线栅波导制造技术

提供了一种波导，其包括：波引导介质，具有一定折射率并且在第一和第二波传播平面结构之间被提供，至少所述第一平面结构包括多个有切口的孔径，其限定了所述第一反射结构的长度轴；这些有切口的孔径被构造和设置成反射取向平行于所述长度轴的所述辐射的Ｒ偏振分量；并且其中所述第一平面结构设置在所述波引导介质与具有等于或大于波引导介质的折射率的相邻介质之间。在本发明专利技术的一个方面中，提出了限制激发区域的波导，其中激发发光体；基本上与波导的周围介质无关。优选地，该波导用在发光传感器中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在波？I导介质中传播偏振辐射波的方法的领域。
技术介绍
波导用于各种各样的目的。基本上，波导限制辐射基本上由波导引导地行进，从而在存在辐射的位置获得有界区域。在"Fabrication of a new broadband waveguide polarizer with a double-layer 190 nm pe國riod metal-gratings using nanoimprint lithography"; Jian Wang; Schablitsky S; Zhaon-ing Yu; Yu Wei; Chou S Y, Journal of Vacuum Science & Technology B (Microelec画tronics and Nanometer Structures), VOL 17, NR 6, PG 2957- 2960, ISSN 0734-21IX中，提出了一种波导配置，其用于具 有波导核心以及上、下包覆层的波导。线栅附接到核心。包覆层由折射 率小于波导核心的介质构成，从而允许实现通过全内反射的常规的辐射 传播模本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种波导（１），包括：　波引导介质（１２），其限定要在所述波引导介质中引导的波的衍射极限，具有一定折射率并且在第一和第二波反射平面结构之间被提供，其中　至少所述第一平面结构（１４，１５）形成多个孔径，所述孔径具有小于衍射极限的最 小平面内孔径尺寸；并且其中　所述第一平面结构（１４）设置在所述波引导介质（１２）与具有等于或大于波引导介质的折射率的相邻介质（１２）之间。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：DJW克伦德，MMJW范赫彭，MA弗舒伦，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]