【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于减反射的涂料组合物、使用该用于减反射的涂料组合物制备 的减反射膜以及制备该减反射膜的方法。更具体而言,本专利技术涉及一种用于减反射的涂 料组合物;使用所述用于减反射的涂料组合物制备的减反射膜;以及制备该减反射膜的方 法,其中,在所述用于减反射的涂料组合物中,在用一步涂覆法形成的单层涂层中发生组分 的相分离,从而形成多层结构以提供具有减反射特性的光学膜。本申请要求享有于2007年11月13日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第 10-2007-0115343号的优先权,其公开的内容在此全部引入作为参考。
技术介绍
在显示器的表面上进行表面处理的一个目的是通过提高显示器的耐磨性和减少 由外部光源发出光的反射而提高图像对比度。减少外部光的反射可以通过以下两种方法来 实现一种方法是通过使用表面上的凸凹形状而引起漫反射,另一种方法是通过使用多层 涂覆设计(multi-coating design)引起相消干涉。在相关领域已经广泛使用在表面上采用凸凹形状的防眩光涂层(anti-glare coating)。然而,存在的问题是,由于漫反射使高分辨率显示器中的分辨率劣化以及使图像 的清晰度劣化。为了解决上述的问题,日本专利申请公布第11-138712号已经披露了光扩 散膜,其中,光在使用折射率不同于粘合剂的有机填料制备的膜中被扩散。然而,因为其具 有亮度和对比度劣化的问题,该光扩散膜需要改进。在日本专利申请公布第02-234101号和第06-18704号中已经披露通过多层涂覆 设计引起反射光的相消干涉的方法。根据该方法,可以得到减反射特性而不使图像 ...
【技术保护点】
一种用于减反射的涂料组合物,其包含:a)折射率为1.2~1.45的低折射材料;b)折射率为1.55~2.2且包含高折射微细粒子和有机取代基的高折射材料,其中,两种材料之间的表面能差异为5mN/m以上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】KR 2007-11-13 10-2007-0115343一种用于减反射的涂料组合物,其包含a)折射率为1.2~1.45的低折射材料;b)折射率为1.55~2.2且包含高折射微细粒子和有机取代基的高折射材料,其中,两种材料之间的表面能差异为5mN/m以上。2.根据权利要求1所述的用于减反射的涂料组合物,其中,所述低折射材料的表面能 为25mN/m以下。3.根据权利要求1所述的用于减反射的涂料组合物,其中,所述低折射材料和高折射 材料均为热固性或UV固化材料。4.根据权利要求1所述的用于减反射的涂料组合物,其中,所述低折射材料为低折射 热固性材料并且包含选自弓丨起溶胶_凝胶反应的烷氧基硅烷反应物、氨基甲酸酯反应基化 合物、脲反应基化合物和酯化反应物中的一种或多种。5.根据权利要求4所述的用于减反射的涂料组合物,其中,所述低折射热固性材料包 含風。6.根据权利要求1所述的用于减反射的涂料组合物,其中,所述低折射材料为低折射 UV固化材料,并且包含丙烯酸酯树脂、光敏引发剂和溶剂。7.根据权利要求6所述的用于减反射的涂料组合物,其中,基于100重量份的所述丙烯 酸酯树脂,氟化的丙烯酸酯的含量为20重量份以上。8.根据权利要求1所述的用于减反射的涂料组合物,其中,在所述高折射材料中,所述 高折射微细粒子包括选自氧化锆(Zr02)、氧化钛(Ti02)、硫化锌(ZnS)、氧化锑(Sb203)、氧化 锌(Zn02)、铟锡氧化物(IT0)、锑锡氧化物(AT0)、钛-锑锡氧化物(Ti02,掺杂Sb的Sn02)、 氧化铈(CeO)、氧化硒(Se02)、氧化铝(A1203)、氧化钇(Y203)和锑-锌氧化物(AZ0)中的一 种或多种。9.根据权利要求1所述的用于减反射的涂料组合物,其中,在所述高折射材料中,所述 有机取代基为选自硅烷反应物、氨基甲酸酯反应物、脲反应物和酯化反应物中的热固性有 机取代基,或者为选自两个以上官能团的丙烯酸酯单体和低聚物中的UV固化有机取代基。10.根据权利要求1所述的用于减反射的涂料组合物,其中,基于100重量份的所述高 折射微细粒子,所述有机取代基的含量为0重量份 70重量份。11.根据权利要求1所述的用于减反射的涂料组合物,其中,所述低折射材料与高折射 材料的重量比为3/7 8/2。12.—种制备减反射膜的方法,该方法包括以下步骤i)制备根据权利要求1 11中任一项所述的用于减反射的涂料组合物,该涂料组合物 包含a)折射率为1. 2 1. 45的低折射材料,b)折射率为1. 55 2. 2且包含高折射微细 粒子和有机取代基的高折射材料,其中,两种材料之间的表面能差异为5mN/m以上;ii)在基板上涂覆所述涂料组合物以形成涂层;iii)干燥所述涂层以使低折射材料和高折射材料在该涂层的厚度方向上具有浓度梯 度;和iv)固化所述干燥的涂层。13.根据权利要求12所述的制备减反射膜的方法,其中,进行步骤ii)的涂覆步骤以使 干燥的涂层厚度为1微米以下。14.根据权利要求12所述的制备减反射膜的方法,其中,在5 150°C的温度下实施步骤iii)的干燥步骤0. 1...
【专利技术属性】
技术研发人员:张影来,尹汉植,金惠珉,金芙敬,
申请(专利权)人:LG化学株式会社,
类型:发明
国别省市:KR[韩国]
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