让足底的压力分布失 调，还会影响到步态，身体的重心也会转换到不正确的位置，于是足底、膝盖、骨盆、脊椎的 受压失衡，长久以后即会发生一些病症。例如「扁平足」的足弓塌陷，力量偏内侧，走路呈内 八字，且胫骨内转、骨盆内旋，形成X型腿，容易造成膝盖外侧磨损，而「高弓足」的足弓过 高，力量偏外侧，走路呈外八字，且胫骨外转、骨盆外旋，形成0型腿，容易造成膝盖内侧磨 损。为此目前市面上已出现有一种用来矫正足底脚型的足弓矫正器，可借以改善足部 的力学机制，导正扁平足和高弓足不正常的内、外旋动作，用以矫正脚型使之趋向正常的生 理角度。然而，由于足部是由许多的骨头以及关节组成，随着年龄的增长，肌肉、韧带和关节 都会发生松弛或病变，而且在人体的重量压迫下就会出现很多问题，更何况以前已经形成 磨损或偏转的部位，此时只借由提供正常脚型的规格式足弓矫正器来矫正，已不足以让身 体脊骨完全回复平衡。足弓矫正器虽已提供标准应矫正至正常位置的规格，但是每个人脚 底情况不同，过去旧习惯所导致的状态可能被使用人员习以为常，使用足弓矫正器一段时 间后，反而会产生新的不平衡及新的不舒服点。由此可见，上述现有的用来矫正足底脚型的足弓矫正器在使用上，显然仍存在有 不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来 谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品及方法又没有适 切的结构及方法能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设 一种新的，实属当前重要研发课题 之一，亦成为当前业界极需改进的目标。有鉴于上述现有的用来矫正足底脚型的足弓矫正器存在的缺陷，本专利技术人基于从 事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究 创新，以期创设一种新的，能够改 进一般现有的用来矫正足底脚型的足弓矫正器，使其更具有实用性。经过不断的研究、设 计，并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于，克服现有的用来矫正足底脚型的足弓矫正器存在的缺 陷，而提供一种新的，所要解决的 技术问题是使其可微调使得足底压力由不平衡趋向于平衡，非常适于实用。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本专利技术提 出的一种足弓矫正器鞋组，用于供人体的一个足部穿着，并包含一个鞋底装置，该鞋底装 置形成有一个对应所述足部的一个脚跟的鞋跟区，该鞋底装置包括一个中底片，及一个可 拆离地安装在该中底片上方以供所述足部踏置的足弓矫正器；其中该足弓矫正器鞋组还包 含一个垫片装置，该垫片装置包括一个可拆离地安装在该鞋底装置内的偏置垫片单元，该 偏置垫片单元是对应位于该鞋底装置涵盖有鞋跟区的一个后半段区域，且位于该后半段区 域的一个右半部位与一个左半部位的其中一个部位上。本专利技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。前述的足弓矫正器鞋组，其中所述的鞋底装置还包括一个对应迭置在该中底片上 方且位于该足弓矫正器下方的内衬片，该偏置垫片单元是安装在该中底片与内衬片间。前述的足弓矫正器鞋组，其中所述的鞋底装置还包括一个对应迭置在该中底片上 方且位于该足弓矫正器下方的内衬片，该偏置垫片单元是安装在该中底片与内衬片间，以 及该内衬片与足弓矫正器间。前述的足弓矫正器鞋组，其中所述的偏置垫片单元具有至少一片呈扇形的侧顶垫 片，该侧顶垫片是可拆离地安装在该鞋底装置的后半段区域的右半部位与左半部位的其中 一个部位上，且位于该鞋跟区前方，该侧顶垫片的边缘对齐该鞋底装置的边缘，该侧顶垫片 的直径为15mm至45mm。前述的足弓矫正器鞋组，其中所述的偏置垫片单元具有至少一片呈圆形的微调垫 片，该微调垫片是可拆离地安装在该鞋底装置的后半段区域的右半部位与左半部位的其中 一个部位上，且位于该鞋跟区前方，该微调垫片局部凸露出该鞋底装置的边缘外，该微调垫 片的直径为15mm至45mm。前述的足弓矫正器鞋组，其中所述的偏置垫片单元具有至少一片圆形的前调垫 片，该前调垫片是可拆离地安装在该鞋底装置的后半段区域的右半部位与左半部位的其中 一个部位上，且位于该鞋跟区的侧边上，该前调垫片局部凸露出该鞋底装置的边缘外，该微 调垫片的直径为15mm至45mm。前述的足弓矫正器鞋组，其中所述的偏置垫片单元具有至少一片圆形的顶舟状骨 垫片，该顶舟状骨垫片是可拆离地安装在该鞋底装置的后半段区域的右半部位与左半部位 的其中一个部位上，且位于该足弓矫正器底部，该顶舟状骨垫片局部凸露出该鞋底装置的 边缘外，该顶舟状骨垫片的直径为15mm至45mm。本专利技术的目的及解决其技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本专利技术提出的 一种穿着足弓矫正器鞋组时的鞋内部足底压力平衡的微调方法，所述足弓矫正器鞋组的一 个鞋底装置包括一个足弓矫正器，其中该微调方法包含下列步骤初拓脚图印制具有使 用人员一对足印的初始脚图；初步分析根据一个分析模式。分析出初始脚图上足印的形 状及墨色浓淡的初始信息，并依据此初始信息由一个校正数据库中挑选出相对应的微调模 式，以建立出一份使用人员足底须调整压力部位的初调数据；及初调配置依据此初调数 据对应在一双足弓矫正器鞋组的鞋底装置分别安装一个垫片装置，使各足弓矫正器鞋组配 置成为一个初调足弓矫正器鞋组，使用人员穿着初调足弓矫正器鞋组能托高足底的局部区 域，令使用人员足底的压力趋向平衡。本专利技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。前述的一种穿着足弓矫正器鞋组时的鞋内部足底压力平衡的微调方法，其中该微 调方法还包含下列步骤再拓脚图当使用人员穿着初调足弓矫正器鞋组一段时间以后， 再印制具有使用人员一对足印的改善后脚图；再调分析根据该分析模式，分析出改善后 脚图上足印的形状及墨色浓淡的调后信息，将此调后信息与该初始信息比对，并由校正数 据库中挑选出相对应的微调模式，以建立出一份使用人员足底须微调压力部位的再调资 料；及微调配置取出初调足弓矫正器鞋组内的垫片装置，并依据再调数据对应在鞋底装 置分别设置另一个垫片装置，使各足弓矫正器鞋组配置成为一个调后足弓矫正器鞋组，使 用人员穿着调后足弓矫正器鞋组，借以微调使用人员足底的局部区域的高度，令使用人员 足底的压力再度更趋向平衡完美。前述的一种穿着足弓矫正器鞋组时的鞋内部足底压力平衡的微调方法，其中该微 调方法还包含下列步骤再拓脚图当使用人员穿着初调足弓矫正器鞋组一段时间以后， 再印制具有使用人员一对足印的改善后脚图；再调分析根据该分析模式，分析出改善后 脚图上足印的形状及墨色浓淡的调后信息，将此调后信息与该初始信息比对，并由校正数 据库中挑选出相对应的微调模式，以建立出一份使用人员足底须微调压力部位的再调资 料；及微调配置取出初调足弓矫正器鞋组内的垫片装置，使各足弓矫正器鞋组成为一个 调后足弓矫正器鞋组，使用人员穿着调后足弓矫正器鞋组，可使足底的压力再度更趋向平 衡完美。前述的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种足弓矫正器鞋组，用于供人体的一个足部穿着，并包含：一个鞋底装置，该鞋底装置形成有一个对应所述足部的一个脚跟的鞋跟区，该鞋底装置包括一个中底片，及一个可拆离地安装在该中底片上方以供所述足部踏置的足弓矫正器；其特征在于：该足弓矫正器鞋组还包含：一个垫片装置，该垫片装置包括一个可拆离地安装在该鞋底装置内的偏置垫片单元，该偏置垫片单元是对应位于该鞋底装置涵盖有鞋跟区的一个后半段区域，且位于该后半段区域的一个右半部位与一个左半部位的其中一个部位上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：谢进兴，苏建德，谢宗宪，谢东辰，
申请(专利权)人：俊达生技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[]