【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种离子浓度监控系统。
技术介绍
在进行真空溅镀时，镀膜腔内的混合气体被放电激发为不同的离子，所述离子与 被镀靶材相互反应以形成镀膜材料附着在被镀物件上。因此，镀膜腔内不同离子的浓度比 例将直接影响到所镀膜层的组分和镀膜的速率。所述混合气体被放电激发时会发出激发光 谱，在发电激发过程中产生的不同离子的浓度分别与所述激发光谱中对应波长的光谱强度 成正比。所以，通过检测混合气体被放电激发时所发出的激发光谱可得知镀膜腔内所述不 同离子的实际浓度比例，从而在镀膜过程中对不同离子的浓度进行监控。现有的真空镀膜设备通常是利用设置在镀膜腔内的光纤头将混合气体的激发光 谱传输到感测器上进行分析，以得到关于镀膜腔内不同离子的浓度信息。但是，在进行镀膜 时，所述镀膜腔内四处溅射的靶材物质往往会同时附着在光纤头上，从而导致光纤内的光 线传输不畅，甚至造成光纤头的损坏。
技术实现思路
鉴于此，有必要提供一种可避免溅射的靶材物质污染光纤的离子浓度监控系统。一种离子浓度监控系统，其包括镀膜腔、给所述镀膜腔提供混合气体的气体供应 装置、电离真空管、光纤及气体流量控制器。所述镀膜腔...
【技术保护点】
一种离子浓度监控系统，其包括镀膜腔及向所述镀膜腔提供混合气体的气体供应装置，所述镀膜腔内的混合气体被放电激发为不同的离子，其特征在于：所述离子浓度监控系统还包括电离真空管、光纤及气体流量控制器，所述电离真空管的一端与镀膜腔连通，所述电离真空管的另一端通过光纤与所述气体流量控制器相连，所述电离真空管激发混合气体产生发射光谱，该发射光谱通过光纤传输至所述气体流量控制器，所述气体流量控制器包括：预设模块，用于设定镀膜腔内不同离子的浓度比例值；光谱分析模块，用于分析混合气体的发射光谱以获取镀膜腔内不同离子的实际浓度比例值；比较控制模块，其与所述预设模块、光谱分析模块和气体供应装置相...
【技术特征摘要】
1.一种离子浓度监控系统，其包括镀膜腔及向所述镀膜腔提供混合气体的气体供应装 置，所述镀膜腔内的混合气体被放电激发为不同的离子，其特征在于所述离子浓度监控系 统还包括电离真空管、光纤及气体流量控制器，所述电离真空管的一端与镀膜腔连通，所述 电离真空管的另一端通过光纤与所述气体流量控制器相连，所述电离真空管激发混合气体 产生发射光谱，该发射光谱通过光纤传输至所述气体流量控制器，所述气体流量控制器包 括预设模块，用于设定镀膜腔内不同离子的浓度比例值；光谱分析模块，用于分析混合气体的发射光谱以获取镀膜腔内不同离子的实际浓度比 例值；比较控制模块，其与所述预设模块、光谱分析模块和气体供应装置相连，用于比较所设 定的离子浓度比例值与实际离子浓度比例值，并根据比较结果控制气体供应装置的供气流 量以将镀膜腔内的离子浓度比例维持为设定值。2.如权利要求1所述的离子浓度监控系统，其特征在于所述离子浓度监控系统包括 靶座、基座及靶材，所述镀膜腔包括一圆柱形侧壁，所述圆柱形侧壁于相同高度的位置处间 隔均勻地设置有多个所述靶座，所述基座设置在...
【专利技术属性】
技术研发人员：洪新钦，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[]
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