高绝缘小型真空灭弧室制造技术

本实用新型专利技术公开了一种高绝缘小型真空灭弧室，灭弧室外壳两端分别相对设置有静导电杆与动导电杆，静导电杆与动导电杆的内端分别设置有触头，两个触头的侧面设置有内卷曲的屏蔽罩，且屏蔽罩与触头的接触面为凹面；两个触头的背面设置有屏蔽筒，屏蔽筒的两端向内卷曲，静导电杆的背面设置有均压罩，均压罩的末端向内卷曲。本实用新型专利技术的高绝缘小型真空灭弧室，屏蔽罩能对触头的电场改善起到至关重要的作用。屏蔽罩将触头的侧面和底面包在屏蔽罩内，大大降低了触头边缘的电场强度，从而使得灭弧室内最强点的电场强度明显降低，灭弧室绝缘水平明显提高，同时避免了部件之间大范围的损坏。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于真空开关
，涉及一种高绝缘小型真空灭弧室。
技术介绍
激烈的市场竞争要求真空开关向高性能、小型化、低成本的方向发展，作为真空开 关的核心器件真空灭弧室也必然面临小型化的压力，现有小型灭弧室由于结构的限制，内 部电场分布不合理，所以绝缘性能不高。如何突破灭弧室内部绝缘设计惯例，进一步提高内 部电场分布的合理性，进而提高绝缘性能是厂家争相研究的课题。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种高绝缘小型真空灭弧室，降低了灭弧室内电场强 度，绝缘性能好。本技术采用的技术方案是，一种高绝缘小型真空灭弧室，灭弧室外壳两端分 别相对设置有静导电杆与动导电杆，静导电杆与动导电杆的内端分别设置有触头，两个触 头的背面分别设置有内卷曲的屏蔽罩，且屏蔽罩与触头的接触面为凹面；两个触头的侧面 设置有屏蔽筒，屏蔽筒的两端向内卷曲，静导电杆的背面设置有均压罩，均压罩的末端向内 卷曲。本技术的特征还在于，屏蔽筒与屏蔽罩之间最接近的面为圆弧面。均压罩与屏蔽筒之间最接近的面为圆弧面。本技术的高绝缘小型真空灭弧室，屏蔽罩能对触头的电场改善起到至关重要 的作用。屏蔽罩将触头的侧面和底面包在屏蔽罩内，大大降低了触头边缘的电场强度，从而 使得灭弧室内最强点的电场强度明显降低，灭弧室绝缘水平明显提高。由于均压罩与屏蔽 筒之间的最近距离为均压罩圆弧上的点与屏蔽筒圆弧上的点之间的距离，屏蔽筒与屏蔽罩 之间的最近距离也为屏蔽筒圆弧上的点与屏蔽罩圆弧上的点之间的距离，所以相互发生电 场击穿现象时受损面积很小，避免了部件大范围的损坏。附图说明图1为本技术高绝缘小型真空灭弧室的结构示意图。图中，1.均压罩，2.静导电杆，3.屏蔽筒，4.触头，5.屏蔽罩，6.动导电杆，7.灭弧室外壳。具体实施方式以下结合附图和具体实施方式对本技术进行详细说明。本技术高绝缘小型真空灭弧室的结构，如图1所示，在灭弧室外壳7两端分别 相对设置有静导电杆2与动导电杆6，静导电杆2与动导电杆6的内端分别设置有触头4， 两个触头4的背面设置有内卷曲的屏蔽罩5，且屏蔽罩5与触头4的接触面为凹面；在灭弧3室外壳7静端内、静导电杆2的背面设置有均压罩1，均压罩1的末端向内卷曲，在灭弧室 外壳7内、两个触头4的侧面设置有屏蔽筒3，屏蔽筒3的两端向内卷曲。本技术中，屏蔽筒3与屏蔽罩5之间最接近的面为圆弧面，均压罩1与屏蔽筒 3之间最接近的面为圆弧面。本技术的高绝缘小型真空灭弧室，屏蔽罩5能对触头4的电场改善起到至关 重要的作用。在灭弧室内，触头4侧面的电场强度最强，屏蔽罩5将触头4的侧面和底面包 在屏蔽罩5内，所以大大降低了触头4边缘的电场强度，从而使得灭弧室内最强点的电场强 度明显降低，灭弧室绝缘水平明显提高。由于均压罩1与屏蔽筒3之间的最近距离为均压 罩1圆弧上的点与屏蔽筒3圆弧上的点之间的距离，所以均压罩1与屏蔽筒3之间电场强 度最强的位置在均压罩1与屏蔽筒3最近距离的两个点处，所以均压罩1与屏蔽筒3之间 发生电场击穿现象时面积很小，避免了部件大范围的损坏。同样，屏蔽筒3与屏蔽罩5之间 的最近距离也为屏蔽筒3圆弧上的点与屏蔽罩5圆弧上的点之间的距离，避免了部件大范 围的损坏。本技术高绝缘小型真空灭弧室，通过降低了触头的电场强度，合理的设置各 部件之间的最短距离，达到电场优化的目的。权利要求1.一种高绝缘小型真空灭弧室，其特征在于，灭弧室外壳(7)两端分别相对设置有静 导电杆(2)与动导电杆(6)，所述静导电杆(2)与动导电杆(6)的内端分别设置有触头(4)， 两个触头(4)的侧面分别设置有内卷曲的屏蔽罩(5)，且屏蔽罩(5)与触头(4)的接触面为 凹面；所述两个触头(4)的背面设置有屏蔽筒(3)，屏蔽筒(3)的两端向内卷曲，所述静导电 杆(2)的背面设置有均压罩(1)，均压罩(1)的末端向内卷曲。2.根据权利要求1所述的高绝缘小型真空灭弧室，其特征在于，所述屏蔽筒(3)与屏蔽 罩(5)之间最接近的面为圆弧面。3.根据权利要求1所述的高绝缘小型真空灭弧室，其特征在于，所述均压罩(1)与屏蔽 筒(3)之间最接近的面为圆弧面。专利摘要本技术公开了一种高绝缘小型真空灭弧室，灭弧室外壳两端分别相对设置有静导电杆与动导电杆，静导电杆与动导电杆的内端分别设置有触头，两个触头的侧面设置有内卷曲的屏蔽罩，且屏蔽罩与触头的接触面为凹面；两个触头的背面设置有屏蔽筒，屏蔽筒的两端向内卷曲，静导电杆的背面设置有均压罩，均压罩的末端向内卷曲。本技术的高绝缘小型真空灭弧室，屏蔽罩能对触头的电场改善起到至关重要的作用。屏蔽罩将触头的侧面和底面包在屏蔽罩内，大大降低了触头边缘的电场强度，从而使得灭弧室内最强点的电场强度明显降低，灭弧室绝缘水平明显提高，同时避免了部件之间大范围的损坏。文档编号H01H33/664GK201877353SQ20102065299公开日2011年6月22日 申请日期2010年12月10日 优先权日2010年12月10日专利技术者张亚丽 申请人:陕西宝光真空电器股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种高绝缘小型真空灭弧室，其特征在于，灭弧室外壳（７）两端分别相对设置有静导电杆（２）与动导电杆（６），所述静导电杆（２）与动导电杆（６）的内端分别设置有触头（４），两个触头（４）的侧面分别设置有内卷曲的屏蔽罩（５），且屏蔽罩（５）与触头（４）的接触面为凹面；所述两个触头（４）的背面设置有屏蔽筒（３），屏蔽筒（３）的两端向内卷曲，所述静导电杆（２）的背面设置有均压罩（１），均压罩（１）的末端向内卷曲。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张亚丽，
申请(专利权)人：陕西宝光真空电器股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：61[中国|陕西]