光校准组合物制造技术

本发明专利技术涉及光校准组合物，它包括ａ）０．００１－２０％重量，优选１－１０％重量，更优选１－９％重量至少一种含光校准基的光反应性化合物（Ｉ）和ｂ）８０－９９．９９９％重量，优选９０－９９％重量，更优选９１－９９％重量至少一种不含光校准基的化合物（ＩＩ），和ｃ）任选地至少一种反应性或非反应性添加剂，和ｄ）任选地至少一种溶剂。此外，本发明专利技术涉及这一光校准组合物在光电和光学元件、系统和器件中用于校准液晶或液晶聚合物的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光校准组合物本专利技术涉及特别地校准液晶或液晶聚合物的光校准(photoalignment)组合物， 它包括a)0. 001-20 %重量，优选0. 05-10 %重量，更优选0. 1_9 %重量，特别是更优选 0. 1_5%，更特别地更优选0. 1-2%重量含光校准基的至少一种光反应性化合物(I)和b) 80-99. 999 %重量，优选90_99 %重量，更优选91_99 %重量不含光校准基的至 少一种化合物(II)，和c)任选地至少一种反应性或非反应性添加剂，和d)任选地至少一种溶剂。此外，本专利技术涉及在光电和光学元件、体系和器件中，这一光校准组合物用于校准 液晶或液晶聚合物的用途。液晶器件越来越多地用于许多不同应用中。实例是光学膜，尤其偏振膜和延迟膜， 以及防止伪造、假冒和复制的安全器件，和液晶显示器(LCD)。液晶显示器(LCD)在高级视觉器件中愈加占主导。LCD在图象质量(高光度 (luminance)、高分辨率、颜色和灰度能力)、功耗以及尺寸和重量方面提供有利的特征(平 板显示器)。例如在机动车和通信仪器中，以及在钞票的检测器、台式计算机、电视机等中， 广泛地使用商业IXD。当今对在电视应用中IXD的需求快速增长。最近开发的IXD模式 在实现快速的响应时间、宽的视角和高的光度方面具有高的潜力。尤其在其他最新开发的 LCD模式中，MVA(多畴垂直校准)模式是在现代电视应用中最有前景的。在MVA模式中，液 晶分子通常几乎相对于基底表面垂直校准。通过在基底表面上使用隆起物(protrusions) (或其他校准细分(subdivision))，液晶分子在单一单元内在大于一个以上方向上成为局 部预倾斜，从而导致在不同方向上可转换的畴域。这一多畴结构显示出非常好的显示性能， 且在任何方向上具有最多160°的宽视角，短的响应时间(低于20ms)，高的对比度(最多 700 1)和高的亮度。然而，通过使用仅仅隆起物，难以清楚地确定在单一像素内的畴空 间。因此，MVA模式需要额外的制备步骤，确保在上部和下部基底上的形状效应以及电场效 应，从而总是导致复杂的制备工序。为了回避这一技术挑战，获得校准层是期望的，这将直 接导致在每一像素畴域内预定的校准方向，且相对于基底的垂直轴具有很好地可控的离轴成功地发挥并行使液晶器件或光学膜的功能依赖于在该器件或膜内液晶分子接 受在其上强加的校准的能力。通过使用校准层，实现校准液晶分子，所述校准层确定液晶分 子的取向方向，其结果是分子的纵轴与通过校准层确定的取向方向一起校准。除了这一方 向校准以外，对于一些应用来说，校准层还应当能赋予液晶分子倾斜角，以便分子本身以在 校准层表面以外的角度校准。制备校准层的一种公知方法是擦拭处理，其中在单一方向上用布料擦拭高分子树 脂膜，例如聚酰亚胺。与擦拭表面相邻的液晶分子在擦拭方向上校准。然而，通过擦拭形成 的校准膜具有一些缺点，例如在擦拭工艺过程中出现的灰尘产生和碎屑。另外，擦拭方法对 于生产结构层，即具有不同校准方向的小区域的层来说是不充分的。3可使用除了擦拭以外的液晶校准控制方法，例如倾斜沉积、照相平版印刷、 Langmuir Blodgett膜、离子辐射、高速流体喷射和其他方法，解决这些问题。然而，大多数 这些方法对于加工大面积基底来说是不实际的。为校准液晶而开发的其他方法是通过光取向方法制备的校准层(通常使用线性 偏振光)，和特别合适的是线性光聚合(LPP)校准层，也称为光取向聚合物网络(PPN)。 这些方法例如公开于 US-5389698、US-5838407、US-5602661、US-6160597、US-6369869、 US-6717644、US-6215539、US-6300991和US-6608661中。这些方法允许生成液晶的均勻校 准。在LPP方法(它是一种非接触技术)中，可通过在大面积基底上用偏振光辐照光敏膜， 高度再现地获得与通过擦拭获得的那些类似的校准膜。另外，可通过控制线性偏振光的辐 照方向，在光反应性层内改变取向方向和方位与极性倾斜角。通过选择辐照光反应性材料 的规定区域，可校准层中非常特定的区域，并进而提供具有不同取向方向的校准区域，所述 校准区域将产生结构校准层，正例如Jpn. J. Appl. Phys.，31 (1992)，2155-64 (Schadt等人) 中所述。前些年，使用线性可光聚合的校准(LPP)技术，证明了实现四畴垂直校准向列型 (VAN) LCD 的可能性(K. Schmitt,M. Schadt ；Proceedings of EuroDisplay 99，1999 年 9 月 6-9日)。四畴VAN-IXD显示出优良的断开状态(off-state)的角亮度性能。因此，本专利技术的目的是提供进一步的光校准材料。因此，本专利技术涉及光校准组合物，它包括a) 0.001-20%重量，优选重量，更优选1_9 %重量含光校准基的至少一种 光反应性化合物(I)和b) 80-99. 999 %重量，优选90-99 %重量，更优选91-99 %重量不含光校准基的至 少一种化合物(II)，和c)任选地至少一种反应性或非反应性添加剂，和d)任选地至少一种溶剂。在本专利技术的上下文中，化合物(II)优选是单体、低聚物、枝状体、聚合物、共聚物 或预聚物，更优选聚合物或共聚物。优选地，化合物(II)是聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚酰 胺、聚乙烯、聚环氧乙烷、聚丙烯、聚氯乙烯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚 乙酸、聚氨酯、聚酯、聚醚、聚硅，更优选聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚酰亚胺、聚酰胺酸、 聚酰胺、聚缩醛、聚(酰胺_酰亚胺)、聚丙烯酸酯、聚(醚醚酮)、聚(醚-酰亚胺)、聚(苯 醚)、聚(苯硫醚)、聚砜，特别是聚酰胺酸和/或聚酰亚胺。更优选化合物(II)是聚(3，3' ,4,4' -二苯甲酮四羧酸二酐-共_4，4'-氧基二苯胺 酰胺酸聚(3，3' ,4,4' -二苯甲酮四羧酸二酐-共_4，4'-氧基二苯胺 酰胺酸聚(均苯四酸二酐-共_4，4'-氧基二苯胺)，酰胺酸聚(3，3' ,4,4' -二苯甲酮四羧酸二酐-共_4，4'-氧基二苯胺 酰胺酸聚(3，3' ,4,4' -二苯甲酮四羧酸二酐-共_4，4'-氧基二苯胺\1/ \1/ \1/ \1/安 安 安 安二 二 二 二苯 苯 苯 苯 - _ - _3 3 3 311 11/ / / /4酰胺酸聚(均苯四酸二酐-共_4，4'-氧基二苯胺)，酰胺酸；或以下给出的二胺和二酐的聚酰亚胺、聚酰胺或聚酰胺酸，例如芳族二胺，例如， 二氨基二苯基衍生物，例如4，4' -二氨基二苯醚，4，4-二氨基-2，2' -二氯二苯二硫醚， 4,4' -二氨基二苯砜，4，4' -二氨基二苯甲烷，4，4' -二氨基二苯胺硫酸盐，3，3' -二 氨基二苯甲烷，3，4' -二氨基二苯甲烷，3，3' -二氨基二苯砜，4，4' -二氨基二苯硫醚， 3,4' -二氨基二苯醚，3，3' - 二硝基_4，4' -二氨基二苯砜，3，3' ,4,4'-四氨基二 苯砜，3，3-二氨基二苯脲，4，4-二氨基二苯脲，4，4-二氨基二苯基-2-磺酸，4，4' -二氨 基-二亚本文档来自技高网...

【技术保护点】
光校准组合物，它包括：ａ）０．００１－２０％重量至少一种含光校准基的光反应性化合物（Ⅰ）和ｂ）８０－９９．９９９％重量至少一种不含光校准基的化合物（Ⅱ），和ｃ）任选地至少一种反应性或非反应性添加剂，和ｄ）任选地至少一种溶剂。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：I布里，FX德里贝雷，O米勒，J雷查德特，H赛博尔，P施图德，S帕里卡，
申请(专利权)人：罗利克有限公司，
类型：发明
国别省市：CH