用于喷墨印刷的墨水以及其中所使用的金属纳米粒子的制备方法技术

本发明专利技术公开了用于喷墨印刷的墨水，其包含：金属纳米粒子，该金属纳米粒子含有附着在其表面上的表面活性剂；和第一溶剂，其中，基于１００重量份的墨水，金属纳米粒子以５０～７０重量份的量存在，和基于１００重量份的金属纳米粒子，表面活性剂以０．５～５重量份的量存在。本发明专利技术也公开了在墨水中使用的金属纳米粒子及其制备方法。用于喷墨印刷墨水中的金属纳米粒子的制备方法包括用至少一种溶剂洗涤多余的表面活性剂的步骤。这样做，可使残留在金属纳米粒子表面的多余的表面活性剂最少，从而包含金属纳米粒子的墨水的粘度降低。因此，即使墨水中金属纳米粒子的含量为５０ｗｔ％或高于５０ｗｔ％，该墨水也能满足喷墨印刷所需的粘度条件，因此可形成具有高导电性的电极图形。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于喷墨印刷的墨水以及其中所使用的金属纳米粒子的制 备方法。更具体而言，本专利技术涉及用于喷墨印刷的墨水，通过用至少一种 溶剂洗去存在于金属纳米粒子表面上的多余的表面活性剂，而使金属纳米 粒子表面上残留的表面活性剂的量最少，从而该墨水包含最大量的金属纳 米粒子。
技术介绍
近来，各种类型的平板显示装置作为能够取代阴极射线管显示器的显示装置已经成为焦点，这种平板显示装置包括液晶显示(LCD)装置、场发射 显示(FED)装置、等离子体显示面板(PDP)装置和电致发光(EL)装置。在制备平板显示装置的常规方法中，图形化的步骤一般通过光刻法来 实施的。光刻法具有一系列照相处理步骤，其包括涂敷光刻胶、排列掩 膜、曝光、显影和去膜。这种光刻法的问题在于，它们需要较长的处理时 间、消耗光刻胶和用于除去光刻胶图形的去膜溶液，并且需要例如曝光系 统的昂贵的装置。特别地，当增加基板的尺寸而减小在基板上形成的图形 的尺寸时，需要更加昂贵的曝光装置。而且，在这种方法中难以控制节距 的精度(pitch precision)和电极宽度。同时，考虑到为了实现精细的线宽度、较低的材料损耗和简单的处理本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于喷墨印刷的墨水，其包含：　金属纳米粒子，该金属纳米粒子含有附着在其表面上的表面活性剂；和　第一溶剂，　其中，基于１００重量份的墨水，所述金属纳米粒子以５０～７０重量份的量存在，和基于１００重量份的金属纳米粒子，所述表面 活性剂以０．５～５重量份的量存在。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】KR 2006-9-29 10-2006-0096405;KR 2007-2-7 10-2007-01、用于喷墨印刷的墨水，其包含金属纳米粒子，该金属纳米粒子含有附着在其表面上的表面活性剂；和第一溶剂，其中，基于100重量份的墨水，所述金属纳米粒子以50～70重量份的量存在，和基于100重量份的金属纳米粒子，所述表面活性剂以0.5～5重量份的量存在。2、 根据权利要求1所述的墨水，其具有1 50cps的粘度。3、 根据权利要求1所述的墨水，其中，所述表面活性剂为用于制备金 属纳米粒子所使用的表面活性剂。4、 根据权利要求1所述的墨水，其中，所述表面活性剂的量可以采用 由TGA(热解重量分析法)所测定的从第一溶剂完全蒸发的温度至50(TC的 区域内的重量损失来表示。5、 根据权利要求4所述的墨水，其中，所述第一溶剂的完全蒸发的温 度范围为IO(TC 200°C。6、 根据权利要求1所述的墨水，基于100重量份的金属纳米粒子，所 述墨水包含0.5重量份或低于0.5重量份的没有附着在金属纳米粒子表面上 的多余的表面活性剂。7、 根据权利要求1所述的墨水，其中，所述金属纳米粒子为选自由 Ag、 Cu、 Au、 Cr、 Al、 W、 Zn、 Ni、 Fe、 Pt和Pb组成的组中的至少一种 粒子。8、 根据权利要求1所述的墨水，其中，所述表面活性剂为选自由聚乙 烯,烷酮(PVP)、聚1,2-亚乙基亚胺(PEI)、聚甲基乙烯基醚(PMVE)、聚 乙烯醇(PVA)、聚氧乙烯烷基苯基醚和聚亚乙基脱水山梨醇单硬酯酸酯组成 的组中的聚合物。9、 用于喷墨印刷的墨水，其通过包括如下步骤的方法得到除了附着 在金属纳米粒子表面上以使金属纳米粒子稳定的表面活性剂的量之外，用 至少一种第二溶剂洗涤多余的表面活性剂以除去该多余的表面活性剂。10、 一种在用于喷墨印刷的墨水中使用的金属纳米粒子的制备方法， 该方法包括如下步骤(a)加入表面活性剂以形成金属纳米粒子；和(b)除了附着在金属纳米粒子表面上以使金属纳米粒子稳定的表面活 性剂的量之外，用至...

【专利技术属性】
技术研发人员：李宗泽，许秀连，金珉锄，金贤湜，朴晶浩，金相澔，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]